Electrodeposition of long-chain alkylaryl layers on Au surfaces

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 116, Issue 32, 2012, Pages 17048-17054

  Lin, Sun ^a   Lin, Ching Wei ^a   Jhang, Jin Hao ^a   Hung, Wei Hsiu ^a  

^a NATIONAL TAIWAN NORMAL UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADLAYERS; AFM; ALKYL CHAIN; ARYL RINGS; ATOMIC FORCE MICROSCOPE (AFM); ATTENUATED-TOTAL-REFLECTION; ATTENUATION FACTORS; AU SURFACES; CONDUCTIVE AFM; DIAZONIUM CATIONS; ELECTRO REDUCTION; HYDROPHOBIC CHARACTER; IN-SITU; INFRARED SPECTRUM; LOW VOLTAGES; MOLECULAR LENGTH; NON-RESONANT TUNNELING; WATER CONTACT ANGLE; X RAY PHOTOELECTRON SPECTRA;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CONTACT ANGLE; ELECTRIC BREAKDOWN; ELECTRODEPOSITION; ELECTROLYTIC REDUCTION; SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETRY; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

CURRENT VOLTAGE CHARACTERISTICS;

EID: 84865146289     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp304502e     Document Type: Article

References (70)

1. DiBenedetto, S. A.; Facchetti, A.; Ratner, M. A.; Marks, T. J. Adv. Mater. 2009, 21, 1407-1433
2. Green, J. E.; Choi, J. W.; Boukai, A.; Bunimovich, Y.; Johnston-Halperin, E.; DeIonno, E.; Luo, Y.; Sheriff, B. A.; Xu, K.; Shin, Y. S. Nature 2007, 445, 414-417
3. Nijhuis, C. A.; Reus, W. F.; Siegel, A. C.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 15397-15411
4. Metzger, R. M. Chem. Rev. 2003, 103, 3803-3834
5. Halik, M.; Klauk, H.; Zschieschang, U.; Schmid, G.; Dehm, C.; Schutz, M.; Maisch, S.; Effenberger, F.; Brunnbauer, M.; Stellacci, F. Nature 2004, 431, 963-966
6. Vuillaume, D.; Boulas, C.; Collet, J.; Davidovits, J. V.; Rondelez, F. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 1646-1648
7. Robert, G.; Derycke, V.; Goffman, M. F.; Lenfant, S.; Vuillaume, D.; Bourgoin, J. P. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 143117
8. Kagan, C. R.; Afzali, A.; Martel, R.; Gignac, L. M.; Solomon, P. M.; Schrott, A. G.; Ek, B. Nano Lett. 2003, 3, 119-124
9. De Venuto, D.; Carrara, S.; Ricco, B. Microelectron. J. 2009, 40, 1358-1365
10. Daniels, J. S.; Pourmand, N. Electroanalysis 2007, 19, 1239-1257
11. Liu, Z. M.; Yasseri, A. A.; Lindsey, J. S.; Bocian, D. F. Science 2003, 302, 1543-1545
12. de Boer, B.; Hadipour, A.; Mandoc, M. M.; van Woudenbergh, T.; Blom, P. W. M. Adv. Mater. 2005, 17, 621-625
13. Lindsey, J. S.; Bocian, D. F. Acc. Chem. Res. 2011, 44, 638-650
14. Tulevski, G. S.; Miao, Q.; Fukuto, M.; Abram, R.; Ocko, B.; Pindak, R.; Steigerwald, M. L.; Kagan, C. R.; Nuckolls, C. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 15048-15050
15. Wang, G.; Kim, T. W.; Jo, G.; Lee, T. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 5980-5985
16. Song, H.; Lee, H.; Lee, T. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 3806-3807
