MOCVD of Electroceramic Oxides: A Precursor Manufacturer's Perspective

Chemical Vapor Deposition

Volumn 4, Issue 5, 1998, Pages 169-179

  Jones, Anthony C ^a  

^a Inorgtech Limited   (United Kingdom)

Author keywords

Metal organic chemical vapor deposition; Metal oxide thin films; Precursors

Indexed keywords

EID: 0345910552     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/(sici)1521-3862(199810)04:05<169::aid-cvde169>3.3.co;2-y     Document Type: Review

References (65)

1. "Electroceramic Thin Films", Parts I and II, MRS Bull. 1996, 21(6,7).
2. S. Krupandhi, N. Maffeo, M. Sayer, K. El-Assel, J. Appl. Phys. 1983, 54, 6601.
3. K. Sreenivas, M. Sayer, D. J. Baar, M. Nishioka, Appl. Phys. Lett. 1988, 52, 709.
4. K. Saenger, R. Roy, K. Etzold, J. Cuomo, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1991, 200, 115.
5. R. Ramesh, A. Inam, W. K. Chan, F. Tillerot, B. Wilkens, C. C. Chang, T. Sands, J. M. Tarascon, V. G. Keramidas, Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 3542.
6. K. D. Budd, S. K. Dey, D. A. Payne, Br. Ceram. Soc. Proc. 1985, 36, 107.
7. R. W. Vest, J. Xu, Ferroelectrics 1989, 93, 21.
8. C. H. Peng, S. B. Desu, J. Am. Ceram. Soc. 1994, 77, 1799.
9. M. Okada, K. Tominaga, T. Araki, S. Katayama, Y. Sakashita, Jpn. J. Appl. Phys. 1990, 29, 718.
10. W. Tao, S. B. Desu, T. K. Li, Mater. Lett. 1995, 23, 177.
11. M. de Keijser, G. J. M. Dormans, J. F. M. Cillessen, D. M. de Leeuw, H. W. Zandbergen, Appl. Phys. Lett. 1991, 58, 2636.
12. M. Tiitta, L. Niinisto, Chem. Vap. Deposition 1997, 3, 167.
13. R. A. Gardiner, P. C. van Buskirk, P. S. Kirlin, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1994, 335, 221.
14. I. M. Watson, Chem. Vap. Deposition 1997, 3, 9.
15. G. K. Schweitzer, B. P. Pullen, Y. H. Fang, Anal. Chim. Acta 1968, 43, 332.
16. K. Timmer, C. I. M. A. Spee, A. Mackor, H. A. Meinema, A. L. Spek, P. van Sluis, Inorg. Chim. Acta 1991, 190, 109.
17. D. C. Bradley, R. C. Mehrotra, D. P. Gaur, Metal Alkoxides, Academic Press, New York 1978.
18. B. S. Kwak, E. P. Boyd, A. Erbil, Appl. Phys. Lett. 1988, 53, 1702.
19. Y. Sakashita, T. Ono, H. Segawa, K. Tominaga, M. Okada, J. Appl. Phys. 1991, 69, 8352.
20. M. Shimizu, M. Sugiyama, H. Fujisawa, T. Shiosaki, Int. Ferroelectrics 1995, 6, 155.
21. H. J. Frenck, E. Oesterschulze, R. Beckmann, W. Kulisch, G. Gassing, Mater. Sci. Eng. A 1991, 139, 394.
22. T. J. Leedham, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1996, 415, 79.
23. L. Lochmann, D. Lim, J. Coupek, German Patent 2 035 260, 1971; Chem. Abstr. 1971, 74.87355.
24. German Patent 2 121 732, 1972; Chem. Abstr. 1972, 77.4885.
25. V. A. Shreider, E. P. Turevskaya, N. I. Koslova, N. Ya. Turova, Inorg. Chim. Acta 1981, 53, L73.
26. K. Szymansky, H. Koesszny, Polish Patent 102 436, 1979; Chem. Abstr. 1979, 91.192983.
27. R. A. Andersen, G. E. Coates, J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1972, 2153.
28. G.E. Coates, D. Ridley, J. Chem. Soc. 1965, 1870.
29. J. Nelles, British Patent 512 452, 1939; Chem. Abstr. 1940, 34.3764.
30. D. C. Bradley, W. Wardlaw, J. Chem. Soc. 1951, 280.
31. D. C. Bradley, F. M. A. Halim, E. A. Sadek, W. Wardlaw, J. Chem. Soc. 1952, 2032.
32. N. M. Cullinane, S. J. Chard, Nature 1949, 164, 710.
33. W. J. Reagan, C. H. Brubaker, Inorg. Chem. 1970, 9, 827.
