Ultra-thin (002)-oriented Al-doped zinc oxide transparent electrode grown on oxygen-controlled homo-seed layer

Physica Status Solidi - Rapid Research Letters

Volumn 8, Issue 2, 2014, Pages 172-175

  Wang, Muqin ^a   Yang, Ye ^a   Lan, Pinjun ^a   Zhu, Ke ^a   Huang, Jinhua ^a   Lu, Yuehui ^a   Tan, Ruiqin ^b   Song, Weijie ^a  

^a NINGBO INSTITUTE OF MATERIALS TECHNOLOGY AND ENGINEERING   (China)

^b NINGBO UNIVERSITY   (China)

Author keywords

Films; Magnetron sputtering; Transparent conducting oxides; Zinc oxide

Indexed keywords

EID: 84894247017     PISSN: 18626254     EISSN: 18626270     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pssr.201308238     Document Type: Article

References (34)

1. D. S. Ginley and C. Bright, MRS Bull. 25, 15 (2000).
2. H. Hosono, H. Ohta, M. Orita, K. Ueda, and M. Hirano, Vacuum 66, 419 (2002).
3. T. Minami and T. Miyata, Thin Solid Films 517, 1474 (2008).
4. W. W. Lee, R. P. Dwivedi, C. Hong, H. W. Kim, N. Cho, and C. Lee, J. Mater. Sci. 43, 1159 (2008).
5. C. Y. Hsu, T. F. Ko, and Y. M. Huang, J. Eur. Ceram. Soc. 28, 3065 (2008).
6. M. L. Addonizio, A. Antonaia, G. Cantele, and C. Privato, Thin Solid Films 349, 93 (1999).
7. F. Ruske, T. V. Sittinger, W. Werner, B. Szyszka, K.-U. van Osten, K. Dietrich, and R. Rix, Surf. Coat. Technol. 200, 236 (2005).
8. S. H. Lee, T. S. Lee, K. S. Lee, B. Cheong, Y. D. Kim, and W. M. Kim, J. Electroceram. 23, 468 (2009).
9. K. Zhu, Y. Yang, T. F. Wei, R. Q. Tan, P. Cui, W. J. Song, and K. L. Choy, Mater. Lett. 106, 363 (2013).
10. D. J. Kwak, M. W. Park, and Y. M. Sung, Vacuum 83, 113 (2009).
11. T. Yamada, A. Miyake, S. Kishimoto, H. Makino, N. Yamamoto, and T. Yamamoto, Appl. Phys. Lett. 91, 051915 (2007).
12. Z. Haibo, D. Guotao, L. Yue, Y. Shikuan, X. Xiaoxia, and C. Weiping, Adv. Funct. Chem. 20, 561 (2010).
13. K. Ellmer, Nature Photon. 6, 809 (2012).
14. B. Szyszka, W. Dewald, S. K. Gurram, A. Pflug, C. Schulz, M. Siemers, V. Sittinger, and S. Ulrich, Curr. Appl. Phys. 12, S2 (2012).
15. D. Köhl, M. Luysberg, and M. Wutting, J. Phys. D, Appl. Phys. 43, 205301 (2010).
16. M. Birkholz, B. Selle, F. Fenske, and W. Fuhs, Phys. Rev. B 68, 205414 (2003).
17. M. Kumar, R. M. Mehra, A. Wakahara, M. Ishida, and A. Yoshida, Thin Solid Films 484, 174 (2005).
18. D. Köhl, M. Luysberg, and M. Wutting, Phys. Status Solidi RRL 3, 236 (2009).
19. D. Köhl, G. Natarajan, and M. Wutting, J. Phys. D, Appl. Phys. 45, 245302 (2012).
20. T. Yamamoto, H. P. Song, and H. Makino, Phys. Status Solidi C 10, 603 (2013).
21. T. Terasko, H. Song, H. Makino, S. Shirakata, and T. Yamamoto, Thin Solid Films 528, 19 (2013).
22. J. H. Liu, C. H. Lin, C. C. Yang, and I. M. Chan, in: Proceedings of the 37th IEEE Photovoltaic Specialists Conference, Seattle, WA, 2011 (IEEE, New York, 2011), pp. 649-651.
23. Y. F. Chen, J. S. K. Hong, H. J. Ko, V. Kirshner, H. Venisch, T. Yao, K. Inaba, and Y. Segawa, Appl. Phys. Lett. 78, 3352 (2001).
24. N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Nakahara, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, and M. Shiratani, Appl. Phys. Express 4, 011101 (2011).
25. D. Y. Wan, F. Q. Huang, Y. Y. Wang, X. L. Mou, and F. F. Xu, ACS Appl. Mater. Interfaces 2, 2147 (2010).
26. Q. K. Li, J. B. Wang, B. Li, X. L. Zhong, F. Wang, and C. B. Tan, Appl. Sur. Sci. 283, 623 (2013).
27. J. I. Nomoto, J. I. Oda, T. Miyata, and T. Minami, Thin Solid Films 519, 1587 (2010).
28. Y. L. Zhang, Y. Yang, J. H. Zhao, R. Q. Tan, P. Cui, and W. J. Song, J. Sol-Gel Sci. Technol. 51, 198 (2009).
29. N. Fujimura, T. Nishihara, S. Goto, J. F. Xu, and T. Ito, J. Cryst. Growth 130, 269 (1993).
30. A. Bikowski, T. Welzel, and K. Ellmer, Appl. Phys. Lett. 102, 242106 (2013).
31. D. W. Kang, S. H. Kuk, K. S. Ji, S. W. Ahn, and M. K. Han, Jpn. J. Appl. Phys. 49, 031101 (2010).
32. O. Kluth, G. Schöpe, B. Rech, R. Menner, M. Oertel, K. Orgassa, and H. W. Schock, Thin Solid Films 502, 311 (2006).
33. S. J. Tark, Y. W. Ok, M. G. Kang, H. J. Lim, W. M. Kim, and D. Kim, J. Electroceram. 23, 548 (2009).
34. E. Burstein, Phys. Rev. 93, 632 (1954).