Photoluminescence study of ZnO films prepared by thermal oxidation of Zn metallic films in air

Journal of Applied Physics

Volumn 94, Issue 1, 2003, Pages 354-358

  Wang, Y G ^a   Lau, S P ^a   Lee, H W ^a   Yu, S F ^a   Tay, B K ^a   Zhang, X H ^b   Hng, H H ^c  

^a NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY   (Singapore)

^b INSTITUTE OF MATERIALS RESEARCH AND ENGINEERING   (Singapore)

^c NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; OXIDATION; PHOTOLUMINESCENCE; ULTRAVIOLET RADIATION; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS; ZINC OXIDE;

THERMAL OXIDATION;

METALLIC FILMS;

EID: 0042341732     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1577819     Document Type: Article

References (33)

1. C. Klingshirn, Phys. Status Solidi B 71, 547 (1975).
2. D. M. Bagnall, Y. F. Chen, Z. