-
1
-
-
67650102619
-
-
R. Waser, R. Dittmann, G. Staikov, K. Szot, Adv. Mater. 2009, 21, 2632.
-
(2009)
Adv. Mater.
, vol.21
, pp. 2632
-
-
Waser, R.1
Dittmann, R.2
Staikov, G.3
Szot, K.4
-
3
-
-
79956064739
-
-
K. M. Kim, D. S. Jeong, C. S. Hwang, Nanotechnology 2011, 22, 254002.
-
(2011)
Nanotechnology
, vol.22
, pp. 254002
-
-
Kim, K.M.1
Jeong, D.S.2
Hwang, C.S.3
-
5
-
-
46749093701
-
-
J. J. Yang, M. D. Pickett, X. Li, D. A. A. Ohlberg, D. R. Stewart, R. S. Williams, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 429.
-
(2008)
Nat. Nanotechnol.
, vol.3
, pp. 429
-
-
Yang, J.J.1
Pickett, M.D.2
Li, X.3
Ohlberg, D.A.A.4
Stewart, D.R.5
Williams, R.S.6
-
6
-
-
77956566915
-
-
S. S. Nonnenmann, E. M. Gallo, J. E. Spanier, Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 102904.
-
(2010)
Appl. Phys. Lett.
, vol.97
, pp. 102904
-
-
Nonnenmann, S.S.1
Gallo, E.M.2
Spanier, J.E.3
-
7
-
-
33645641019
-
-
K. Szot, W. Speier, G. Bihlmayer, R. Waser, Nat. Mater. 2006, 5, 312.
-
(2006)
Nat. Mater.
, vol.5
, pp. 312
-
-
Szot, K.1
Speier, W.2
Bihlmayer, G.3
Waser, R.4
-
8
-
-
78449303523
-
-
R. Muenstermann, T. Menke, R. Dittmann, R. Waser, Adv. Mater. 2010, 22, 4819.
-
(2010)
Adv. Mater.
, vol.22
, pp. 4819
-
-
Muenstermann, R.1
Menke, T.2
Dittmann, R.3
Waser, R.4
-
9
-
-
84863507287
-
-
D. S. Jeong, R. Thomas, R. S. Katiyar, J. F. Scott, H. Kohlstedt, A. Petraru, C. S. Hwang, Rep. Prog. Phys. 2012, 75, 076502.
-
(2012)
Rep. Prog. Phys.
, vol.75
, pp. 076502
-
-
Jeong, D.S.1
Thomas, R.2
Katiyar, R.S.3
Scott, J.F.4
Kohlstedt, H.5
Petraru, A.6
Hwang, C.S.7
-
10
-
-
33644552106
-
-
D. Choi, D. Lee, H. Sim, M. Chang, H. Hwang, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 082904.
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 082904
-
-
Choi, D.1
Lee, D.2
Sim, H.3
Chang, M.4
Hwang, H.5
-
11
-
-
79955827194
-
-
A. B. K. Chen, S. G. Kim, Y. Wang, W. Tung, I. Chen, Nat. Nanotechnol. 2011, 6, 237.
-
(2011)
Nat. Nanotechnol.
, vol.6
, pp. 237
-
-
Chen, A.B.K.1
Kim, S.G.2
Wang, Y.3
Tung, W.4
Chen, I.5
-
12
-
-
84861820224
-
-
J. Sullaphen, K. Bogle, X. Cheng, J. M. Gregg, N. Valanoor, Appl. Phys. Lett. 2012, 100, 203115.
-
(2012)
Appl. Phys. Lett.
, vol.100
, pp. 203115
-
-
Sullaphen, J.1
Bogle, K.2
Cheng, X.3
Gregg, J.M.4
Valanoor, N.5
-
13
-
-
80052923039
-
-
S. Choi, G. Park, K. Kim, W. Yang, H. Bae, K. Lee, H. Lee, S. Y. Park, S. Heo, H. Shin, S. Lee, S. Cho, J. Appl. Phys. 2011, 110, 056106.
-
(2011)
J. Appl. Phys.
, vol.110
, pp. 056106
-
-
Choi, S.1
Park, G.2
Kim, K.3
Yang, W.4
Bae, H.5
Lee, K.6
Lee, H.7
Park, S.Y.8
Heo, S.9
Shin, H.10
Lee, S.11
Cho, S.12
-
14
-
-
82555171565
-
-
S. Menzel, M. Waters, A. Marchewka, U. Böttger, R. Dittmann, R. Waser, Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 4487.
-
(2011)
Adv. Funct. Mater.
, vol.21
, pp. 4487
-
-
Menzel, S.1
Waters, M.2
Marchewka, A.3
Böttger, U.4
Dittmann, R.5
Waser, R.6
-
15
-
-
84861723550
-
-
Ch. Lenser, A. Kuzmin, J. Purans, A. Kalinko, R. Waser, R. Dittmann, J. Appl. Phys. 2012, 111, 076101.
