Transparent conducting Ti-doped ZnO thin films applied to organic light-emitting diodes

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 158, Issue 5, 2011, Pages

  Tseng, Zong Liang ^a   Kao, Po Ching ^b   Yang, Chi Shin ^a   Juang, Yung Der ^c   Kuo, Yu Mei ^c   Chu, Sheng Yuan ^a  

^a NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL CHIAYI UNIVERSITY   (Taiwan)

^c NATIONAL UNIVERSITY OF TAINAN   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CURRENT EFFICIENCY; DOPED ZNO; GLASS SUBSTRATES; HIGH CONDUCTIVITY; INDIUM TIN OXIDE; LOW OPERATING VOLTAGE; MATERIAL PROPERTY; NON-TOXICITY; RADIO FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING; SPUTTERING PARAMETERS; TURN ON VOLTAGE;

ANODES; CONDUCTIVE FILMS; INDIUM COMPOUNDS; LIGHT EMISSION; LIGHT EMITTING DIODES; MAGNETRON SPUTTERING; OXIDE FILMS; SUBSTRATES; THIN FILMS; TIN; TIN OXIDES; ZINC OXIDE;

ORGANIC LIGHT EMITTING DIODES (OLED);

EID: 79953190434     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.3554730     Document Type: Article

References (28)

1. E. Gautier, A. Lorin, J. M. Nunzi, A. Schalchli, J. J. Benattar, and D. Vital, Appl. Phys. Lett., 69, 1071 (1996). 10.1063/1.116934
2. S. T. Lee, Z. Q. Gao, and L. S. Hung, Appl. Phys. Lett., 75, 1404 (1999).
3. F. Li, H. Tang, J. Shinar, O. Resto, and S. Z. Weisz, Appl. Phys. Lett., 70, 2741 (1997).
4. C. C. Wu, C. I. Wu, J. C. Sturm, and A. Kahn, Appl. Phys. Lett., 70, 1348 (1997).
5. I. M. Chan, W. C. Cheng, and F. C. Hong, Appl. Phys. Lett., 80, 13 (2002).
6. S. K. So, W. K. Choi, C. H. Cheng, L. M. Leung, and C. F. Kwong, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process., A68, 447 (1999).
7. H. Y. Yu, X. D. Feng, D. Grozea, Z. H. Lu, R. N. S. Sodhi, A.-M. Hor, and H. Aziz, Appl. Phys. Lett., 78, 2595 (2001).
8. K. Ellmer, J. Phys. D: Appl. Phys., 33, R17 (2000). 10.1088/0022-3727/33/ 4/201 (Pubitemid 30556799)
9. G. J. Exarhos and X. D. Zhou, Thin Solid Films, 515, 7025 (2007). 10.1016/j.tsf.2007.03.014 (Pubitemid 46805101)
10. H. Kim, C. M. Gilmore, J. S. Horwitz, A. Pique, H. Murata, G. P. Kushto, R. Schlaf, Z. H. Kafafi, and D. B. Chrisey, Appl. Phys. Lett., 76, 259 (2000).
11. H. Kim, A. Piqu'e, J. S. Horwitz, H. Murata, Z. H. Kafafi, C. M. Gilmore, D. B. Chrisey, Thin Solid Films, 377-378, 798 (2000).
12. X. T. Hao, L. W. Tan, K. S. Ong, and F. Zhu, J. Cryst. Growth 287, 44 (2006). 10.1016/j.jcrysgro.2005.10.040 (Pubitemid 43038824)
13. T. W. Kim, D. C. Choo, Y. S. No, W. K. Choi, and E. H. Choi, Appl. Surf. Sci., 253, 1917 (2006).
14. X. T. Hao, F. R. Zhu, K. S. Ong, and L. W. Tan, Semicond. Sci. Technol., 21, 48 (2006).
15. S. T. Lee, X. Jiang, C. S. Lee, and F. L. Wong, U.S. Pat. 20030168973 (2003).
16. H. Kim, J. S. Horwitz, W. H. Kim, A. J. Makinen, Z. H. Kafafi, and D. B. Chrisey, Thin Solid Films, 420-421, 539 (2002).
17. H. Kim, J. S. Horwitz, W. H. Kim, S. B. Qadri, and Z. H. Kafafi, Appl. Phys. Lett., 83, 3809 (2003).
18. J. J. Lu, Y. M. Lu, S. I. Tasi, T. L. Hsiung, H. P. Wang, and L. Y. Jang, Opt. Mater., 29, 1548 (2007).
19. S. S. Lin, J. L. Huang, and D. F. Lii, Mater. Chem. Phys., 90, 22 (2005).
20. Y. M. Lu, C. M. Chang, S. I. Tsai, and T. S. Wey, Thin Solid Films, 447, 56 (2004).
21. Y. R. Park and K. J. Kim, Solid State Commun., 123, 147 (2002).
22. S. S. Lin, J. L. Huang, and D. F. Lii, Surf. Coat. Tech., 190, 372 (2005). 10.1016/j.surfcoat.2004.03.009 (Pubitemid 39615703)
23. P. C. Kao, S. Y. Chu, S. J. Liu, Z. X. You, and C. A. Chuang, J. Electrochem. Soc., 153, H122 (2006).
24. R. Ondo-Ndong, G. Ferblantier, M. Kalfioui, A. Boyer, and A. Foucaran, J. Cryst. Growth, 255, 130 (2003). 10.1016/S0022-0248(03)01243-0
25. R. C. Chang, S. Y. Chu, C. S. Hong, and Y. T. Chuang, Surf. Coat. Tech., 200, 3235 (2006).
26. G. Sanon, R. Rup, and A. Mansingh, Thin Solid Films, 190, 287 (1989). 10.1016/0040-6090(89)90918-8
27. S. K. So, W. K. Choi, C. H. Cheng, L. M. Leung, and C. F. Kwong, Appl. Phys., A68, 447 (1999).
28. Y. Han, D. Kim, J. S. Cho, Y. W. Beag, S. K. Koh, and V. S. Chernysh, J. Appl. Phys., 97, 024910 (2005).