SCOPUS 정보 검색 플랫폼

Journal of Materials Chemistry C

Volumn 1, Issue 31, 2013, Pages 4761-4769

Atomic layer deposition of Ti-doped ZnO films with enhanced electron mobility

(6) Lee, Do Joong a,b Kim, Ki Ju a Kim, Soo Hyun c Kwon, Jang Yeon d Xu, Jimmy a,b Kim, Ki Bum a

a Seoul National University (South Korea)

b Brown University (United States)

c Yeungnam University (South Korea)

d Yonsei University (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 84892569675 PISSN: 20507534 EISSN: 20507526 Source Type: Journal
DOI: 10.1039/c3tc30469h Document Type: Article

Times cited : (44)

References (58)

1
- 0345293132
- G. Granqvist Adv. Mater. 2003 15 1789.
- (2003) Adv. Mater. , vol.15 , pp. 1789
- Granqvist, G.¹

2
- 9744248669
- K. Nomura H. Ohta A. Takagi T. Kamiya M. Hirano H. Hosono Nature 2004 432 488.
- (2004) Nature , vol.432 , pp. 488
- Nomura, K.¹ Ohta, H.² Takagi, A.³ Kamiya, T.⁴ Hirano, M.⁵ Hosono, H.⁶

3
- 36549099749
- I. Hamberg C. G. Granqvist J. Appl. Phys. 1986 60 R123.
- (1986) J. Appl. Phys. , vol.60 , pp. R123
- Hamberg, I.¹ Granqvist, C.G.²

4
- 79954581570
- J.-Y. Kwon D.-J. Lee K.-B. Kim Electron. Mater. Lett. 2011 7 1.
- (2011) Electron. Mater. Lett. , vol.7 , pp. 1
- Kwon, J.-Y.¹ Lee, D.-J.² Kim, K.-B.³

5
- 17044403452
- T. Minami Semicond. Sci. Technol. 2005 20 S35.
- (2005) Semicond. Sci. Technol. , vol.20 , pp. S35
- Minami, T.¹

6
- 10044287856
- R. B. H. Tahar Y. Ban Y. Ohya Y. Tahakashi J. Appl. Phys. 1998 83 2631.
- (1998) J. Appl. Phys. , vol.83 , pp. 2631
- Tahar, R.B.H.¹ Ban, Y.² Ohya, Y.³ Tahakashi, Y.⁴

7
- 80052568729
- J. Bakke K. L. Pichrahn T. P. Brennan S. F. Bent Nanoscale 2011 3 3482.
- (2011) Nanoscale , vol.3 , pp. 3482
- Bakke, J.¹ Pichrahn, K.L.² Brennan, T.P.³ Bent, S.F.⁴

8
- 0030405306
- M. Ritala T. Asikainen M. Leskelä J. Skarp Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1996 426 513.
- (1996) Mater. Res. Soc. Symp. Proc. , vol.426 , pp. 513
- Ritala, M.¹ Asikainen, T.² Leskelä, M.³ Skarp, J.⁴

9
- 61549138088
- A. B. F. Martinson J. W. Elam J. Liu M. Pellin T. J. Marks J. T. Hupp Nano Lett. 2008 8 2862.
- (2008) Nano Lett. , vol.8 , pp. 2862
- Martinson, A.B.F.¹ Elam, J.W.² Liu, J.³ Pellin, M.⁴ Marks, T.J.⁵ Hupp, J.T.⁶

10
- 80755142857
- N. Tétreault É. Arsenault L.-P. Heiniger N. Soheilnia J. Brillet T. Moehl S. Zakeeruddin G. A. Ozin M. Grätzel Nano Lett. 2011 11 4579.
- (2011) Nano Lett. , vol.11 , pp. 4579
- Tétreault, N.¹ Arsenault, É.² Heiniger, L.-P.³ Soheilnia, N.⁴ Brillet, J.⁵ Moehl, T.⁶ Zakeeruddin, S.⁷ Ozin, G.A.⁸ Grätzel, M.⁹