34. H. Gilman, R. G. Jones, G. Korma, G. A. Martin, J. Am. Chem. Soc. 1956, 78, 4285.
35. I. M. Thomas, Can. J. Chem. 1961, 39, 1386.
36. M. H. Chisholm, F. A. Cotton, C. A. Murillo, W. W. Reichert, Inorg. Chem. 1978, 17, 2944.
37. I. D. Verma, R. C. Mehrotra, J. Chem. Soc. 1960, 2966.
38. R. C. Mehrotra, J. Indian Chem. Soc. 1954, 31, 904.
39. R. C. Mehrotra, J. Am. Chem. Soc. 1954, 76, 2266.
40. W. A. Wojtczak, P. F. Fleig, M. J. Hampden-Smith, Adv. Organomet. Chem. 1996, 40, 215.
41. R. Belcher, C. R. Cranley, J. R. Maier, W. I. Stephen, P. C. Uden, Anal. Chim. Acta 1972, 60, 109.
42. L. Huang, S. B. Turnipseed, R. C. Haltiwanger, R. M. Barkley, R. E. Sievers, Inorg. Chem. 1994, 33, 798.
43. K. Timmer, H. A. Meinema, Inorg. Chim. Acta 1991, 187, 99.
44. A. A. Drozdov, S. I. Troyanov, Polyhedron 1992, 11, 2877.
45. A. A. Drozdov, S. I. Troyanov, A. P. Pisarevsky, Y. T. Struchov, Polyhedron 1994, 13, 1445.
46. G. S. Hammond, D. C. Nonhebel, C.-H. S. Wu, Inorg. Chem. 1963, 2, 73.
47. S. R. Drake, M. B. Hursthouse, K. M. Abdul-Malik, D. J. Otway, J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1993, 2883.
48. S. B. Turnipseed, R. M. Barkley, R. E. Sievers, J. Am. Chem. Soc. 1991, 30, 1164.
49. J. Auld, A. C. Jones, A. B. Leese, B. Cockayne, P. J. Wright, P. O'Brien, M. Motevalli, J. Mater. Chem. 1993, 3, 1203.
50. M. A. Malik, P. O'Brien, M. Motevalli, A. C. Jones, T. J. Leedham, unpublished.
51. P. A. Lane, P. J. Wright, M. J. Crosbie, A. C. Jones, T. J. Leedham, J. Cryst. Growth, in press.
52. H. Treichel, A. Mitwalsky, G. Tempel, G. Zorn, W. Kern, N. Sandler, A. P. Lane, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1993, 282, 557.
53. W. R. Hitchens, W. C. Krusell, D. M. Dobkin, J. Electrochem. Soc. 1993, 9, 2615.
54. C. C. Wang, K. H. Zaaininger, M. T. Duffy, RCA Rev. 1970, 31, 723.
55. W. A. Hermann, N. W. Huber, O. Runte, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1995, 54, 2187.
56. A. C. Jones, T. J. Leedham, P. J. Wright, M. J. Crosbie, D. J. Williams, P. A. Lane, P. O'Brien, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., in press.
57. J. Livage, M. Henry, C. Sanchez, Prog. Solid State Chem. 1988, 18, 259.
58. A. C. Jones, T. J. Leedham, P. J. Wright, M. J. Crosbie, K. A. Fleeting, D. J. Otway, P. O'Brien, M. Pemble, J. Mater. Chem. 1998, 8, 1773.
59. R. F. Cava, W. F. Peck, Jr., J. J. Krajewski, Nature 1995, 377, 215.
60. J.-Y. Gan, Y. C. Chang, T. B. Wu, Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 332.
61. S. B. Desu, T. Shi, C. K. Kwok, in Chemical Vapor Deposition of Refractory Metals and Ceramics (Eds: T. M. Besman, B. M. Gallois), Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1990, 168, 349.
62. A. C. Jones, T. J. Leedham, P. J. Wright, M. J. Crosbie, P. A. Lane, D. J. Williams, K. A. Fleeting, D. J. Otway, P. O'Brien, Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 46.
63. K. A. Fleeting, A. C. Jones, P. O'Brien, D. J. Otway, A. J. P. White, D. Williams, Inorg. Chem., in press.
64. D. J. Otway, K. A. Fleeting, P. O'Brien, A. C. Jones, T. J. Leedham, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., in press.
65. A. C. Jones, T. J. Leedham, P. J. Wright, M. J. Crosbie, D. J. Williams, K. A. Fleeting, H. O. Davies, D. J. Otway, P. O'Brien, Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 197.