Organometallic block copolymers as catalyst precursors for templated carbon nanotube growth

Advanced Materials

Volumn 16, Issue 11, 2004, Pages 876-879

  Hinderling, Christian ^a   Keles, Yanki ^b   Stöckli, Thomas ^b   Knapp, Helmut F ^b   De Los Arcos, Teresa ^c   Oelhafen, Peter ^c   Korczagin, Igor ^d   Hempenius, Mark A ^d   Vancso, G Julius ^d   Pugin, Raphaël ^a   Heinzelmann, Harry ^a  

^a CSEM   (Switzerland)

^b Ctr Suisse Electron Microtech SA   (Switzerland)

^c UNIVERSITY OF BASEL   (Switzerland)

^d UNIVERSITY OF TWENTE   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; BLOCK COPOLYMERS; CATALYSTS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; IRON; POLYSTYRENES; PRESSURE CONTROL; REACTIVE ION ETCHING; SPIN COATING;

ETCH MASKS; GROWTH CATALYSTS; LOW-PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; LOWER-VALENCE IRON SPECIES;

CARBON NANOTUBES;

EID: 3142516347     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200306447     Document Type: Article

References (53)

1. S. Iijima, Nature 1991, 354, 56.
2. a) L. A. Chernozatonskii, Y. V. Gulyaev, Z. Y. Kosakovskays, N. I. Sinitsyn, G. V. Torgashov, Z. F. Yu, E. A. Fedorov, V. P. Val'chuk, Chem. Phys. Lett. 1995, 233, 63.
3. b) A. G. Rinzler, J. H. Hafner, P. Nikolaev, L. Lou, S. G. Kim, D. Tomanek, P. Nordlander, D. T. Colbert, R. E. Smalley, Science 1995, 269, 1550.
4. c) W. A. de Heer, A. Châtelain, D. Ugarte, Science 1995, 270, 1179.
5. d) V. Semet, V. T. Binh, P. Vincent, D. Guillot, K. B. K. Teo, M. Chhowalla, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne, P. Legagneux, D. Pribat, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 343.
6. e) M. Chhowalla, C. Ducati, N. L. Rupesinghe, K. B. K. Teo, G. A. J. Amaratunga, Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 2079.
7. f) G. Pirio, P. Legagneux, D. Pribat, K. B. K Teo, M. Chhowalla, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne, Nanotechnology 2002, 13, 1.
8. a) S. J. Tans, A. R. M. Verschueren, C. Dekker, Nature 1998, 393, 49.
9. b) A. Bachtold, P. Hadley, T. Nakanishi, C. Dekker, Science 2001, 294, 1317.
10. H. Dai, J. H. Hafner, A. G. Rinzler, D. T. Colbert, R. E. Smalley, Nature 1996, 384, 147.
11. a) S. S. Wong, E. Joselevich, A. T. Woolley, C. L. Cheung, C. M. Lieber, Nature 1998, 394, 52.
12. b) J. Kong, N. R. Franklin, C. Zhou, M. G. Chapline, S. Peng, K. Cho, H. Dai, Science 2000, 287, 622.
13. c) S. Ghosh, A. K. Sood, N. Kumar, Science 2003, 299, 1042.
14. J. Li, A. M. Cassell, H. T. Ng, R. M. Stevens, J. Han, M. Meyyappan, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 2491.
15. B. Q. Wei, R. Vajtai, Y. Jung, J. Ward, R. Zhang, G. Ramanath, P. M. Ajayan, Nature 2002, 416, 495.
16. M. Terrones, N. Grobert, J. Olivares, J. P. Zhang, H. Terrones, K. Kordatos, W. K. Hsu, J. P. Hare, P. D. Townsend, K. Prassides, A. K. Cheetham, H. W. Kroto, D. R. M. Walton, Nature 1997, 388, 52.
17. a) H. Kind, J.-M. Bonard, C. Emmenegger, L.-O. Nilsson, K. Hernadi, E. Maillard-Sehaller, L. Schlapbach, L. Forró, K. Kern, Adv. Mater. 1999, 11, 1285.
18. b) C. Klinke, J.-M. Bonard, K. Kern, Surf. Sci. 2001, 492, 195.
19. S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W. Tombler, A. M. Cassell, H. Dai, Science 1999, 283, 512.
20. a) H. Dai, A. G. Rinzler, P. Nikolaev, A. Thess, D. T. Colbert, R. E. Smalley, Chem. Phys. Lett. 1996, 260, 471.
21. b) S. B. Sinnott, R. Andrews, D. Qian, A. M. Rao, Z. Mao, E. C. Dickey, F. Derbyshire, Chem. Phys. Lett. 1999, 315, 25.
22. P. M. Campbell, E. S. Snow, J. P. Novak, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 4586.
