Sub-10 nm feature size PS-b-PDMS block copolymer structures fabricated by a microwave-assisted solvothermal process

ACS Applied Materials and Interfaces

Volumn 5, Issue 6, 2013, Pages 2004-2012

  Borah, Dipu ^a,b,c   Shaw, Matthew T ^a,b,c,d   Holmes, Justin D ^a,b,c   Morris, Michael A ^a,b,c  

^a UNIVERSITY COLLEGE CORK   (Ireland)

^b TRINITY COLLEGE DUBLIN   (Ireland)

^c UNIVERSITY COLLEGE CORK   (Ireland)

^d Intel Ireland Ltd   (Ireland)

Author keywords

block copolymer; graphoepitaxy; microwave anneal; nanoscale patterns; plasma etching; polymer brush; self assembly; silicon nitride substrate; solvothermal process

Indexed keywords

GRAPHOEPITAXY; MICROWAVE ANNEAL; NANO-SCALE PATTERNS; POLYMER BRUSHES; SOLVOTHERMAL PROCESS;

ALIGNMENT; BLOCK COPOLYMERS; MICROCHANNELS; PLASMA ETCHING; POLYSTYRENES; SILICON NITRIDE; SILICONES; SUBSTRATES;

SELF ASSEMBLY;

EID: 84875718900     PISSN: 19448244     EISSN: 19448252     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/am302830w     Document Type: Article

References (46)