-
(2012)
J. Appl. Phys.
, vol.111
, pp. 076101
-
-
Lenser, Ch.1
Kuzmin, A.2
Purans, J.3
Kalinko, A.4
Waser, R.5
Dittmann, R.6
-
16
-
-
79952910061
-
-
X. Sun, G. Li, X. Zhang, L. Ding, W. Zhang, J. Phys. D: Appl. Phys. 2011, 44, 125404.
-
(2011)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.44
, pp. 125404
-
-
Sun, X.1
Li, G.2
Zhang, X.3
Ding, L.4
Zhang, W.5
-
17
-
-
84885602975
-
-
T. Yanagida, K. Nagashima, K. Oka, M. Kanai, A. Klamchuen, B. H. Park, T. Kawai, Sci. Rep. 2013, 3, 1657.
-
(2013)
Sci. Rep.
, vol.3
, pp. 1657
-
-
Yanagida, T.1
Nagashima, K.2
Oka, K.3
Kanai, M.4
Klamchuen, A.5
Park, B.H.6
Kawai, T.7
-
18
-
-
79959341162
-
-
Q. Xia, M. D. Pickett, J. J. Yang, X. Li, W. Wu, G. Medeiros-Ribeiro, R. S. Williams, Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 2660.
-
(2011)
Adv. Funct. Mater.
, vol.21
, pp. 2660
-
-
Xia, Q.1
Pickett, M.D.2
Yang, J.J.3
Li, X.4
Wu, W.5
Medeiros-Ribeiro, G.6
Williams, R.S.7
-
19
-
-
0037065157
-
-
G. D. J. Smit, S. Rogge, T. M. Klapwijk, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3852.
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 3852
-
-
Smit, G.D.J.1
Rogge, S.2
Klapwijk, T.M.3
-
20
-
-
0032035908
-
-
D. A. Bonnell, Y. Liang, M. Wagner, D. Carroll, M. Rühle, Acta Mater. 1998, 46, 2263.
-
(1998)
Acta Mater.
, vol.46
, pp. 2263
-
-
Bonnell, D.A.1
Liang, Y.2
Wagner, M.3
Carroll, D.4
Rühle, M.5
-
21
-
-
65449120637
-
-
J. L. Tedesco, J. E. Rowe, R. J. Nemanich, J. Appl. Phys. 2009, 105, 083721.
-
(2009)
J. Appl. Phys.
, vol.105
, pp. 083721
-
-
Tedesco, J.L.1
Rowe, J.E.2
Nemanich, R.J.3
-
22
-
-
0000091846
-
-
D. L. Carroll, M. Wagner, M. Rühle, D. A. Bonnell, Phys. Rev. B 1997, 55, 9792.
-
(1997)
Phys. Rev. B
, vol.55
, pp. 9792
-
-
Carroll, D.L.1
Wagner, M.2
Rühle, M.3
Bonnell, D.A.4
-
25
-
-
0031548247
-
-
T. Shimizu, N. Gotoh, N. Shinozaki, H. Okushi, Appl. Surf. Sci. 1997, 117, 400.
-
(1997)
Appl. Surf. Sci.
, vol.117
, pp. 400
-
-
Shimizu, T.1
Gotoh, N.2
Shinozaki, N.3
Okushi, H.4
-
27
-
-
78650663883
-
-
X. T. Zhang, Q. X. Yu, Y. P. Yao, X. G. Li, Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 222117.
-
(2010)
Appl. Phys. Lett.
, vol.97
, pp. 222117
-
-
Zhang, X.T.1
Yu, Q.X.2
Yao, Y.P.3
Li, X.G.4
-
28
-
-
77951073531
-
-
R. Kraya, L. Y. Kraya, D. A. Bonnell, Nano Lett. 2010, 10, 1224.
-
(2010)
Nano Lett
, vol.10
, pp. 1224
-
-
Kraya, R.1
Kraya, L.Y.2
Bonnell, D.A.3
-
29
-
-
67650486347
-
-
L. Yang, C. Kuegeler, K. Szot, A. Ruediger, R. Waser, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 013109.
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 013109
-
-
Yang, L.1
Kuegeler, C.2
Szot, K.3
Ruediger, A.4
Waser, R.5
-
30
-
-
33747146761
-
-
X. Chen, N. Wu, J. Strozier, A. Ignatiev, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 063507.
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.89
, pp. 063507
-
-
Chen, X.1
Wu, N.2
Strozier, J.3
Ignatiev, A.4
-
32
-
-
0032136099
-
-
L. Vitos, A. V. Ruban, H. L. sSkriver, J. Kollár, Surf. Sci. 1998, 411, 186.
-
(1998)
Surf. Sci.
