Self-limiting film growth of transparent conducting In2O 3 by atomic layer deposition using trimethylindium and water vapor

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 115, Issue 31, 2011, Pages 15384-15389

  Lee, Do Joong ^a   Kwon, Jang Yeon ^a   Lee, Jae Il ^a   Kim, Ki Bum ^a  

^a Seoul National University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DEPOSITION TEMPERATURES; HIGH ASPECT RATIO; LANGMUIRS; PROCESSING WINDOWS; STEP COVERAGE; SURFACE ADSORPTION; TRIMETHYLINDIUM;

ADSORPTION; ASPECT RATIO; ATOMIC LAYER DEPOSITION; GALVANOMAGNETIC EFFECTS; HALL MOBILITY; MICROSTRUCTURAL EVOLUTION; VAPOR DEPOSITION; WATER VAPOR;

FILM GROWTH;

EID: 79961231677     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp2024389     Document Type: Article

References (43)

1. Nomura, K.; Ohta, H.; Takagi, A.; Kamiya, T.; Hirano, M.; Hosono, H. Nature 2004, 432, 488
2. Granqvist, C. G. Adv. Mater. 2003, 15, 1789
3. Li, C.; Zhang, D.; Liu, X.; Han, S.; Tang, T.; Han, J.; Zhou, C. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1613
4. Tahar, R. B. H.; Ban, T.; Ohya, Y.; Takahashi, Y. J. Appl. Phys. 1998, 83, 2631
5. Minami, T. Semicond. Sci. Technol. 2005, 20, S35
6. Kamiya, T.; Nomura, K.; Hosono, H. J. Disp. Technol. 2009, 5, 273
7. Kwon, J. Y.; Son, K. S.; Jung, J. S.; Kim, T. S.; Ryu, M. K.; Park, K. B.; Yoo, B. W.; Kim, J. W.; Lee, Y. G.; Park, K. C.; Lee, S. Y.; Kim, J. M. IEEE Electron Device Lett. 2008, 29, 1309
8. Kim, C.-J.; Kim, S.; Lee, J.-H.; Park, J.-S.; Kim, S.; Park, J.; Lee, E.; Lee, J.; Park, Y.; Kim, J. H.; Shin, S. T.; Chung, U.-I. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 252103
9. Kwon, J.-Y.; Lee, D.-J.; Kim, K.-B. Electron. Mater. Lett. 2011, 7, 1
10. Mizuhashi, M. Thin Solid Films 1980, 70, 91
11. Tahar, R. B. H.; Ban, T.; Ohya, Y.; Takahashi, Y. J. Appl. Phys. 1997, 82, 865
12. Asikainen, T.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Electromchem. Soc. 1994, 141, 3210
13. Ritala, M.; Asikainen, T.; Leskelä, M.; Skarp, J. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1996, 426, 513
14. Nilsen, O.; Balasundaraprabhu, R.; Monakhov, E. V.; Muthukumarasamy, N.; Fjellvåg, H.; Svensson, B. G. Thin Solid Films 2009, 517, 6320
15. Elam, J. W.; Martinson, A. B. F.; Pellin, M. J.; Hupp, J. T. Chem. Mater. 2006, 18, 3571
16. Ozasa, K.; Ye, T.; Aoyagi, Y. J. Vac. Sci. Technol. A 1994, 12, 120
17. Ott, A. W.; Johnson, J. M.; Klaus, J. W.; George, S. M. Appl. Surf. Sci. 1997, 112, 205
18. George, S. M. Chem. Rev. 2010, 110, 111
19. Martinson, A. B. F.; Elam, J. W.; Liu, J.; Pellin, J.; Marks, T. J.; Hupp, J. T. Nano Lett. 2008, 8, 2862
20. Kim, H.; Lee, H.-B.-R.; Maeng, W.-J. Thin Solid Films 2009, 517, 2563
21. Kim, H. J. Vac. Sci. Technol. B 2003, 21, 2231
22. Shenai-Khatkhate, D. V.; DiCarlo, R. L., Jr.; Ware, R. A. J. Cryst. Growth 2008, 310, 2395
23. Wang, C. Y.; Cimalla, V.; Romanus, H.; Kups, T.; Niebelschütz, M.; Ambacher, O. Thin Solid Films 2007, 515, 6611
24. Baucom, K. C.; Biefeld, R. M. Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 3021
25. Jeong, W. G.; Menu, E. P.; Dapkus, P. D. Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 244
26. Lee, D.-J.; Yim, S.-S.; Kim, K.-S.; Kim, S.-H.; Kim, K.-B. Electrochem. Solid-State Lett. 2008, 11, K61
27. Park, S.-H.; Kim, S.; Lee, D-.J.; Yun, S.; Khim, Z. G.; Kim, K.-B. J. Electochem. Soc. 2009, 156, K181
28. Groner, M. D.; Elam, J. W.; Fabreguette, F. H.; George, S. M. Thin Solid Films 2002, 413, 186
29. Dillon, A. C.; Ott, A. W.; Way, J. D.; George, S. M. Surf. Sci. 1995, 322, 230
30. Minami, T.; Sonohara, H.; Kakumu, T.; Takata, S. Jpn. J. Appl. Phys. 1995, 34, L971
31. Minami, T.; Kakumu, T.; Takeda, Y.; Takata, S. Thin Solid Films 1998, 317, 326
32. Pan, C. A.; Ma, T. P. Appl. Phys. Lett. 1980, 37, 163
33. Tarsa, E. J.; English, J. H.; Speck, J. S. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 2332
34. Leny, S.; Zunger, A. Phys. Rev. Lett. 2007, 98, 045501
35. Elam, J. W.; Baker, D. A.; Martinson, A. B. F.; Pellin, M. J.; Hupp, J. T. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 1938
36. Takahashi, Y.; Hayashi, H.; Ohya, Y. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1992, 271, 401
37. Meng, L.-j.; dos Santos, M. P. Thin Solid Films 1998, 322, 56
38. Wang, C.; Cimalla, V.; Cherkashinin, G.; Romanus, H.; Ali, N.; Ambacher, O. Thin Solid Films 2007, 515, 2921
39. Kim, N. H.; Myung, J. H.; Kim, H. W.; Lee, C. Phys. Stat. Sol. A 2005, 202, 108
40. Choi, S.-H.; Cheon, T.; Kim, S.-H.; Kang, D.-H.; Park, G.-S.; Kim, S. J. Electrochem. Soc. 2011, 158, D351
41. Hämäläinen, J.; Kemell, M.; Munnki, F.; Kreissig, U.; Ritala, M.; Leskelä, M. Chem. Mater. 2008, 20, 2903
42. Seto, J. Y. W. J. Appl. Phys. 1975, 46, 5247
43. Ellmer, K.; Mientus, R. Thin Solid Films 2008, 516, 4620