Effect of oxygen on characteristics of nickel oxideindium tin oxide heterojunction diodes

Journal of Applied Physics

Volumn 100, Issue 12, 2006, Pages

  Chang, Hung Lu ^a   Lu, T C ^a   Kuo, H C ^a   Wang, S C ^a  

^a NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; ELECTRIC RESISTANCE; HETEROJUNCTIONS; NICKEL COMPOUNDS; OXYGEN; THERMOGRAVIMETRIC ANALYSIS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

HETEROJUNCTION DIODES; NEGATIVE DIFFERENTIAL RESISTANCE (NDR); P-N JUNCTION DIODES; RECTIFYING DIODES;

SEMICONDUCTOR DIODES;

EID: 33846091074     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2404466     Document Type: Article

References (22)

1. N. Miura, J. Wang, M. Nakatou, P. Elumalai, and M. Hasei, Electrochem. Solid-State Lett. 8, H9 (2005).
2. H. Ohta, K. Kawamura, M. Orita, M. Hirano, N. Sarukura, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 77, 475 (2000).
3. R. L. Hoffman, B. J. Norris, and J. F. Wager, Appl. Phys. Lett. 82, 733 (2003).
4. X. L. Guo, J. H. Choi, H. Tabata, and T. Kawai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 40, L177 (2001).
5. H. Ohta, M. Hirano, K. Nakahara, H. Maruta, T. Tanabe, M. Kamiya, T. Kamiya, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 83, 1029 (2003).
6. W. Y. Lee, D. Mauri, and C. H. Wang, Appl. Phys. Lett. 72, 1584 (1998).
7. D. Adler and J. Feinleib, Phys. Rev. B 2, 3112 (1970).
8. A. Kudo, H. Yanagi, K. Ueda, H. Hosono, and H. Kawazoe, Appl. Phys. Lett. 75, 2851 (1999).
9. H. Kawazoe, M. Yasukawa, H. Hyodo, M. Kurita, H. Yanagi, and H. Hosono, Nature (London) 389, 939 (1997).
10. A. Kudo, H. Yanagi, H. Hosono, and H. Kawazoe, Appl. Phys. Lett. 73, 220 (1998).
11. H. Sato, T. Minami, S. Takata, and T. Yamada, Thin Solid Films 236, 27 (1993).
12. I. Bransky and N. M. Tallan, J. Chem. Phys. 49, 1243 (1968).
13. I. Riess, Phys. Rev. B 35, 5740 (1987).
14. M. Sugiura, K. Uragou, M. Tachiki, and T. Kobayashi, J. Appl. Phys. 90, 187 (2001).
15. T. Nakasaka, K. Urago, M. Sugiura, and T. Kobayashi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 40, L518 (2001).
16. G. Z. Yang, H. B. Lu, F. Chen, T. Zhao, and Z. H. Chen, J. Cryst. Growth 227-228, 929 (2001).
17. A. Rose, Phys. Rev. 97, 1538 (1955).
18. R. H. Jarman, J. Appl. Phys.. 60, 1210 (1986).
19. A. Agrawal, H. R. Habbi, R. K. Agrawal, T. P. Cronin, D. M. Roberts, S. Caron-Popowich, and C. M. Lampert, Thin Solid Films 221, 239 (1992).
20. K. S. Kim and N. Winograd, Surf. Sci. 43, 625 (1974).
21. M. Kitao, K. Izawa, K. Urabe, T. Komatsu, S. Kuwano, and S. Yamada, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 6656 (1994).
22. C. R. M. Grovenor, J. Phys. C 18, 4079 (1985).