-
2
-
-
16244382410
-
-
Fortunato, E.; Barquinha, P.; Pimentel, A.; Gonçalves, A.; Marques, A.; Pereira, L.; Martins, R. Adv. Mater. 2005, 17, 590-594
-
(2005)
Adv. Mater.
, vol.17
, pp. 590-594
-
-
Fortunato, E.1
Barquinha, P.2
Pimentel, A.3
Gonçalves, A.4
Marques, A.5
Pereira, L.6
Martins, R.7
-
3
-
-
0038136910
-
-
Wager, J. F. Science 2003, 300, 1245-1246
-
(2003)
Science
, vol.300
, pp. 1245-1246
-
-
Wager, J.F.1
-
4
-
-
0001752760
-
-
Gong, H.; Wang, Y.; Luo, Y. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 3959-3961
-
(2000)
Appl. Phys. Lett.
, vol.76
, pp. 3959-3961
-
-
Gong, H.1
Wang, Y.2
Luo, Y.3
-
5
-
-
0036607416
-
-
Hidenori, H.; Masahiro, O.; Hirano, M.; Ueda, K.; Hosono, H. J. Appl. Phys. 2002, 91, 9177-9181
-
(2002)
J. Appl. Phys.
, vol.91
, pp. 9177-9181
-
-
Hidenori, H.1
Masahiro, O.2
Hirano, M.3
Ueda, K.4
Hosono, H.5
-
6
-
-
33845434349
-
-
Ohta, H.; Orita, M.; Hirano, M.; Yagi, I.; Ueda, K.; Hosono, H. J. Appl. Phys. 2002, 91, 3074-3078
-
(2002)
J. Appl. Phys.
, vol.91
, pp. 3074-3078
-
-
Ohta, H.1
Orita, M.2
Hirano, M.3
Yagi, I.4
Ueda, K.5
Hosono, H.6
-
7
-
-
33750482198
-
-
Vygranenko, Y.; Wang, K.; Nathan, A. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 172105-172107
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.89
, pp. 172105-172107
-
-
Vygranenko, Y.1
Wang, K.2
Nathan, A.3
-
8
-
-
52349113415
-
-
Chen, X.; Ruan, K.; Wu, G.; Bao, D. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 112112-112114
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.93
, pp. 112112-112114
-
-
Chen, X.1
Ruan, K.2
Wu, G.3
Bao, D.4
-
9
-
-
58149229408
-
-
Joseph, D. P.; Saravanan, M.; Muthuraaman, B.; Renugambal, P.; Sambasivam, S.; Raja, S. P.; Maruthamuthu, P.; Venkateswaran, C. Nanotechnology 2008, 19, 485707-485710
-
(2008)
Nanotechnology
, vol.19
, pp. 485707-485710
-
-
Joseph, D.P.1
Saravanan, M.2
Muthuraaman, B.3
Renugambal, P.4
Sambasivam, S.5
Raja, S.P.6
Maruthamuthu, P.7
Venkateswaran, C.8
-
10
-
-
31144455381
-
-
Joshi, U. S.; Matsumoto, Y.; Itaka, K.; Sumiya, M.; Koinuma, H. Appl. Surf. Sci. 2006, 252, 2524-2528
-
(2006)
Appl. Surf. Sci.
, vol.252
, pp. 2524-2528
-
-
Joshi, U.S.1
Matsumoto, Y.2
Itaka, K.3
Sumiya, M.4
Koinuma, H.5
-
11
-
-
50349085606
-
-
Jang, W. L.; Lu, Y. M.; Hwang, W. S.; Hsiung, T. L.; Wang, H. P. Surf. Coat. Technol. 2008, 202, 5444-5447
-
(2008)
Surf. Coat. Technol.
, vol.202
, pp. 5444-5447
-
-
Jang, W.L.1
Lu, Y.M.2
Hwang, W.S.3
Hsiung, T.L.4
Wang, H.P.5
-
12
-
-
34547687900
-
-
Min, K. C.; Kim, M.; You, Y. H.; Lee, S. S.; Lee, Y. K.; Chung, T. M.; Kim, C. G.; Hwang, J. H.; An, K. S.; Lee, N. S.; Kim, Y. Surf. Coat. Technol. 2007, 201, 9252-9255
-
(2007)
Surf. Coat. Technol.
