Density functional theory study on surface reaction mechanism of atomic layer deposition of ZrO2 on Si(100)-2 × 1

Acta Chimica Sinica

Volumn 64, Issue 11, 2006, Pages 1133-1139

  Ren, Jie ^a,b   Chen, Wei ^a   Lu, Hong Liang ^a   Xu, Min ^a   Zhang, Wei ^a  

^a FUDAN UNIVERSITY   (China)

^b HEBEI UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (China)

Author keywords

Atomic layer deposition; Density functional theory; High k gate dielectric; Zirconia

Indexed keywords

EID: 33750425175     PISSN: 05677351     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (33)

1. Muller, D. A.; Sorsch, T.; Moccio, S.; Baumann, F. H.; Evans-Lutterodt, K.; Timp, G. Nature 1999, 399, 758.
2. Packan, P. A. Science 1999, 285, 2079.
3. Gusev, E. P.; Cabral, C., Jr.; Copel, M.; D'Emic, C.; Gribelyuk, M. Microelectron. Eng. 2003, 69, 145.
4. Green, M. L.; Gusev, E. P.; Degraeve, R.; Garfunkel, E. L. J. Appl. Phys. 2001, 90, 2057.
5. Wilk, G. D.; Wallace, R. M.; Anthony, J. M. J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243.
6. Ngai, T.; Qi, W. J.; Sharma, R.; Fretwell, J. L.; Chen, X.; Lee, J. C.; Banerjee, S. K. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 3085.
7. Ngai, T.; Qi, W. J.; Sharma, R.; Fretwell, J. L.; Chen, X.; Lee, J. C.; Banerjee, S. K. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 502.
8. Copel, M.; Gribelyuk, M.; Gusev, E. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 436.
9. Wang, S. J.; Ong, C. K.; Xu, S. Y.; Chen, P.; Tiju, W. C.; Chai, J. W.; Huan, A. C. H.; Yoo, W. J.; Lim, J. S.; Feng, W.; Choi, W. K. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 1604.
10. Qi, W.-J.; Nieh, R.; Lee, B. H.; Kang, L.; Jeon, Y.; Lee, J. C. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 3269.
11. Lee, J. Y.; Lai, B. C. In Handbook of Thin Film Materials, Vol. 3, Ed.: Nalwa, H. S., Academic Press, San Diego, 2002, p. 53.
12. Kukli, K.; Ritala, M.; Aarik, J.; Uustare, T.; Leskelä, M. J. Appl. Phys. 2002, 92, 1833.
13. George, S. M.; Ott, A. W.; Klaus, J. W. J. Phys. Chem. 1996, 100, 13121.
14. Leskelä, M.; Ritala, M. Thin Solid Films 2002, 409, 138.
15. Ritala, M.; Leskelä, M. In Handbook of Thin Film Materials, Vol. 1, Ed.: Nalwa, H. S., Academic Press, San Diego, 2002, p. 103.
16. Leskelä, M.; Ritala, M. Angew. Chem., Int. Ed. 2003, 42, 5548.
17. Suntola, T. Thin Solid Films 1992, 216, 84.
18. Leskelä, M.; Ritala, M. Nanotechnology 1999, 10, 19.
19. Kim, H. J. Vac. Sci. Technol., B 2003, 21, 2231.
20. Crowell, J. E. J. Vac. Sci. Technol., A 2003, 21, S88.
21. Widjaja, Y.; Musgrave, C. B. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 304.
22. Widjaja, Y.; Han, J. H.; Musgrave, C. B. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 9319.
23. Chen, W.; Zhang, D.-W.; Ren, J.; Lu, H.-L.; Zhang, J.-Y.; Xu, M.; Wang, J.-T.; Wang, L.-K. Thin Solid Films 2005, 479, 73.
24. Gonzalez, C.; Schlegel, H. B. J. Chem. Phys. 1989, 90, 2154.
25. Jeloaica, L.; Estève, A.; Djafari Rouhani, M.; Estève, D. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 542.
26. Estève, A.; Djafari Rouhani, M.; Jeloaica, L.; Estève, D. Comput. Mater. Sci. 2003, 27, 75.
27. Kang, J. K.; Musgrave, C. B. J. Appl. Phys. 2002, 91, 3408.
28. Frisch, M. J.; Trucks, G. W.; Schlegel, H. B.; Scuseria, G. E.; Robb, M. A.; Cheeseman, J. R.; Zakrzewski, V. G.; Montgomery, J. A. Jr.; Stratmann, R. E.; Burant, J. C.; Dapprich, S.; Millam, J. M.; Daniels, A. D.; Kudin, K. N.; Strain, M. C.; Farkas, O.; Tomasi, J.; Barone, V.; Cossi, M.; Cammi, R.; Mennucci, B.; Pomelli, C.; Adamo, C.; Clifford, S.; Ochterski, J.; Petersson, G. A.; Ayala, P. Y.; Cui, Q.; Morokuma, K.; Malick, D. K.; Rabuck, A. D.; Raghavachari, K.; Foresman, J. B.; Cioslowski, J.; Ortiz, J. V.; Stefanov, B. B.; Liu, G.; Liashenko, A.; Piskorz, P.; Komaromi, I.; Gomperts, R.; Martin, R. L.; Fox, D. J.; Keith, T.; AlLaham, M. A.; Peng, C. Y.; Nanayakkara, A.; Gonzalez, C.; Challacombe, M.; Gill, P. M. W.; Johnson, B.; Chen, W.; Wong, M. W.; Andres, J. L.; Gonzalez, C.; HeadGordon, M.; Replogle, E. S.; Pople, J. A. Gaussian 03, Gaussian, Inc., Pittsburgh PA, 2003.
29. Lee, C.; Yang, W.; Parr, R. G. Phys. Rev. B 1988, 37, 785.
30. Becke, A. D. J. Chem. Phys. 1993, 98, 5648.
31. Wang, W.-L.; Liu, Y.; Wang, W.-N.; Luo, Q.; Li, Q.-S. Acta Chim. Sinica 2005, 63, 1554 (in Chinese).
32. Han, J. H.; Gao, G.; Widjaja, Y.; Garfunkel, E.; Musgrave, C. B. Surf. Sci. 2004, 550, 199.
33. Kukli, K.; Forsgren, K.; Aarik, J.; Uustare, T.; Aidla, A.; Niskanen, A.; Ritala, M.; Leskelä, M.; Hårsta, A. J. Cryst. Growth 2001, 231, 262.