11
- 79957496297
- A. Paracchino V. Laporte K. Sivula M. Grätzel E. Thimsen Nat. Mater. 2011 10 456.
- (2011) Nat. Mater. , vol.10 , pp. 456
- Paracchino, A.¹ Laporte, V.² Sivula, K.³ Grätzel, M.⁴ Thimsen, E.⁵

12
- 50249161875
- J. Meyer P. Grörn S. Hamwi H.-H. Johannes T. Riedl W. Kowalsky Appl. Phys. Lett. 2008 93 073308.
- (2008) Appl. Phys. Lett. , vol.93 , pp. 73308
- Meyer, J.¹ Grörn, P.² Hamwi, S.³ Johannes, H.-H.⁴ Riedl, T.⁵ Kowalsky, W.⁶

13
- 0028761966
- V. Lujala J. Skarp M. Tammenmaa T. Suntola Appl. Surf. Sci. 1994 82/83 34.
- (1994) Appl. Surf. Sci. , vol.82-83 , pp. 34
- Lujala, V.¹ Skarp, J.² Tammenmaa, M.³ Suntola, T.⁴

14
- 77955679881
- N. P. Dasgupta S. Neubert W. Lee O. Trejo J.-R. Lee F. B. Printz Chem. Mater. 2010 22 4769.
- (2010) Chem. Mater. , vol.22 , pp. 4769
- Dasgupta, N.P.¹ Neubert, S.² Lee, W.³ Trejo, O.⁴ Lee, J.-R.⁵ Printz, F.B.⁶

15
- 78649850008
- M. Otto M. Kroll T. Käsebier S.-M. Lee M. Putkonen R. Salzer P. T. Miclea R. B. Wehrspohn Adv. Mater. 2010 22 5035.
- (2010) Adv. Mater. , vol.22 , pp. 5035
- Otto, M.¹ Kroll, M.² Käsebier, T.³ Lee, S.-M.⁴ Putkonen, M.⁵ Salzer, R.⁶ Miclea, P.T.⁷ Wehrspohn, R.B.⁸

16
- 85027957530
- G. Luka T. A. Krajewski B. S. Witkowski G. Wisz I. S. Virt E. Guziewicz M. Godlewski J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 2011 22 1810.
- (2011) J. Mater. Sci.: Mater. Electron. , vol.22 , pp. 1810
- Luka, G.¹ Krajewski, T.A.² Witkowski, B.S.³ Wisz, G.⁴ Virt, I.S.⁵ Guziewicz, E.⁶ Godlewski, M.⁷

17
- 80055093141
- W. J. Maeng J.-w. Lee J. H. Lee K.-B. Chung J.-S. Park J. Phys. D: Appl. Phys. 2011 44 445305.
- (2011) J. Phys. D: Appl. Phys. , vol.44 , pp. 445305
- Maeng, W.J.¹ Lee, J.-W.² Lee, J.H.³ Chung, K.-B.⁴ Park, J.-S.⁵

18
- 79961231677
- D.-J. Lee J.-Y. Kwon J. I. Lee K.-B. Kim J. Phys. Chem. C 2011 115 15384.
- (2011) J. Phys. Chem. C , vol.115 , pp. 15384
- Lee, D.-J.¹ Kwon, J.-Y.² Lee, J.I.³ Kim, K.-B.⁴

19
- 84879549802
- G. E. Fernandes D.-J. Lee J. H. Kim K.-B. Kim J. Xu J. Mater. Sci. 2013 48 2536.
- (2013) J. Mater. Sci. , vol.48 , pp. 2536
- Fernandes, G.E.¹ Lee, D.-J.² Kim, J.H.³ Kim, K.-B.⁴ Xu, J.⁵

20
- 72949108714
- J.-S. Na Q. P. Peng G. Scarel G. N. Parsons Chem. Mater. 2009 21 5585.
- (2009) Chem. Mater. , vol.21 , pp. 5585
- Na, J.-S.¹ Peng, Q.P.² Scarel, G.³ Parsons, G.N.⁴

21
- 79551654826
- D.-J. Lee H.-M. Kim J.-Y. Kwon H. Choi S.-H. Kim K.-B. Kim Adv. Funct. Mater. 2011 21 448.
- (2011) Adv. Funct. Mater. , vol.21 , pp. 448
- Lee, D.-J.¹ Kim, H.-M.² Kwon, J.-Y.³ Choi, H.⁴ Kim, S.-H.⁵ Kim, K.-B.⁶