, vol.411
, pp. 186
-
-
Vitos, L.1
Ruban, A.V.2
Sskriver, H.L.3
Kollár, J.4
-
33
-
-
0036643599
-
-
J. Shim, B. Lee, Y. W. Cho, Surf. Sci. 2002, 512, 262.
-
(2002)
Surf. Sci.
, vol.512
, pp. 262
-
-
Shim, J.1
Lee, B.2
Cho, Y.W.3
-
34
-
-
0004005306
-
-
3rd Edition, Wiley, Hoboken, NJ, USA
-
S. M. Sze, K. K. Ng, Physics of Semiconductor Devices, 3rd Edition, Wiley, Hoboken, NJ, USA 2007.
-
(2007)
Physics of Semiconductor Devices
-
-
Sze, S.M.1
Ng, K.K.2
-
35
-
-
84891404340
-
-
J. Hou, S. S. Nonnenmann, W. Qin, D. A. Bonnell, Appl. Phys. Lett. 2013, 103, 252106.
-
(2013)
Appl. Phys. Lett.
, vol.103
, pp. 252106
-
-
Hou, J.1
Nonnenmann, S.S.2
Qin, W.3
Bonnell, D.A.4
-
36
-
-
36149017207
-
-
A. Rose, Phys. Rev. 1955, 97, 1538.
-
(1955)
Phys. Rev.
, vol.97
, pp. 1538
-
-
Rose, A.1
-
37
-
-
34047137158
-
-
T. Fujii, M. Kawasaki, A. Sawa, Y. Kawazoe, H. Akoh, Y. Tokura, Phys. Rev. B 2007, 75, 165101.
-
(2007)
Phys. Rev. B
, vol.75
, pp. 165101
-
-
Fujii, T.1
Kawasaki, M.2
Sawa, A.3
Kawazoe, Y.4
Akoh, H.5
Tokura, Y.6
-
38
-
-
76649133422
-
-
D. Kwon, K. M. Kim, J. H. Jang, J. M. Jeon, M. H. Lee, G. H. Kim, X. Li, G. Park, B. Lee, S. Han, M. Kim, C. S. Hwang, Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 148.
-
(2010)
Nat. Nanotechnol.
, vol.5
, pp. 148
-
-
Kwon, D.1
Kim, K.M.2
Jang, J.H.3
Jeon, J.M.4
Lee, M.H.5
Kim, G.H.6
Li, X.7
Park, G.8
Lee, B.9
Han, S.10
Kim, M.11
Hwang, C.S.12
-
39
-
-
84871772858
-
-
J. J. Yang, D. B. Strukov, D. R. Stewart, Nat. Nanotechnol. 2013, 8, 13.
-
(2013)
Nat. Nanotechnol.
, vol.8
, pp. 13
-
-
Yang, J.J.1
Strukov, D.B.2
Stewart, D.R.3
-
40
-
-
76649125543
-
-
K. Shibuya, R. Dittmann, S. Mi, R. Waser, Adv. Mater. 2010, 22, 411.
-
(2010)
Adv. Mater.
, vol.22
, pp. 411
-
-
Shibuya, K.1
Dittmann, R.2
Mi, S.3
Waser, R.4
-
41
-
-
10044237971
-
-
A. Sawa, T. Fujii, M. Kawasaki, Y. Tokura, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4073.
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.85
, pp. 4073
-
-
Sawa, A.1
Fujii, T.2
Kawasaki, M.3
Tokura, Y.4
-
42
-
-
0000016612
-
-
S. Fleischer, P. T. Lai, Y. C. Cheng, J. Appl. Phys. 1992, 72, 5711.
-
(1992)
J. Appl. Phys.
, vol.72
, pp. 5711
-
-
Fleischer, S.1
Lai, P.T.2
Cheng, Y.C.3
-
43
-
-
84883890745
-
-
J. Hou, B. Rouxel, W. Qin, S. S. Nonnenmann, D. A. Bonnell, Nanotechnology 2013, 24, 395703.
-
(2013)
Nanotechnology
, vol.24
, pp. 395703
-
-
Hou, J.1
Rouxel, B.2
Qin, W.3
Nonnenmann, S.S.4
Bonnell, D.A.5
-
44
-
-
84877262939
-
-
Y. M. Lu, M. Noman, Y. N. Picard, J. A. Bain, P. A. Salvador, M. Skowronski, J. Appl. Phys. 2013, 113, 163703.
-
(2013)
J. Appl. Phys.
, vol.113
, pp. 163703
-
-
Lu, Y.M.1
Noman, M.2
Picard, Y.N.3
Bain, J.A.4
Salvador, P.A.5
Skowronski, M.6
-
45
-
-
38049094920
-
-
Q. Liu, W. Guan, S. Long, R. Jia, M. Liu, J. Chen, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 012117.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 012117
-
-
Liu, Q.1
Guan, W.2
Long, S.3
Jia, R.4
Liu, M.5
Chen, J.6
|