Concentration dependence of optical properties in arsenic-doped ZnO nanocrystalline films grown on silicon (100) substrates by pulsed laser deposition

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 113, Issue 42, 2009, Pages 18347-18352

  Li, W W ^a   Hu, Z G ^a   Wu, J D ^b   Sun, J ^b   Zhu, M ^c   Zhu, Z Q ^a   Chu, J H ^a  

^a EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY   (China)

^b FUDAN UNIVERSITY   (China)

^c SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AS DOPING; CONCENTRATION DEPENDENCE; DIELECTRIC FUNCTIONS; DOPANT EFFECTS; DOPED ZNO; ELECTRONIC TRANSITION; EXPERIMENTAL DATA; GRAIN SIZE; GREEN LUMINESCENCE; HEXAGONAL WURTZITE; LOWER ENERGIES; NEAR INFRARED; PHONON FREQUENCIES; PHOTOLUMINESCENCE SPECTRUM; PHOTON ENERGY; POLYCRYSTALLINE; ROOM TEMPERATURE; SILICON (100); SILICON SUBSTRATES; SPECTRAL REFLECTANCES; ZINC VACANCY; ZNO; ZNO FILMS; ZNO NANOCRYSTALLINE FILMS;

ARSENIC; DOPING (ADDITIVES); ELECTRON ENERGY LOSS SPECTROSCOPY; LATTICE VIBRATIONS; LIGHT; NANOCRYSTALLINE SILICON; OPTICAL CONSTANTS; OPTICAL PROPERTIES; OXYGEN; OXYGEN VACANCIES; PULSED LASER DEPOSITION; SEMICONDUCTING ZINC COMPOUNDS; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS; ZINC; ZINC OXIDE; ZINC SULFIDE;

OPTICAL FILMS;

EID: 70449558682     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp902766a     Document Type: Article

References (47)