22
- 38149074088
- S. Yoshioka F. Oba R. Huang I. Tanaka T. Mizoguchi T. Yamamoto J. Appl. Phys. 2008 103 014309.
- (2008) J. Appl. Phys. , vol.103 , pp. 14309
- Yoshioka, S.¹ Oba, F.² Huang, R.³ Tanaka, I.⁴ Mizoguchi, T.⁵ Yamamoto, T.⁶

23
- 79953182343
- D.-J. Lee J.-Y. Kwon S.-H. Kim H.-M. Kim K.-B. Kim J. Electrochem. Soc. 2011 158 D277.
- (2011) J. Electrochem. Soc. , vol.158 , pp. D277
- Lee, D.-J.¹ Kwon, J.-Y.² Kim, S.-H.³ Kim, H.-M.⁴ Kim, K.-B.⁵

24
- 80053504614
- A. Yanguas-Gil K. E. Petrson J. W. Elam Chem. Mater. 2011 23 4295.
- (2011) Chem. Mater. , vol.23 , pp. 4295
- Yanguas-Gil, A.¹ Petrson, K.E.² Elam, J.W.³

25
- 0034246829
- T. J. Coutts D. L. Young X. Li MRS Bull. 2000 25 58.
- (2000) MRS Bull. , vol.25 , pp. 58
- Coutts, T.J.¹ Young, D.L.² Li, X.³

26
- 0035824090
- K. Ellmer J. Phys. D: Appl. Phys. 2001 34 3097.
- (2001) J. Phys. D: Appl. Phys. , vol.34 , pp. 3097
- Ellmer, K.¹

27
- 0003877758
- CRC Press, Inc., Boca Raton, FL, 74th edn
- D. R. Lide, CRC Handbook of Chemistry and Physics, CRC Press, Inc., Boca Raton, FL, 74th edn, 1993.
- (1993) CRC Handbook of Chemistry and Physics
- Lide, D.R.¹

28
- 79953190434
- Z.-L. Tseng P.-C. Kao C.-S. Yang Y.-D. Juang Y.-M. Kuo S.-Y. Chu J. Electrochem. Soc. 2011 158 J133.
- (2011) J. Electrochem. Soc. , vol.158 , pp. J133
- Tseng, Z.-L.¹ Kao, P.-C.² Yang, C.-S.³ Juang, Y.-D.⁴ Kuo, Y.-M.⁵ Chu, S.-Y.⁶

29
- 0000646519
- M. Ritala M. Leskelä L. Niinistö P. Haussalo Chem. Mater. 1993 5 1174.
- (1993) Chem. Mater. , vol.5 , pp. 1174
- Ritala, M.¹ Leskelä, M.² Niinistö, L.³ Haussalo, P.⁴

30
- 33751536773
- Y. Abe N. Ishiyama J. Mater. Sci. 2006 41 7580.
- (2006) J. Mater. Sci. , vol.41 , pp. 7580
- Abe, Y.¹ Ishiyama, N.²

31
- 34548512847
- R. K. Gupta K. Ghosh S. R. Mishra P. K. Kahol Appl. Surf. Sci. 2007 253 9422.
- (2007) Appl. Surf. Sci. , vol.253 , pp. 9422
- Gupta, R.K.¹ Ghosh, K.² Mishra, S.R.³ Kahol, P.K.⁴

32
- 0026882431
- S. J. Wen G. Campet J. Portier G. Couturier J. B. Goodenough Mater. Sci. Eng., B 1992 14 115.
- (1992) Mater. Sci. Eng., B , vol.14 , pp. 115
- Wen, S.J.¹ Campet, G.² Portier, J.³ Couturier, G.⁴ Goodenough, J.B.⁵

33
- 1942540779
- Y. Yoshida D. M. Wood T. A. Gessert T. J. Coutts Appl. Phys. Lett. 2004 84 2097.
- (2004) Appl. Phys. Lett. , vol.84 , pp. 2097
- Yoshida, Y.¹ Wood, D.M.² Gessert, T.A.³ Coutts, T.J.⁴

