SCOPUS 정보 검색 플랫폼 - 논문 보기

메뉴 건너뛰기

Journal of Materials Chemistry

Volumn 18, Issue 36, 2008, Pages 4324-4331

Atomic layer deposition of hafnium oxide from tert- butoxytris(ethylmethylamido)hafnium and ozone: Rapid growth, high density and thermal stability

(7) Seo, Minha a Min, Yo Sep b Kim, Seong Keun a Park, Tae Joo a Kim, Jeong Hwan a Na, Kwang Duk a Hwang, Cheol Seong a

a Seoul National University (South Korea)

b Konkuk University (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 54749148316 PISSN: 09599428 EISSN: 13645501 Source Type: Journal
DOI: 10.1039/b806382f Document Type: Article

Times cited : (49)

References (25)

1
- 31944442603
- T. Suntola Mater. Sci. Rep. 1989 4 261
- (1989) Mater. Sci. Rep. , vol.4 , pp. 261
- Suntola, T.¹

2
- 0037156103
- M. Leskelä M Ritala Thin Solid Films 2002 409 138
- (2002) Thin Solid Films , vol.409 , pp. 138
- Leskelä, M.¹ Ritala, M.²

3
- 0034270209
- M. A. Cameron I. P. Gartland J. A. Smith S. F. Diaz S. M. George Langmuir 2000 16 7435
- (2000) Langmuir , vol.16 , pp. 7435
- Cameron, M.A.¹ Gartland, I.P.² Smith, J.A.³ Diaz, S.F.⁴ George, S.M.⁵

4
- 79956038287
- A. Nakajima T. Kidera H. Ishii S. Yokoyama Appl. Phys. Lett. 2002 81 2824
- (2002) Appl. Phys. Lett. , vol.81 , pp. 2824
- Nakajima, A.¹ Kidera, T.² Ishii, H.³ Yokoyama, S.⁴

5
- 79955995737
- M. Cho J. Park H. B. Park C. S. Hwang Appl. Phys. Lett. 2002 81 334
- (2002) Appl. Phys. Lett. , vol.81 , pp. 334
- Cho, M.¹ Park, J.² Park, H.B.³ Hwang, C.S.⁴

6
- 33750100541
- L. Nyns L. Hall T. Conard A. Delabie W. Deweerd M. Heyns S. V. Elshocht N. V. Hoornick C. Vinckier S. D. Gendt J. Electrochem. Soc. 2006 153 9 F205
- (2006) J. Electrochem. Soc. , vol.153 , Issue.9 , pp. 205
- Nyns, L.¹ Hall, L.² Conard, T.³ Delabie, A.⁴ Deweerd, W.⁵ Heyns, M.⁶ Elshocht, S.V.⁷ Hoornick, N.V.⁸ Vinckier, C.⁹ Gendt, S.D.¹⁰

7
- 31644442136
- P. D. Kirsch M. A. Quevedo-Lopez H. -J. Li Y. Senzaki J. J. Peterson S. C. Song S. A. Krishnan N. Moumen J. Barnett G. Bersuker P. Y. Hung B. H. Lee J. Appl. Phys. 2006 99 023508
- (2006) J. Appl. Phys. , vol.99 , pp. 023508
- Kirsch, P.D.¹ Quevedo-Lopez, M.A.² Li, Y.³ Senzaki, Y.⁴ Peterson, J.J.⁵ Song, S.C.⁶ Krishnan, S.A.⁷ Moumen, N.⁸ Barnett, J.⁹ Bersuker, G.¹⁰ Hung, P.Y.¹¹ Lee, B.H.¹²

8
- 0001140789
- K. Kukli M. Ritala M. Leskelä Chem. Vap. Deposition 2000 6 297
- (2000) Chem. Vap. Deposition , vol.6 , pp. 297
- Kukli, K.¹ Ritala, M.² Leskelä, M.³