1. Ö zgür, Ü ; Alivov, Ya. I.; Liu, C.; Teke, A.; Reshchikov, M. A.; Doǧan, S.; Avrutin, V.; Cho, S.-J.; Morkoç, H. J. Appl. Phys. 2005, 98, 041301.
2. Fan, J. C.; Xie, Z.; Wan, Q.; Wang, Y. G. J. Cryst. Growth 2007, 304, 295.
3. Jeong, T. S.; Han, M. S.; Youn, C. J.; Park, Y. S. J. Appl. Phys. 2004, 96, 175.
4. Ryu, Y. R.; Lee, T. S.; Leam, J. H.; White, H. W. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 87.
5. Zhang, W. C.; Wu, X. L.; Chen, H. T.; Zhu, J.; Huang, G. S. J. Appl. Phys. 2008, 103, 093718.
6. Look, D. C.; Reynolds, D. C.; Litton, C. W.; Jones, R. L.; Eason, D. B.; Cantwell, G. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 1830.
7. Aoki, T.; Hatanaka, Y.; Look, D. C. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 3257.
8. Shen, Y. Q.; Hu, W.; Zhang, T. W.; Xu, X. F.; Sun, J.; Wu, J. D.; Ying, Z. F.; Xu, N. Mater. Sci. Eng., A 2008, 473, 201.
9. Limpijumnong, S.; Zhang, S. B.; Wei, S. H.; Park, C. H. Phys. Rev. Lett. 2004, 92, 155504.
10. Xu, N.; Xu, Y. L.; Li, L.; Shen, Y. Q.; Zhang, T. W.; Wu, J. D.; Sun, J.; Ying, Z. F. J. Vac. Sci. Technol. A 2006, 24, 517.
11. Wahl, U.; Rita, E.; Correia, J. G.; Marqurs, A. C.; Alves, E.; Soares, J. C. Phys. Rev. Lett. 2005, 95, 215503.
12. Malandrino, G.; Blandino, M.; Fregala, M. E.; Losurdo, M.; Bruno, G. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 9595.
13. Hu, Z. G.; Li, W. W.; Wu, J. D.; Sun, J.; Shu, Q. W.; Zhong, X. X.; Zhu, Z. Q.; Chu, J. H. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 181910.
14. Hu, Z. G.; Li, Y. W.; Zhu, M.; Zhu, Z. Q.; Chu, J. H. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 081904.
15. Volbers, N.; LautenschlaǍger, S.; Leichtweiss, T.; Laufer, A.; Graubner, S.; Meyer, B. K.; Potzger, K.; Zhou, S. Q. J. Appl. Phys. 2008, 103, 123106.
16. Ghosh, C. K.; Malkhand, S.; Mitra, M. K.; Chattopadhyay, K. K. J. Phys. D: Apply. Phys. 2008, 41, 245113.
17. Hu, Z. G.; Li, Y. W.; Zhu, M.; Zhu, Z. Q.; Chu, J. H. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 9737.
18. Jellison, G. E.; Boatner, L. Phys. Rev. B 1998, 58, 3586.
19. Yoshikawa, H.; Adachi, S. Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 1997, 36, 6237.
20. Tompkins, H. G.; Irene, E. A. Handbook of Ellipsometry; William Andrew Publishing: Norwich, NY, 2005.
21. Djurišić, A. B.; Chan, Y.; Li, E. H. Mater. Sci. Eng., R. 2002, 38, 237.
22. Hu, Z. G.; Li, W. W.; Li, Y. W.; Zhu, M.; Zhu, Z. Q.; Chu, J. H. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 221104.
23. Arslan, M.; DuymusǍ, H.; Yakuphanoglu, F. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 276.
24. Bruna, M.; Borini, S. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 031901.
25. Hu, Z. G.; Strassburg, M.; Dietz, N.; Perera, A. G. U.; Asghar, A.; Ferguson, I. T. Phys. Rev. B 2005, 72, 245326.
26. Hu, Z. G.; Weerasekara, A. B.; Dietz, N.; Perera, A. G. U.; Strassburg, M.; Kane, M. H.; Asghar, A.; Ferguson, I. T. Phys. Rev. B 2007, 75, 205302.
27. Ye, J. D.; Tripathy, S.; Ren, Fang-Fang; Sun, X. W.; Lo, G. Q.; Teo, K. L. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 011913.
28. Wang, J. B.; Zhang, H. M.; Li, Z. F.; Lu, W. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 101913.
29. Yun, E. J.; Park, H. S.; Lee, K. H.; Nam, H. G.; Jung, M. J. Appl. Phys. 2008, 103, 073507.
30. Zeng, Y. J.; Ye, Z. Z.; Xu, W. Z.; Liu, B.; Che, Y.; Zhu, L. P.; Zhao, B. H. Mater. Lett. 2007, 61, 41.
31. Dai, L. P.; Deng, H.; Chen, J. J.; Wei, M. Solid State Commun. 2007, 143, 378.
32. Wang, Y. G.; Lau, S. P.; Lee, H. W.; Yu, S. F.; Tay, B. K.; Zhang, X. H.; Hng, H. H. J. Appl. Phys. 2003, 94, 354.
33. Studenikin, S. A.; Golego, N.; Cocivera, M. J. Appl. Phys. 1998, 84, 2287.
34. Ianno, N. J.; McConville, L.; Shaikh, N.; Pittal, S.; Snyder, P. G. Thin Solid Films 1992, 220, 92.
35. Wu, X. L.; Siu, G. G.; Fu, C. L.; Ong, H. C. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 2285.
36. Kwok, W. M.; Djurišić, A. B.; Leung, Y. H.; Chan, W. K.; Phillips, D. L. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 223111.
37. Herzinger, C. M.; Johs, B.; McGahan, W. A.; Woollam, J. A.; Paulson, W. J. Appl. Phys. 1998, 83, 3323.
38. Adachi, S. Phys. Rev. B 1987, 35, 7454.
39. Adachi, S. Phys. Rev. B 1988, 38, 12345.
40. Bahng, J. H.; Lee, M.; Park III, H. L.; Kim, W.; Jeong, J. H.; Kim, K. J. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 1664.
41. Press, W. H.; Teukolsky, S. A.; Vetterling, W. T.; Flannery, B. P. Numerical Recipes in C: The Art of Scientific Computing; Cambridge University Press: Cambridge, MA, 1992.
42. Cardona, M. Phys. Rev. 1965, 140, A651.
43. Kim, K. J.; Park, Y. R. Appl. Phys. Lett. 2002, 19, 1420.
44. Washington, P. L.; Ong, H. C.; Dai, J. Y.; Chang, P. H. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 3261.
45. Postava, K.; Sueki, H.; Aoyama, M.; Yamaguchi, T.; Ino, Ch.; Igasaki, Y. J. Appl. Phys. 2000, 87, 7820.
46. Bruggeman, D. A. G. Ann. Phys. (Leipzig) 1935, 24, 636.
47. Fujiwara, H.; Koh, J.; Rovira, P. I.; Collins, R. W. Phys. Rev. B 2000, 61, 10832.