34
- 0038269155
- J. W. Elam D. Routkevitch S. M. George J. Electrochem. Soc. 2003 150 G339.
- (2003) J. Electrochem. Soc. , vol.150 , pp. G339
- Elam, J.W.¹ Routkevitch, D.² George, S.M.³

35
- 0035928970
- J. Aarik J. Karlis H. Mändar T. Uustare V. Sammelselg Appl. Surf. Sci. 2001 181 339.
- (2001) Appl. Surf. Sci. , vol.181 , pp. 339
- Aarik, J.¹ Karlis, J.² Mändar, H.³ Uustare, T.⁴ Sammelselg, V.⁵

36
- 0031162080
- K. H. Kim K. C. Park D. Y. Ma J. Appl. Phys. 1997 81 7764.
- (1997) J. Appl. Phys. , vol.81 , pp. 7764
- Kim, K.H.¹ Park, K.C.² Ma, D.Y.³

37
- 10944256389
- S.-S. Lin J.-L. Huang P. Šajgalik Surf. Coat. Technol. 2005 191 286.
- (2005) Surf. Coat. Technol. , vol.191 , pp. 286
- Lin, S.-S.¹ Huang, J.-L.² Šajgalik, P.³

38
- 84859587934
- H. Cheun C. Fuentes-Hernandez J. Shim Y. Fang Y. Cai H. Li A. Sigdel J. Meyer J. Maibach A. Dindar Y. Zhou J. J. Berry J.-L. Bredas A. Kahn K.-H. Sandhage B. Kippelen Adv. Funct. Mater. 2012 22 1531.
- (2012) Adv. Funct. Mater. , vol.22 , pp. 1531
- Cheun, H.¹ Fuentes-Hernandez, C.² Shim, J.³ Fang, Y.⁴ Cai, Y.⁵ Li, H.⁶ Sigdel, A.⁷ Meyer, J.⁸ Maibach, J.⁹ Dindar, A.¹⁰ Zhou, Y.¹¹ Berry, J.J.¹² Bredas, J.-L.¹³ Kahn, A.¹⁴ Sandhage, K.-H.¹⁵ Kippelen, B.¹⁶

39
- 0003602826
- Academic Press, CA, 2nd edn
- M. Ohring, Materials Science of Thin Films, Academic Press, CA, 2nd edn, 2002.
- (2002) Materials Science of Thin Films
- Ohring, M.¹

40
- 0022146289
- T. Minami H. Sato H. Nanto S. Takata Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 1985 24 L781.
- (1985) Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 , vol.24 , pp. L781
- Minami, T.¹ Sato, H.² Nanto, H.³ Takata, S.⁴

41
- 84881495238
- H. Sato T. Minami S. Takata J. Vac. Sci. Technol., A 1993 11 2975.
- (1993) J. Vac. Sci. Technol., A , vol.11 , pp. 2975
- Sato, H.¹ Minami, T.² Takata, S.³

42
- 79955533003
- M.-C. Lin Y.-J. Chang M.-J. Chen C.-J. Chu J. Electrochem. Soc. 2011 158 D395.
- (2011) J. Electrochem. Soc. , vol.158 , pp. D395
- Lin, M.-C.¹ Chang, Y.-J.² Chen, M.-J.³ Chu, C.-J.⁴

43
- 85033254616
- T. Asikainen M. Ritala M. Leskelä J. Electrochem. Soc. 1995 142 3537.
- (1995) J. Electrochem. Soc. , vol.142 , pp. 3537
- Asikainen, T.¹ Ritala, M.² Leskelä, M.³

44
- 40049110891
- J. W. Elam D. A. Baker A. B. F. Martinson M. J. Pellin J. T. Hupp J. Phys. Chem. C 2008 112 1938.
- (2008) J. Phys. Chem. C , vol.112 , pp. 1938
- Elam, J.W.¹ Baker, D.A.² Martinson, A.B.F.³ Pellin, M.J.⁴ Hupp, J.T.⁵