9
- 0036799255
- D. M. Hausmann E. Kim J. Becker R. G. Gordon Chem. Mater. 2002 14 4350
- (2002) Chem. Mater. , vol.14 , pp. 4350
- Hausmann, D.M.¹ Kim, E.² Becker, J.³ Gordon, R.G.⁴

10
- 15744384552
- X. Liu S. Ramanathan A. Longdergan A. Srivastava E. Lee T. E. Seidel J. T. Barton D. Pang R. G. Gordon J. Electrochem. Soc. 2005 152 3 G213
- (2005) J. Electrochem. Soc. , vol.152 , Issue.3 , pp. 213
- Liu, X.¹ Ramanathan, S.² Longdergan, A.³ Srivastava, A.⁴ Lee, E.⁵ Seidel, T.E.⁶ Barton, J.T.⁷ Pang, D.⁸ Gordon, R.G.⁹

11
- 0000983812
- K. Kukli M. Ritala T. Sajavaara J. Keinonen M. Leskelä Chem. Vap. Deposition 2002 8 5 199
- (2002) Chem. Vap. Deposition , vol.8 , Issue.5 , pp. 199
- Kukli, K.¹ Ritala, M.² Sajavaara, T.³ Keinonen, J.⁴ Leskelä, M.⁵

12
- 54749109380
- A. Soulet, L. Duquesne, G. Jursich, R. Inman, A. Misra, N. Blasco, C. Lachaud, Y. Marot, R. Prunier, M. Vautier, S. Anderson, P. Clancy and M. Havlicek, Semiconductor Fabtech, 2005, 27th edition, 10/5
- Semiconductor Fabtech, 2005, 27th Edition, 10/5
- Soulet, A.¹ Duquesne, L.² Jursich, G.³ Inman, R.⁴ Misra, A.⁵ Blasco, N.⁶ Lachaud, C.⁷ Marot, Y.⁸ Prunier, R.⁹ Vautier, M.¹⁰ Anderson, S.¹¹ Clancy, P.¹² Havlicek, M.¹³

13
- 34547409928
- J. Niinistö M Putkonen L. Niinistö F. Song P. Williams P. N. Heys R. Odedra Chem. Mater. 2007 19 3319
- (2007) Chem. Mater. , vol.19 , pp. 3319
- Niinistö, J.¹ Putkonen, M.² Niinistö, L.³ Song, F.⁴ Williams, P.⁵ Heys, P.N.⁶ Odedra, R.⁷

14
- 0942288633
- M. Cho H. B. Park J. Park S. W. Lee C. S. Hwang Appl. Phys. Lett. 2003 83 5503
- (2003) Appl. Phys. Lett. , vol.83 , pp. 5503
- Cho, M.¹ Park, H.B.² Park, J.³ Lee, S.W.⁴ Hwang, C.S.⁵

15
- 0141633668
- H. B. Park M. Cho J. Park S. W. Lee C. S. Hwang J.-P. Kim J.-H. Lee N.-I. Lee H.-K. Kang J.-C. Lee S.-J. Oh J. Appl. Phys. 2003 94 3641
- (2003) J. Appl. Phys. , vol.94 , pp. 3641
- Park, H.B.¹ Cho, M.² Park, J.³ Lee, S.W.⁴ Hwang, C.S.⁵ Kim, J.-P.⁶ Lee, J.-H.⁷ Lee, N.-I.⁸ Kang, H.-K.⁹ Lee, J.-C.¹⁰ Oh, S.-J.¹¹

16
- 17944369303
- M. Cho D. S. Jeong J. Park H. B. Park S. W. Lee T. J. Park C. S. Hwang Appl. Phys. Lett. 2004 85 5953
- (2004) Appl. Phys. Lett. , vol.85 , pp. 5953
- Cho, M.¹ Jeong, D.S.² Park, J.³ Park, H.B.⁴ Lee, S.W.⁵ Park, T.J.⁶ Hwang, C.S.⁷