, vol.201
, pp. 9252-9255
-
-
Min, K.C.1
Kim, M.2
You, Y.H.3
Lee, S.S.4
Lee, Y.K.5
Chung, T.M.6
Kim, C.G.7
Hwang, J.H.8
An, K.S.9
Lee, N.S.10
Kim, Y.11
-
13
-
-
33846785441
-
-
Reguig, B. A.; Khelil, A.; Cattin, L.; Morsli, M.; BerneÌde, J. C. Appl. Surf. Sci. 2007, 253, 4330-4334
-
(2007)
Appl. Surf. Sci.
, vol.253
, pp. 4330-4334
-
-
Reguig, B.A.1
Khelil, A.2
Cattin, L.3
Morsli, M.4
Berneìde, J.C.5
-
15
-
-
0003548707
-
-
Pergamon Press: Oxford, U.K. Vol. pp, 184 - 186.
-
Jarzebski, Z. M. Oxide Semiconductors; Pergamon Press: Oxford, U.K., 1973; Vol. 4, pp 150, 184-186.
-
(1973)
Oxide Semiconductors
, vol.4
, pp. 150
-
-
Jarzebski, Z.M.1
-
16
-
-
84866087096
-
-
Zheng, Z.; Li, N.; Wang, C. Q.; Li, D. Y.; Zhu, Y. M.; Wu, G. Int. J. Hydrogen Energy 2012, 37, 13921-13932
-
(2012)
Int. J. Hydrogen Energy
, vol.37
, pp. 13921-13932
-
-
Zheng, Z.1
Li, N.2
Wang, C.Q.3
Li, D.Y.4
Zhu, Y.M.5
Wu, G.6
-
17
-
-
0037228363
-
-
Yu, G. H.; Zhu, F. W.; Chai, C. L. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2003, 76, 45-47
-
(2003)
Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process.
, vol.76
, pp. 45-47
-
-
Yu, G.H.1
Zhu, F.W.2
Chai, C.L.3
-
19
-
-
0006305462
-
-
Tanaka, S.; Taniguchi, M.; Tanigawa, H. J. Nucl. Mater. 2000, 283-287, 1405-1408
-
(2000)
J. Nucl. Mater.
, vol.283-287
, pp. 1405-1408
-
-
Tanaka, S.1
Taniguchi, M.2
Tanigawa, H.3
-
20
-
-
12144288803
-
-
DedryveÌre, R.; Laruelle, S.; Grugeon, S.; Poizot, P.; Gonbeau, D.; Tarascon, J. M. Chem. Mater. 2004, 16, 1056-1061
-
(2004)
Chem. Mater.
, vol.16
, pp. 1056-1061
-
-
Dedryveìre, R.1
Laruelle, S.2
Grugeon, S.3
Poizot, P.4
Gonbeau, D.5
Tarascon, J.M.6
-
21
-
-
23844479304
-
-
Wu, Q. H.; Thissen, A.; Jaegermann, W. Appl. Surf. Sci. 2005, 250, 57-62
-
(2005)
Appl. Surf. Sci.
, vol.250
, pp. 57-62
-
-
Wu, Q.H.1
Thissen, A.2
Jaegermann, W.3
-
22
-
-
34547368249
-
-
Nandy, S.; Saha, B.; Mitra, M. K. J. Mater. Sci. 2007, 42, 5766-5772
-
(2007)
J. Mater. Sci.
, vol.42
, pp. 5766-5772
-
-
Nandy, S.1
Saha, B.2
Mitra, M.K.3
-
23
-
-
33846091074
-
-
- 124503-5
-
Chang, H. L.; Lu, T. C.; Kuo, H. C.; Wang, S. C. J. Appl. Phys. 2006, 100, 124503-124503-5
-
(2006)
J. Appl. Phys.
, vol.100
, pp. 124503
-
-
Chang, H.L.1
Lu, T.C.2
Kuo, H.C.3
Wang, S.C.4
-
27
-
-
77952473660
-
-
- 04C094
-
Cheong, W. S.; Yoon, S. M.; Shin, J. H.; Hwang, C. S. Jpn. J. Appl. Phys. 2009, 48, 04C090-04C094
-
(2009)
Jpn. J. Appl. Phys.
