Excitation wavelength dependence of the visible photoluminescence from amorphous ZnO granular films

Journal of Applied Physics

Volumn 103, Issue 9, 2008, Pages

  Zhang, W C ^a,b   Wu, X L ^b   Chen, H T ^b   Zhu, J ^b   Huang, G S ^b  

^a NANJING UNIVERSITY OF AERONAUTICS AND ASTRONAUTICS   (China)

^b NANJING UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CURRENT VOLTAGE CHARACTERISTICS; GAUSSIAN DISTRIBUTION; OPTICAL TRANSITIONS; OXYGEN VACANCIES; PHOTOLUMINESCENCE; WAVELENGTH; ZINC OXIDE;

DIRECT CURRENT VOLTAGE; GRANULAR FILMS; OXYGEN INTERSTITIALS; VISIBLE PHOTOLUMINESCENCE;

AMORPHOUS FILMS;

EID: 43949101016     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2924421     Document Type: Article

References (32)

1. A. B. Djurišić, Y. H. Leung, K. H. Tam, Y. F. Hsu, L. Ding, W. K. Ge, Y. C. Zhong, K. S. Wong, W. K. Chan, H. L. Tam, K. W. Cheah, W. M. Kwok, and D. L. Phillips, Nanotechnology 18, 095702 (2007).
2. A. B. Djurišić and Y. H. Leung, Small 2, 944 (2006).
3. Y. Y. Li, Y. X. Li, Y. L. Wu, and W. L. Sun, J. Lumin. 126, 177 (2007).
4. S. S. Chang, Y. H. Jeong, and A. Sakai, Mater. Sci. Eng., B 122, 127 (2005).
5. R. M. Nyffenegger, B. Craft, M. Shaaban, S. Gorer, G. Erley, and R. M. Penner, Chem. Mater. 10, 1120 (1998).
6. S. W. Kim and S. Fujita, Appl. Phys. Lett. 81, 5036 (2002).
7. A. B. Djurišić, Y. H. Leung, K. H. Tam, L. Ding, W. K. Ge, H. Y. Chen, and S. Gwo, Appl. Phys. Lett. 88, 103107 (2006).
8. D. H. Zhang, Q. P. Wang, and Z. Y. Xue, Appl. Surf. Sci. 207, 20 (2003).
9. L. Irimpan, B. Krishnan, A. Deepthy, V. P. N. Nampoori, and P. Radhakrishnan, J. Phys. D 40, 5670 (2007).
10. H. M. Zhang, G. X. Chen, G. W. Yang, J. W. Zhang, and X. Y. Lu, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 18, 381 (2007).
11. Z. J. Wang and W. M. Jia, Int. J. Inorg. Mater. 20, 827 (2005).
12. B. S. Zou, V. V. Volkov, and Z. L. Wang, Chem. Mater. 11, 3037 (1999).
13. S. T. Tan, B. J. Chen, X. W. Sun, W. J. Fan, H. S. Kwok, X. H. Zhang, and S. J. Chua, J. Appl. Phys. 98, 013505 (2005).
14. G. S. Huang, X. L. Wu, Y. C. Cheng, J. C. Shen, A. P. Huang, and P. K. Chu, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 86, 463 (2007).
15. J. P. O'Sullivan and G. C. Wood, Proc. R. Soc. London, Ser. A 317, 511 (1970).
16. V. P. Parkhutik and V. I. Shershulsky, J. Phys. D 25, 1258 (1992).
17. J. W. Diggle, T. C. Downie, and C. W. Goulding, Chem. Rev. (Washington, D.C.) 69, 365 (1969).
18. H. B. Fan, S. Y. Yang, P. F. Zhang, H. Y. Wei, X. L. Liu, C. M. Jiao, Q. S. Zhu, Y. H. Chen, and Z. G. Wang, Chin. Phys. Lett. 24, 2108 (2007).
19. S. L. Cho, J. Ma, Y. K. Kim, Y. Sun, G. K. L. Wong, and J. B. Ketterson, Appl. Phys. Lett. 75, 2761 (1999).
20. A. F. Kohan, G. Ceder, D. Morgan, and C. G. Van de Walle, Phys. Rev. B 61, 15019 (2000).
21. X. L. Wu, G. G. Siu, C. L. Fu, and H. C. Ong, Appl. Phys. Lett. 78, 2285 (2001).
22. H. F. Liu, S. J. Chua, G. X. Hu, H. Gong, and N. Xiang, J. Appl. Phys. 102, 043530 (2007).
23. S. A. Studenikin, N. Golego, and M. Cocivera, J. Appl. Phys. 84, 2287 (1998).
24. Y. G. Wang, S. P. Lau, H. W. Lee, S. F. Yu, B. K. Tay, X. H. Zhang, and H. H. Hng, J. Appl. Phys. 94, 354 (2003).
25. Y. H. Zheng, C. Q. Chen, Y. Y. Zhan, X. Y. Lin, Q. Zheng, K. M. Wei, J. F. Zhu, and Y. J. Zhu, Inorg. Chem. 46, 6675 (2007).
26. J. K. Vassiliou, V. Mehrotra, M. W. Russell, E. P. Giannelis, R. D. McMichael, R. D. Shull, and R. F. Ziolo, J. Appl. Phys. 73, 5109 (1993).
27. H. R. Phillipp, J. Phys. Chem. Solids 32, 1935 (1971).
28. G. S. Huang, X. L. Wu, L. W. Yang, X. F. Shao, G. G. Siu, and Paul K. Chu, J. Phys. Chem. Solids 81, 1345 (2005).
29. Y. Gu, Igor L. Kuskovsky, M. Yin, S. O'Brien, and G. F. Neumark, Appl. Phys. Lett. 85, 3833 (2004).
30. X. L. Wu, J. Y. Fan, T. Qiu, G. G. Siu, and P. K. Chu, Phys. Rev. Lett. 94, 026102 (2005).
31. N. M. Park, C. J. Choi, T. Y. Seong, and S. J. Park, Phys. Rev. Lett. 86, 1355 (2001).
32. Y. Xie, X. L. Wu, T. Qiu, P. K. Chu, and G. G. Siu, J. Cryst. Growth 304, 476 (2007).