17
- 54749116871
- Y.-G. Park, J.-H. Yeo, E.-A. Chung, K.-V. Im, Y.-S. Kim, S.-T. Kim and C.-Y. Yoo, US Pat., 2006, 0205198
- (2006) US Pat.
- Park, Y.-G.¹ Yeo, J.-H.² Chung, E.-A.³ Im, K.-V.⁴ Kim, Y.-S.⁵ Kim, S.-T.⁶ Yoo, C.-Y.⁷

18
- 19944365539
- Y. F. Loo R. O'Kane A. C. Jones H. C. Aspinall R. J. Potter P. R. Chalker J. F. Bickley S. Taylor L. M. Smith J. Mater. Chem. 2005 15 1896
- (2005) J. Mater. Chem. , vol.15 , pp. 1896
- Loo, Y.F.¹ O'Kane, R.² Jones, A.C.³ Aspinall, H.C.⁴ Potter, R.J.⁵ Chalker, P.R.⁶ Bickley, J.F.⁷ Taylor, S.⁸ Smith, L.M.⁹

19
- 1942420039
- K. Kukli M. Ritala M. Leskelä T. Sajavaara J. Keinonen A. C. Jones J. L. Roberts Chem. Vap. Deposition 2003 9 6 315
- (2003) Chem. Vap. Deposition , vol.9 , Issue.6 , pp. 315
- Kukli, K.¹ Ritala, M.² Leskelä, M.³ Sajavaara, T.⁴ Keinonen, J.⁵ Jones, A.C.⁶ Roberts, J.L.⁷

20
- 17944363460
- J. Park M. Cho S. K. Kim T. J. Park S. W. Lee S. H. Hong C. S. Hwang Appl. Phys. Lett. 2005 86 112907
- (2005) Appl. Phys. Lett. , vol.86 , pp. 112907
- Park, J.¹ Cho, M.² Kim, S.K.³ Park, T.J.⁴ Lee, S.W.⁵ Hong, S.H.⁶ Hwang, C.S.⁷

21
- 33746502593
- S. Kamiyama T. Miura Y. Nara Electrochem. Solid-State Lett. 2006 9 9 G285
- (2006) Electrochem. Solid-State Lett. , vol.9 , Issue.9 , pp. 285
- Kamiyama, S.¹ Miura, T.² Nara, Y.³

22
- 33750111873
- T. Watanabe S. Hoffmann-Eifert C. S. Hwang R. Waser J. Electrochem. Soc. 2006 153 9 F199
- (2006) J. Electrochem. Soc. , vol.153 , Issue.9 , pp. 199
- Watanabe, T.¹ Hoffmann-Eifert, S.² Hwang, C.S.³ Waser, R.⁴

23
- 34547159401
- T. Watanabe S. Hoffmann-Eifert L. Yang A. Rüdiger C. Kügeler C. S. Hwang R. Waser J. Electrochem. Soc. 2007 154 6 G134
- (2007) J. Electrochem. Soc. , vol.154 , Issue.6 , pp. 134
- Watanabe, T.¹ Hoffmann-Eifert, S.² Yang, L.³ Rüdiger, A.⁴ Kügeler, C.⁵ Hwang, C.S.⁶ Waser, R.⁷

24
- 0003998388
- CRC Press, Boca Raton, FL
- D. R. Lide, Handbook of Chemistry and Physics 75th edition, CRC Press, Boca Raton, FL, 1994
- (1994) Handbook of Chemistry and Physics 75th Edition
- Lide, D.R.¹

25
- 33749614906
- S. Consiglio F. Papadatos S. Naczas S. Skordas E. T. Eisenbraun A. E. Kaloyeros J. Electrochem. Soc. 2006 153 11 F249
- (2006) J. Electrochem. Soc. , vol.153 , Issue.11 , pp. 249
- Consiglio, S.¹ Papadatos, F.² Naczas, S.³ Skordas, S.⁴ Eisenbraun, E.T.⁵ Kaloyeros, A.E.⁶

* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.