45
- 0001447933
- B. E. Sernelius K.-F. Berggren Z.-C. Lin I. Hamberg C. G. Granqvist Phys. Rev. B: Condens. Matter Mater. Phys. 1988 37 10244.
- (1988) Phys. Rev. B: Condens. Matter Mater. Phys. , vol.37 , pp. 10244
- Sernelius, B.E.¹ Berggren, K.-F.² Lin, Z.-C.³ Hamberg, I.⁴ Granqvist, C.G.⁵

46
- 0037465334
- J. Elam S. M. George Chem. Mater. 2003 15 1020.
- (2003) Chem. Mater. , vol.15 , pp. 1020
- Elam, J.¹ George, S.M.²

47
- 75149185428
- J.-S. Na G. Scarel G. N. Parsons J. Phys. Chem. C 2010 114 383.
- (2010) J. Phys. Chem. C , vol.114 , pp. 383
- Na, J.-S.¹ Scarel, G.² Parsons, G.N.³

48
- 2442422672
- A. H. Boonstra C. A. H. A. Mutsaers J. Phys. Chem. 1975 79 1697.
- (1975) J. Phys. Chem. , vol.79 , pp. 1697
- Boonstra, A.H.¹ Mutsaers, C.A.H.A.²

49
- 0037422685
- R. Mueller H. K. Kammler K. Wegner S. E. Pratsinis Langmuir 2003 19 160.
- (2003) Langmuir , vol.19 , pp. 160
- Mueller, R.¹ Kammler, H.K.² Wegner, K.³ Pratsinis, S.E.⁴

50
- 77956336658
- P. Banerjee W.-J. Lee K.-R. Bae S. B. Lee G. W. Rubloff J. Appl. Phys. 2010 108 043504.
- (2010) J. Appl. Phys. , vol.108 , pp. 43504
- Banerjee, P.¹ Lee, W.-J.² Bae, K.-R.³ Lee, S.B.⁴ Rubloff, G.W.⁵

51
- 47049096034
- S. K. Kim G.-J. Choi S. Y. Lee M. Seo S. W. Lee J. H. Han H.-S. Ahn S. Han C. S. Hwang Adv. Mater. 2008 20 1429.
- (2008) Adv. Mater. , vol.20 , pp. 1429
- Kim, S.K.¹ Choi, G.-J.² Lee, S.Y.³ Seo, M.⁴ Lee, S.W.⁵ Han, J.H.⁶ Ahn, H.-S.⁷ Han, S.⁸ Hwang, C.S.⁹

52
- 79960002687
- J. Heo Y. Liu P. Sinsermsuksakul L. Zhefeng L. Sun W. Noh R. G. Gordon J. Phys. Chem. C 2011 115 10277.
- (2011) J. Phys. Chem. C , vol.115 , pp. 10277
- Heo, J.¹ Liu, Y.² Sinsermsuksakul, P.³ Zhefeng, L.⁴ Sun, L.⁵ Noh, W.⁶ Gordon, R.G.⁷

53
- 42649089136
- K. Ellmer R. Mientus Thin Solid Films 2008 516 4620.
- (2008) Thin Solid Films , vol.516 , pp. 4620
- Ellmer, K.¹ Mientus, R.²

54
- 0000804317
- R. B. Dingle Philos. Mag. 1955 46 831.
- (1955) Philos. Mag. , vol.46 , pp. 831
- Dingle, R.B.¹

55
- 0016597193
- J. Y. W. Seto J. Appl. Phys. 1975 46 5247.
- (1975) J. Appl. Phys. , vol.46 , pp. 5247
- Seto, J.Y.W.¹

56
- 36149020912
- C. Erginsoy Phys. Rev. 1950 79 1013.
- (1950) Phys. Rev. , vol.79 , pp. 1013
- Erginsoy, C.¹

57
- 0010330592
- Y. Zhang Inorg. Chem. 1982 21 3889.
- (1982) Inorg. Chem. , vol.21 , pp. 3889
- Zhang, Y.¹

58
- 0024705246
- T. Pisarkiewicz K. Zakrzewska E. Leja Thin Solid Films 1989 174 217.
- (1989) Thin Solid Films , vol.174 , pp. 217
- Pisarkiewicz, T.¹ Zakrzewska, K.² Leja, E.³

* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.