Zirconocene Alkoxides, promising precursors for MOCVD of zirconium dioxide thin films

Chemical Vapor Deposition

Volumn 18, Issue 4-6, 2012, Pages 151-158

  Sartori, Andrea ^a   El Habra, Naida ^a,b   De Zorzi, Chiara ^a   Sitran, Sergio ^a   Casarin, Maurizio ^b   Cavinato, Gianni ^b   Sada, Cinzia ^b   Gerbasi, Rosalba ^a   Rossetto, Gilberto ^a  

^a CNR   (Italy)

^b UNIVERSITY OF PADOVA   (Italy)

Author keywords

MOCVD; Nanohardness; Thin films; Zirconium oxide; Zirconocene alkoxides

Indexed keywords

AISI 316; ALKOXIDES; BERKOVICH HARDNESS; COATED SAMPLE; CRYSTALLOGRAPHIC STUDIES; ELASTIC RECOVERY; HIGH QUALITY; METAL-ORGANIC; NANOINDENTATION TESTS; SI(1 0 0); TERT BUTANOL; THERMOGRAVIMETRIC MEASUREMENT; TRIETHYLAMINES; ZIRCONIUM ALKOXIDES; ZIRCONIUM DIOXIDE THIN FILMS; ZIRCONOCENES;

CHEMICAL ANALYSIS; DEPOSITION; HARDNESS; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; NANOHARDNESS; NUCLEAR MAGNETIC RESONANCE SPECTROSCOPY; REACTION INTERMEDIATES; SECONDARY ION MASS SPECTROMETRY; SUBSTRATES; THIN FILMS; X RAY DIFFRACTION; ZIRCONIA; ZIRCONIUM COMPOUNDS;

ZIRCONIUM;

EID: 84862135161     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.201106950     Document Type: Article

References (57)

