Permittivity enhanced atomic layer deposited HfO2 thin films manipulated by a rutile TiO2 Interlayer

Chemistry of Materials

Volumn 22, Issue 15, 2010, Pages 4419-4425

  Seo, Minha ^a   Kim, Seong Keun ^a   Han, Jeong Hwan ^a   Hwang, Cheol Seong ^a  

^a Seoul National University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMORPHOUS PHASIS; APPLIED VOLTAGES; ATOMIC LAYER DEPOSITED; BI-LAYER; CRYSTALLINE STRUCTURE; DIELECTRIC CONSTANTS; EQUIVALENT OXIDE THICKNESS; MONOCLINIC STRUCTURES; RUTILE TIO; STRUCTURAL COMPATIBILITY; TETRAGONAL HFO; TIN ELECTRODES; TIO;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; CRYSTALLINE MATERIALS; DEPOSITION; OXIDE MINERALS; PERMITTIVITY; THIN FILMS; TITANIUM DIOXIDE; TITANIUM NITRIDE;

HAFNIUM COMPOUNDS;

EID: 77955264741     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm1010289     Document Type: Article

References (34)

1. Kil, D.-S.; Song, H.-S.; Lee, K.-J.; Hong, K.; Kim, J.-H.; Park, K.-S.; Yeom, S.-J.; Roh, J.-S.; Kwak, N.-J.; Sohn, H.-C.; Kim, J.-W.; Park, S.-W. VLSI Symp. Tech. Dig. 2006, 38
2. Cho, H. J.; Kim, Y. D.; Park, D. S.; Lee, E.; Park, C. H.; Jang, J. S.; Lee, K. B.; Kim, H. W.; Ki, Y. J.; Han, I. K.; Song, Y. W. Solid-State Electron. 2007, 51, 1529
3. International Technology Roadmap for Semiconductors 2009.
4. Kim, S. K.; Kim, W.-D.; Kim, K.-M.; Hwang, C. S.; Jeong, J. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4112
5. Kim, S. K.; Hwang, G. W.; Kim, W.-D.; Hwang, C. S. Electrochem. Solid-State Lett. 2006, 9, F5
6. Choi, G.-J.; Kim, S. K.; Won, S.-J.; Kim, H. J.; Hwang, C. S. J. Electrochem. Soc. 2009, 156, G138
7. Kim, S. K.; Lee, S. Y.; Seo, M.; Choi, G.-J.; Hwang, C. S. J. Appl. Phys. 2007, 102, 024109
8. Kim, S. K.; Choi, G.-J.; Lee, S. Y.; Seo, M.; Lee, S. W.; Han, J. H.; Ahn, H.-S.; Han, S.; Hwang, C. S. Adv. Mater. 2008, 20, 1429
9. Elliot, S. The Physics and Chemistry of Solids; Wiley: New York, 1998.
10. Balog., M.; Schieber, M. Thin Solid Films 1977, 41, 247
11. http://www.intel.com/technology/45nm/index.htm (accessed Mar 2010).
12. Leger, J. M.; Atouf, A.; Tomaszewski, P. E.; Pereira, A. S. Phys. Rev. B 1993, 48, 93
13. Zhao, X.; Vanderbilt, D. Phys. Rev. B 2002, 65, 233106
14. Rignanese, G.-M.; Gonze, X.; Jun, G.; Cho, K.; Pasquarello, A. Phys. Rev. B 2004, 69, 184301
15. Cho, M.; Park, J.; Park, H. B.; Hwang, C. S. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 334
16. Cho, M.; Park, H. B.; Park, J.; Lee, S. W.; Hwang, C. S. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 5503
17. Kim, S. K.; Hwang, C. S. Electrochem. Solid-State Lett. 2008, 11, G9
18. Niinistö, J.; Kukli, K.; Kariniemi, M.; Ritala, M.; Leskelä, M.; Blasco, N.; Pinchart, A.; Lachaud, C.; Laaroussi, N.; Wang, Z.; Dussarrat, C. J. Mater. Chem. 2008, 18, 5243
19. Williams, P. A.; Jones, A. C.; Tobin, N. L.; Chalker, P. R.; Taylor, S.; Marshall, P. A.; Bickley, J. F.; Smith, L. M.; Davies, H. O.; Critchlow, G. W. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 309
20. Kukli, K.; Ihanus, J.; Ritala, M.; Leskela, M. Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 3737
21. Ushakov, S. V.; Brown, C.; Navrotsky, A. J. Mater. Res. 2004, 19, 693
22. Neumayer, D. A.; Cartier, E. J. Appl. Phys. 2001, 90, 1801
23. Park, P.; Kang, S.-W. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 192905
24. Triyoso, D. H.; Hegde, R. I.; Schaeffer, J. K.; Roan, D.; Tobin, P. J.; Samavedam, S. B.; White, B. E., Jr. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 222901
25. Lee, C.-K.; Cho, E.; Lee, H.-S.; Hwang, C. S.; Han, S. Phys. Rev. B 2008, 78, 012102
26. Park, T. J.; Kim, J. H.; Jang, J. H.; Lee, C.-K.; Na, K. D.; Lee, S. Y.; Jung, H.-S.; Kim, M.; Han, S.; Hwang, C. S. Chem. Mater., accepted for publication.
27. Niinistö, J.; Kukli, K.; Sajavaara, T.; Ritala, M.; Leskelä, M.; Oberbeck, L.; Sundqvist, J.; Schrödere, U. Electrochem. Solid-State Lett. 2009, 12, G1
28. Joo, D. K.; Park, J. S.; Kang, S. W. Electrochem. Solid-State Lett. 2009, 12, H77
29. Seo, M.; Min, Y.-S.; Kim, S. K.; Park, T. J.; Kim, J. H.; Na, K. D.; Hwang, C. S. J. Mater. Chem. 2008, 18, 4324
30. Kukli, K.; Ritala, M.; Leskelä, M.; Sundqvist, J.; Oberbeck, L.; Heitmann, J.; Schröder, U.; Aarik, J.; AidlaKukli, A. Thin Solid Films 2007, 515, 6447
31. Porter, D. A.; Easterling, K. E. Phase Transformations in Metals and Alloys, 2 nd ed.; CRC Press: Boca Raton, FL, 2004.
32. Consiglio, S.; Papadatos, F.; Naczas, S.; Skordas, S.; Eisenbraun, E. T.; Kaloyeros, A. E. J. Electrochem. Soc. 2006, 153, F249
33. Hirsch, P.; Howie, A.; Nicholson, R. B.; Pashley, D. W.; Whelan, M. J. Electron Microscopy of Thin Crystals, 2 nd ed., Robert E. Krieger Publishing Co., Inc.: Malabar, FL, 1977.
34. Vanderbilt, D.; Zhao, X.; Ceresoli, D. Thin Solid Films 2005, 486, 125