, vol.48
-
-
Cheong, W.S.1
Yoon, S.M.2
Shin, J.H.3
Hwang, C.S.4
-
28
-
-
70350339676
-
-
Jiang, M.; Liu, X.; Chen, G.; Cheng, J.; Zhou, X. J. Mater. Sci. 2009, 20, 1225-1228
-
(2009)
J. Mater. Sci.
, vol.20
, pp. 1225-1228
-
-
Jiang, M.1
Liu, X.2
Chen, G.3
Cheng, J.4
Zhou, X.5
-
29
-
-
0026238462
-
-
Sarkar, A.; Ghosh, S.; Chaudhuri, S.; Pal, A. K. Thin Solid Films 1991, 204, 255-264
-
(1991)
Thin Solid Films
, vol.204
, pp. 255-264
-
-
Sarkar, A.1
Ghosh, S.2
Chaudhuri, S.3
Pal, A.K.4
-
30
-
-
79952738343
-
-
Mistry, B. V.; Bhatt, P.; Bhavsar, K. H.; Trivedi, S. J.; Trivedi, U. N.; Joshi, U. S. Thin Solid Films 2011, 519, 3840-3843
-
(2011)
Thin Solid Films
, vol.519
, pp. 3840-3843
-
-
Mistry, B.V.1
Bhatt, P.2
Bhavsar, K.H.3
Trivedi, S.J.4
Trivedi, U.N.5
Joshi, U.S.6
-
31
-
-
80051788901
-
-
Tsai, S. Y.; Hon, M. H.; Lu, Y. M. Solid-State Electron. 2011, 63, 37-41
-
(2011)
Solid-State Electron.
, vol.63
, pp. 37-41
-
-
Tsai, S.Y.1
Hon, M.H.2
Lu, Y.M.3
-
32
-
-
84879073982
-
-
Pethuraja, G. G; Welser, R. E.; Sood, A. K.; Lee, C.; Alexander, N. J.; Efstathiadis, H.; Haldar, P.; Harvey, J. L. Adv. Mater. Phys. Chem. 2012, 2, 59-62
-
(2012)
Adv. Mater. Phys. Chem.
, vol.2
, pp. 59-62
-
-
Pethuraja, G.G.1
Welser, R.E.2
Sood, A.K.3
Lee, C.4
Alexander, N.J.5
Efstathiadis, H.6
Haldar, P.7
Harvey, J.L.8
-
33
-
-
0142153821
-
-
Wang, C. X.; Yang, G. W.; Zhang, T. C.; Liu, H. W.; Han, Y. H.; Luo, J. F.; Gao, C. X.; Zou, G. T. Diamond Relat. Mater. 2003, 12, 1548-1552
-
(2003)
Diamond Relat. Mater.
, vol.12
, pp. 1548-1552
-
-
Wang, C.X.1
Yang, G.W.2
Zhang, T.C.3
Liu, H.W.4
Han, Y.H.5
Luo, J.F.6
Gao, C.X.7
Zou, G.T.8
-
34
-
-
1542397816
-
-
Yilmaz, K.; Parlak, M.; Ercelebi, M. J. Mater. Sci. 2004, 15, 225-229
-
(2004)
J. Mater. Sci.
, vol.15
, pp. 225-229
-
-
Yilmaz, K.1
Parlak, M.2
Ercelebi, M.3
-
35
-
-
80052792195
-
-
Ghosh, S.; Hoogland, S.; Sukhovatkin, V.; Levina, L.; Sargent, E. H. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 101102-101104
-
(2011)
Appl. Phys. Lett.
, vol.99
, pp. 101102-101104
-
-
Ghosh, S.1
Hoogland, S.2
Sukhovatkin, V.3
Levina, L.4
Sargent, E.H.5
|