1. Park, S.; Kim, B.; Xu, J.; Hofmann, T.; Ocko, B. M.; Russell, T. P. Macromolecules 2009, 42, 1278-1284
2. International Technology Roadmap for Semiconductors 2007, Emerging Research Materials Semiconductor Industry Association: San Jose, CA, 2007.
3. Harriott, L. Proc. IEEE 2001, 89, 366-374
4. Ito, T.; Okazaki, S. Nature 2000, 406, 1027-1031
5. Broers, A. N. IBM J. Res. Dev. 1988, 32, 502-513
6. Black, C. T. ACS Nano 2007, 1, 147-150
7. Hamley, I. W. The Physics of Block Copolymers; Oxford University Press: New York, 1998.
8. Holden, G.; Legge, N. R.; Schroeder, H. E.; Quirk, R. P. Thermoplastic Elastomers; Hanser: New York, 1987.
9. Park, S. M.; Liang, X.; Harteneck, B. D.; Pick, T. E.; Hiroshiba, N.; Wu, Y.; Helms, B. A.; Olynick, D. L. ACS Nano 2011, 5, 8523-8531
10. Jeong, S. J.; Kim, J. E.; Moon, H. S.; Kim, B. H.; Kim, S. M.; Kim, J. B.; Kim, S. O. Nano Lett. 2009, 9, 2300-2305
11. Park, S. M.; Stoykovich, M. P.; Ruiz, R.; Zhang, Y.; Black, C. T.; Nealey, P. F. Adv. Mater. 2007, 19, 607-611
12. Ruiz, R.; Ruiz, N.; Zhang, Y.; Sandstrom, R. L.; Black, C. T. Adv. Mater. 2007, 19, 2157-2162
13. Xiao, S.; Yang, X. M.; Edwards, E. W.; La, Y. -H.; Nealey, P. F. Nanotechnology 2005, 16, S324-S329
14. Segalman, R. A.; Yokoyama, H.; Kramer, E. J. Adv. Mater. 2001, 13, 1152-1155
15. Rasappa, S.; Borah, D.; Senthamaraikannan, R.; Faulkner, C. M.; Shaw, M. T.; Gleeson, P.; Holmes, J. D.; Morris, M. A. Thin Solid Films 2012, 522, 318-323
16. Farrell, R. A.; Kinahan, N. T.; Hansel, S.; Stuen, K. O.; Petkov, N.; Shaw, M. T.; West, L. E.; Djara, V.; Dunne, R. J.; Varona, O. G.; Gleeson, P. G.; Jung, S. -J.; Kim, H. -Y.; Kolesnik, M. M.; Lutz, T.; Murray, C. P.; Holmes, J. D.; Nealey, P. F.; Duesberg, G. S.; Krstić, V. K.; Morris, M. A. Nanoscale 2012, 4, 3228-3236
17. Borah, D.; Shaw, M. T.; Rasappa, S.; Farrell, R. A.; O'Mahony, C.; Faulkner, C. M.; Bosea, M.; Gleeson, P.; Holmes, J. D.; Morris, M. A. J. Phys. D: Appl. Phys. 2011, 44, 174012-174023
18. Farrell, R. A.; Fitzgerald, T. G.; Borah, D.; Holmes, J. D.; Morris, M. A. Int. J. Mol. Sci. 2009, 10, 3671-3712
19. Bang, J.; Jeong, U.; Ryu, D. Y.; Russell, T. P.; Hawker, C. J. Adv. Mater. 2009, 21, 4769-4792
20. Chai, J.; Wang, D.; Fan, X.; Buriak, J. M. Nat. Nanotechnol. 2007, 2, 500-506
21. Hobbs, R. G.; Farrell, R. A.; Bolger, C. T.; Kelly, R. A.; Morris, M. A.; Petkov, N.; Holmes, J. D. ACS Appl. Mater. Interfaces 2012, 4, 4637-4642
22. Jung, Y. S.; Chang, J. B.; Verploegen, E.; Berggren, K. K.; Ross, C. A. Nano Lett. 2010, 10, 1000-1005
23. Jung, Y. S.; Lee, J. H.; Lee, J. Y.; Ross, C. A. Nano Lett. 2010, 10, 3722-3726
24. Jung, Y. S.; Ross, C. A. Adv. Mater. 2009, 21, 2540-2545
25. Bita, I.; Wang, J. K. W.; Jung, Y. S.; Ross, C. A.; Thomas, E. L.; Berggren, K. K. Science 2008, 321, 939-943
26. Jung, Y. S.; Jung, W.; Ross, C. A. Nano Lett. 2008, 8, 2975-2981
27. Ross, C. A.; Jung, Y. S.; Chuang, V. P.; Llievski, F.; Yang, J. K. W.; Bita, I.; Thomas, E. L.; Smith, H. I.; Berggren, K. K.; Vancso, G. J.; Cheng, J. Y. J. Vac. Sci. Technol. B 2008, 26, 2489-2494
28. Jung, Y. S.; Ross, C. A. Nano Lett. 2007, 7, 2046-2050
29. Brinkmann, M.; Chan, V. Z. H.; Thomas, E. L.; Lee, V. L.; Miller, R. D.; Hadjichristids, N.; Avgeropoulos, A. Chem. Mater. 2001, 13, 967-972
30. Nose, T. Polymer 1995, 36, 2243-2248
31. Chang, J. -B.; Son, J. G.; Hannon, A. F.; Alexander-Katz, A.; Ross, C. A.; Berggren, K. K. ACS Nano 2012, 6, 2071-2077
32. Son, J. G.; Chang, J. -B.; Berggren, K. K.; Ross, C. A. Nano Lett. 2011, 11, 5079-5084
33. Voet, V. S. D.; Pick, T. E.; Park, S. -M.; Moritz, M.; Hammack, A. T.; Urban, J. J.; Ogletree, D. F.; Olynick, D. L.; Helms, B. A. J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 2812-2815
34. Zhang, X.; Murphy, J. N.; Wu, N. L. Y.; Harris, K. D.; Buriak, J. M. Macromolecules 2011, 44, 9752-9757
35. Zhang, X.; Harris, K. D.; Wu, N. L. Y.; Murphy, J. N.; Buriak, J. M. ACS Nano 2010, 4, 7021-7029
36. Kirk, C. T. Phys. Rev. B 1998, 38, 1255-1273
37. Hsieh, I. -F.; Sun, H. -J.; Fu, Q.; Lotz, B.; Cavicchi, K. A.; Cheng, S. Z. D. Soft Matter 2012, 8, 7937-7944
38. Wang, Y.; Hong, X.; Liu, B.; Ma, C.; Zhang, C. Macromolecules 2008, 41, 5799-5808
39. Wang, Z.; Li, B.; Jin, Q.; Ding, D.; Shi, A.-C. Macromol. Theory Simul. 2008, 17, 301-312
40. Wang, Y.; Tong, L.; Steinhart, M. ACS Nano 2011, 5, 1928-1938
41. Tsarkova, L.; Sevink, G. J. A.; Krausch, G. Adv. Polym. Sci. 2010, 227, 33-73
42. Ebnesajjad, S. Fluoroplastics: Non-Melt Processible Fluoroplastics; Plastics Digital Library: Norwich, NY, 2000; Vol. 1, p 27.
43. Jeong, J. W.; Park, W. I.; Do, L. -M.; Park, J. -H.; Kim, T. -H.; Chae, G.; Jung, Y. S. Adv. Mater. 2012, 24, 3526
44. Kwong, D. -L. Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II: Proceedings of the International Symposium; The Electrochemical Society: Pennington, NJ, 2001.
45. Zohm, H.; Kasper, E.; Mehringer, P.; Muller, G. A. Microelectron. Eng. 2000, 54, 247-253
46. Fitzgerald, T. G.; Farrell, R. A.; Petkov, N.; Bolger, C. T.; Shaw, M. T.; Charpin, J. P. F.; Gleeson, J. P.; Holmes, J. D.; Morris, M. A. Langmuir 2009, 25, 13551-13560