1. J. Niinistö, A. Rahtu, M. Putkonen, M. Ritala, M. Leskelä, L. Niinistö, Langmuir 2005, 21, 7321.
2. G. D. Wilk, R. M. Wallace, J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243.
3. A. Knell, P. Barnickel, A. Baiker, A. Wokaun, J. Catal. 1992, 137, 306.
4. W. H. Lowdermilk, D. Milam, F. Rainer, Thin Solid Films 1980, 73, 155.
5. V. K. Khanna, R. K. Nahar, Appl. Surf. Sci. 1987, 28, 247.
6. K.-W. Chour, J. Chen, R. Xu, Thin Solid Films 1997, 304, 106.
7. G. Bertrand, M. Mévrel, Thin Solid Films 1997, 292, 241.
8. M. Pakala, H. Walls, R. Y. Lin, J. Am. Ceram. Soc. 1997, 80, 1477.
9. W. Beele, G. Marijnissen, A. van Lieshout, Surf. Coat. Technol. 1999, 120, 61.
10. G. Reßie, B. Keiper, S. Weißmantel, H. Johansen, R. Scholz, T. Martini, Thin Solid Films 1994, 241, 119.
11. A. K. Jonsson, G. A. Niklasson, M. Veszelei, Thin Solid Films 2002, 402, 242.
12. S.-W. Yeh, H.-L. Huang, D. Gan, P. Shen, J. Phys. Chem. C 2007, 111, 9437.
13. G. Ehrhart, B. Capoen, O. Robbe, Ph. Boy, S. Turrell, M. Bouazaoui, Thin Solid Films 2006, 496, 227.
14. Y. Sorek, M. Zevin, R. Reisfeld, T. Hurvits, S. Ruschin, Chem. Mater. 1997, 9, 670.
15. D. M. Soolaman, H.-Z. Yu, J. Phys. Chem. C 2007, 111, 14157.
16. D. M. Hausmann, E. Kim, J. Becker, R. G. Gordon, Chem. Mater. 2002, 14, 4350.
17. M. Cassir, F. Goubin, C. Bernay, P. Vernoux, D. Lincot, Appl. Surf. Sci. 2002, 193, 120.
18. M. Ritala, M. Leskelä, Appl. Surf. Sci. 1994, 75, 333.
19. S.-J. Won, J.-Y. Kim, G.-J. Choi, J. Heo, C. S. Hwang, H. J. Kim, Chem. Mater. 2009, 21, 4374.
20. R. C. Smith, T. Ma, N. Hoilien, L. Y. Tsung, M. J. Bevan, L. Colombo, J. Roberts, S. A. Campbell, W. L. Gladfelter, Adv. Mater. Opt. Electron. 2000, 10, 105.
21. G. Carta, N. El Habra, G. Rossetto, P. Zanella, M. Casarin, D. Barreca, C. Maragno, E. Tondello, Surf. Coat. Technol. 2007, 201, 9289.
22. M. Balog, M. Schieber, S. Patai, M. Michman, J. Cryst. Growth 1972, 17, 298.
23. M. Morstein, Inorg. Chem. 1999, 38, 125.
24. S. V. Pasko, A. Abrutis, L. G. Hubert-Pfalzgraf, Mater. Lett. 2005, 59, 261.
25. D. J. Burleson, J. T. Roberts, W. L. Gladfelter, S. A. Campbell, R. C. Smith, Chem. Mater. 2002, 14, 1269.
26. J.J. Gallegos III, T. L. Ward, T. J. Boyle, M. A. Rodriguez, L. P. Francisco, Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 21.
27. P. A. Williams, J. L. Roberts, A. C. Jones, P. R. Chalker, J. F. Bickley, A. Steiner, H. O. Davies, T. J. Leedham, J. Mater. Chem. 2002, 12, 165.
28. A. C. Jones, Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 169.
29. D. C. Bradley, R. C. Mehrotra, D. P. Gaur, Metal Alkoxide, Academic Press, New York 1978.
30. D. R. Gray, C. H. Brubaker, Inorg. Chem. 1971, 10, 2143.
31. E. Hey-Hawkins, Chem. Rev. 1994, 94, 1661.
32. G. Carta, N. El Habra, G. Rossetto, L. Crociani, G. Torzo, P. Zanella, M. Casarin, G. Cavinato, G. Pace, S. Kaciulis, A. Mezzi, Thin Solid Films 2008, 516, 7354.
33. K. Black, H. C. Aspinall, A. C. Jones, K. Przybylak, J. Bacsa, P. R. Chalker, S. Taylor, C.-Z. Zhao, S. D. Elliott, A. Zydor, P. N. Heys, J. Mater. Chem. 2008, 18, 4561.
34. R. Pothiraja, A. Milanov, H. Parala, M. Winter, R. A. Fischer, A. Devi, Dalton Trans. 2009, 4, 654.
35. C. P. Yeh, M. Lisker, V. Vezin, B. Seitzinger, P. K. Baumann, B. Garke, J. Blasing, A. Krost, E. P. Burte, Integrated Ferroelectrics 2008, 104, 16.
36. E. Maslowsky, Vibrational Spectra of Organometallic Compounds, Wiley-Interscience, New York 1977.
37. C. T. Lynch, K. S. Mazdiyasni, J. S. Smith, W. J. Crawford, Anal. Chem. 1964, 36, 2332.
38. P. L. Stanghellini, E. Diana, E. Boccaleri, R. Rossetti, J. Organomet. Chem. 2000, 593, 36.
39. J. L. Eilertsen, J. A. Stà vneng, M. Ystenes, E. Rytter, Inorg. Chem. 2005, 44, 4843.
40. J. Y. Corey, X.-H. Zhu, L. Brammer, N. P. Rath, Acta Cryst. 1995, C51, 565.
41. T. Repo, M. Klinga, I. Mutikainen, Y. Su, M. Leskelä, M. Polamo, Acta Chem. Scand. 1996, 50, 1116.
42. A. V. Flirth, J. C. Stewart, A. J. Hoskin, D. W. Stephan, J. Organomet. Chem. 1999, 591, 185.
43. F. H. Allen, Acta Cryst. 2002, B58, 380.
44. J. I. Amor, N. C. Burton, T. Cuenca, P. Gõmez-Sal, P. Royo, J. Organomet. Chem. 1995, 485, 153.
45. J. A. Samuels, E. B. Lobkovsky, W. E. Streib, K. Folting, J. C. Huffman, J. W. Zwanziger, K. G. Caulton, J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 5093.
46. A. V. Firth, J. C. Steward, A. J. Hoskin, D. W. Stephan, J. Organomet. Chem. 1999, 591, 185.
47. R. C. Garvie, J. Phys. Chem. 1965, 69, 1238.
48. J.-H. Ahn, D. Kwon, Mater. Sci. Engineer. A 2000, 285, 172.
49. A. T. C. North, D. C. Philips, F. S. Mathews, Acta Cryst. 1968, A24, 351.
50. A. Altomare, M. C. Burla, M. Camalli, G. L. Cascarano, C. Giacovazzo, A. Guagliardi, A. G. G. Moliterni, G. Polidori, R. Spagna, "SIR-97" J. Appl. Cryst. 1999, 32, 115.
51. G. M. Sheldrick, "SHELXL-97", Program for the Refinement of Crystal Structures, University of Göttingen, Germany 1997.
52. L. J. Farrugia, J. Appl. Cryst. 1999, 32, 837.
53. C. P. Casey, R. F. Jordan, A. L. Rheingold, J. Am. Chem. 1983, 105, 665.
54. K. I. Gell, J. Schwartz, Inorg. Chem. 1980, 19, 3207.
55. A. Sartori, N. El Habra, M. Bolzan, G. Rossetto, S. Sitran, D. Barreca, A. Gasparotto, M. Casarin, Chem. Mater. 2011, 23, 1113.
56. D. R. Lide, Handbook of Chemistry and Physics, 72nd Edition, CRC Press, USA, 1991-92, p. 4.
57. W. C. Oliver, G. M. Pharr, J. Mater. Res. 1992, 7, 1564.