17. Salomon, A.; Cahen, D.; Lindsay, S.; Tomfohr, J.; Engelkes, V. B.; Frisbie, C. D. Adv. Mater. 2003, 15, 1881-1890
18. Engelkes, V. B.; Beebe, J. M.; Frisbie, C. D. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 14287-14296
19. Ramachandran, G. K.; Hopson, T. J.; Rawlett, A. M.; Nagahara, L. A.; Primak, A.; Lindsay, S. M. Science 2003, 300, 1413-1416
20. Nitzan, A.; Ratner, M. A. Science 2003, 300, 1384-1389
21. Wold, D. J.; Frisbie, C. D. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 5549-5556
22. Wang, G.; Kim, T. W.; Jang, Y. H.; Lee, T. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 13010-13016
23. Selzer, Y.; Salomon, A.; Cahen, D. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 2886-2887
24. Pinson, J.; Podvorica, F. Chem. Soc. Rev. 2005, 34, 429-439
25. Aswal, D. K.; Koiry, S. P.; Jousselme, B.; Gupta, S. K.; Palacin, S.; Yakhmi, J. V. Physica E 2009, 41, 325-344
26. Belanger, D.; Pinson, J. Chem. Soc. Rev. 2011, 40, 3995-4048
27. Mahouche-Chergui, S.; Gam-Derouich, S.; Mangeney, C.; Chehimi, M. M. Chem. Soc. Rev. 2011, 40, 4143-4166
28. Bernard, M. C.; Chausse, A.; Cabet-Deliry, E.; Chehimi, M. M.; Pinson, J.; Podvorica, F.; Vautrin-Ul, C. Chem. Mater. 2003, 15, 3450-3462
29. Delamar, M.; Hitmi, R.; Pinson, J.; Saveant, J. M. J. Am. Chem. Soc. 1992, 114, 5883-5884
30. Boukerma, K.; Chehimi, M. M.; Pinson, J.; Blomfield, C. Langmuir 2003, 19, 6333-6335
31. Hurley, B. L.; McCreery, R. L. J. Electrochem. Soc. 2004, 151, B252-B259
32. Laurentius, L.; Stoyanov, S. R.; Gusarov, S.; Kovalenko, A.; Du, R.; Lopinski, G. P.; McDermott, M. T. ACS Nano 2011, 5, 4219-4227
33. Baranton, S.; Belanger, D. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 24401-24410
34. Downard, A. J. Electroanalysis 2000, 12, 1085-1096
35. Flavel, B. S.; Gross, A. J.; Garrett, D. J.; Nock, V.; Downard, A. J. ACS Appl. Mater. Interfaces 2010, 2, 1184-1190
36. Salmi, Z.; Gam-Derouich, S.; Mahouche-Chergui, S.; Turmine, M.; Mohamed, M.; Chehimi, M. M. Chem. Pap. 2012, 66, 369-391
37. Mirkhalaf, F.; Graves, J. E. Chem. Pap. 2012, 66, 472-483
38. McCreery, R. L. Chem. Rev. 2008, 108, 2646-2687
39. Gam-Derouich, S.; Mahouche-Chergui, S.; Turmine, M.; Piquemal, J. Y.; Hassen-Chehimi, D. B.; Omastová, M.; Mohamed, M.; Chehimi, M. M. Surf. Sci. 2011, 605, 1889-1899
40. Liu, G. Z.; Liu, J. Q.; Bocking, T.; Eggers, P. K.; Gooding, J. J. Chem. Phys. 2005, 319, 136-146
41. Shewchuk, D. M.; McDermott, M. T. Langmuir 2009, 25, 4556-4563
42. Lyskawa, J.; Belanger, D. Chem. Mater. 2006, 18, 4755-4763
43. Breton, T.; Belanger, D. Langmuir 2008, 24, 8711-8718
44. Kongsfelt, M.; Vinther, J.; Malmos, K.; Ceccato, M.; Torbensen, K.; Knudsen, C. S.; Gothelf, K. V.; Pedersen, S. U.; Daasbjerg, K. J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 3788-3791