23. G. Che, B. B. Lakshmi, E. R. Fisher, C. R. Martin, Nature 1998, 393, 346.
24. C. L. Cheung, A. Kurtz, H. Park, C. M. Lieber, J. Phys. Chem. B 2002, 106, 2429.
25. Z. F. Ren, Z. P. Huang, D. Z. Wang, J. G. Wen, J. W. Xu, J. H. Wang, L. E. Calvet, J. Chen, J. F. Klemic, M. A. Reed, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1086.
26. J. Bonard, P. Chauvin, C. Klinke, Nano Lett. 2002, 2, 665.
27. a) F. S. Bates, Science 1991, 251, 898.
28. b) F. S. Bates, G. H. Fredrickson, Annu. Rev. Phys. Chem. 1990, 41, 525.
29. L. Leibler, Macromolecules 1980, 13, 1602.
30. C. Park, J. Yoon, E. L. Thomas, Polymer 2003, 44, 6725.
31. I. W. Hamley, Nanotechnology 2003, 14, R39.
32. a) M. Park, C. Harrison, P. M. Chaikin, R. A. Register, D. H. Adamson, Science 1997, 276, 1401.
33. b) M. Park, P. M. Chaikin, R. A. Register, D. H. Adamson, Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 257.
34. a) J. P. Spatz, P. Eibeck, S. Mößmer, M. Möller, T. Herzog, P. Ziemann, Adv. Mater. 1998, 10, 849.
35. b) J. P. Spatz, T. Herzog, S. Mößmer, P. Ziemann, M. Möller, Adv. Mater. 1999, 11, 149.
36. T. Xu, J. Stevens, J. Villa, J. T. Goldbach, K. W. Guarini, C. T. Black, C. J. Hawker, T. P. Russell, Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 698.
37. T. Thurn-Albrecht, J. Schotter, G. A. Kästle, N. Emley, T. Shibauchi, L. Krusin-Elbaum, K. Guarini, C. T. Black, M. T. Tuominen, T. P. Russell, Science 2000, 290, 2126.
38. W. A. Lopes, H. M. Jaeger, Nature 2001, 414, 735.
39. For a recent review on poly(ferrocenylsilanes) see: K. Kulbaba, I. Manners, Macromol. Rapid Commun. 2001, 22, 711.
40. R. G. H. Lammertink, M. A. Hempenius, G. J. Vancso, Langmuir 2000, 16, 6245.
41. R. G. H. Lammertink, M. A. Hempenius, G. J. Vancso, K. Shin, M. H. Rafailovich, J. Sokolov, Macromolecules 2001, 34, 942.
42. R. G. H. Lammertink, M. A. Hempenius, V. Z.-H. Chan, E. L. Thomas, G. J. Vancso, Chem. Mater. 2001, 13, 429.
43. a) R. G. H. Lammertink, M. A. Hempenius, J. E. Van den Enk, V. Z.-H. Chan, E. L. Thomas, G. J. Vancso, Adv. Mater. 2000, 12, 98.
44. b) L. Cao, J. A. Massey, M. A. Winnik, I. Manners, S. Rieth Müller, F. Banhart, J. P. Spatz, M. Möller, Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 271.
45. J. Y. Cheng, C. A. Ross, E. L. Thomas, H. J. Smith, G. J. Vancso, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3657.
46. J. Y. Cheng, C. A. Ross, V. Z.-H. Chan, E. L. Thomas, R. G. H. Lammertink, G. J. Vancso, Adv. Mater. 2001, 13, 1174.
47. Y. Ni, R. Rulkens, I. Manners, J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 4102.
48. Like other block copolymers containing mutually immiscible blocks, PS-PFS block copolymers microphase separate to form a variety of morphologies in bulk: R. G. H. Lammertink, M. A. Hempenius, E. L. Thomas, G. J. Vancso, J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys. 1999, 37, 1009.
49. T. Lin, G. Seshadri, F. A. Keller, Appl. Surf. Sci. 1997, 119, 83.
50. T. Deng, Y. Ha, J. Y. Cheng, C. A. Ross, E. L. Thomas, Langmuir 2002, 18, 6719.
51. J. Y. Cheng, C. A. Ross, E. L. Thomas, H. I. Smith, G. J. Vancso, Adv. Mater. 2003, 15, 1599.
52. For other work on inducing long-range order in block copolymer thin films by topographically patterned substrates see: a) R. A. Segalman, H. Yokoyama, E. J. Kramer, Adv. Mater. 2001, 13, 1152. b) R. A. Segalman, A. Hexemer, E. J. Kramer, Macromolecules 2003, 36, 6831.
53. For other work on inducing long-range order in block copolymer thin films by topographically patterned substrates see: a) R. A. Segalman, H. Yokoyama, E. J. Kramer, Adv. Mater. 2001, 13, 1152. b) R. A. Segalman, A. Hexemer, E. J. Kramer, Macromolecules 2003, 36, 6831.