45. Wold, D. J.; Frisbie, C. D. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 2970-2971
46. Gui, A. L.; Liu, G. Z.; Chockalingam, M.; Le Saux, G.; Luais, E.; Harper, J. B.; Gooding, J. J. Electroanalysis 2010, 22, 1824-1830
47. Brooksby, P. A.; Downard, A. J. Langmuir 2004, 20, 5038-5045
48. Benedetto, A.; Balog, M.; Viel, P.; Le Derf, F.; Salle, M.; Palacin, S. Electrochim. Acta 2008, 53, 7117-7122
49. Koiry, S. P.; Aswal, D. K.; Saxena, V.; Padma, N.; Chauhan, A. K.; Joshi, N.; Gupta, S. K.; Yakhmi, J. V.; Guerin, D.; Vuillaume, D. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 113118
50. Koiry, S. P.; Aswal, D. K.; Chauhan, A. K.; Saxena, V.; Nayak, S. K.; Gupta, S. K.; Yakhmi, J. V. Chem. Phys. Lett. 2008, 453, 68-72
51. Lee, S.; Ishizaki, T.; Saito, N.; Takai, O. Jpn. J. Appl. Phys. 2008, 47, 6442-6447
52. Porter, M. D.; Bright, T. B.; Allara, D. L.; Chidsey, C. E. D. J. Am. Chem. Soc. 1987, 109, 3559-3568
53. Snyder, R. G.; Maroncelli, M.; Strauss, H. L.; Hallmark, V. M. J. Phys. Chem. 1986, 90, 5623-5630
54. Gam-Derouich, S.; Nguyen, M. N.; Madani, A.; Maouche, N.; Lang, P.; Perruchot, C.; Chehimi, M. M. Surf. Interface Anal. 2010, 42, 1050-1056
55. Gam-Derouich, S.; Carbonnier, B.; Turmine, M.; Lang, P.; Jouini, M.; Hassen-Chehimi, D. B.; Chehimi, M. M. Langmuir 2010, 26, 11830-11840
56. Gam-Derouich, S.; Lamouri, A.; Redeuilh, C.; Decorse, P.; Maurel, F.; Carbonnier, B.; Beyazit, S.; Yilmaz, G.; Yagci, Y.; Chehimi, M. M. Langmuir 2012, 28, 8035-8045
57. Combellas, C.; Kanoufi, F.; Pinson, J.; Podvorica, F. I. Langmuir 2005, 21, 280-286
58. Adenier, A.; Combellas, C.; Kanoufi, F.; Pinson, J.; Podvorica, F. I. Chem. Mater. 2006, 18, 2021-2029
59. Wang, Y. L.; Lieberman, M. Langmuir 2003, 19, 1159-1167
60. Song, H.; Lee, H.; Lee, T. Ultramicroscopy 2008, 108, 1196-1199
61. Aswal, D. K.; Lenfant, S.; Guerin, D.; Yakhmi, J. V.; Vuillaume, D. Small 2005, 1, 725-729
62. Haag, R.; Rampi, M. A.; Holmlin, R. E.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 7895-7906
63. Cui, X. D.; Zarate, X.; Tomfohr, J.; Sankey, O. F.; Primak, A.; Moore, A. L.; Moore, T. A.; Gust, D.; Harris, G.; Lindsay, S. M. Nanotechnology 2002, 13, 5-14
64. Aswal, D. K.; Lenfant, S.; Guerin, D.; Yakhmi, J. V.; Vuillaume, D. Anal. Chim. Acta 2006, 568, 84-108
65. Wang, G.; Kim, T. W.; Lee, H.; Lee, T. Phys. Rev. B 2007, 76, 205320
66. Kim, B.; Beebe, J. M.; Jun, Y.; Zhu, X. Y.; Frisbie, C. D. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 4970-4971
67. Simmons, J. G. J. Appl. Phys. 1963, 34, 1793-1803
68. Wang, W. Y.; Lee, T.; Reed, M. A. Phys. Rev. B 2003, 68, 035416
69. Liu, R.; Ke, S. H.; Baranger, H. U.; Yang, W. T. J. Chem. Phys. 2005, 122, 044703
70. Slowinski, K.; Chamberlain, R. V.; Miller, C. J.; Majda, M. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 11910-11919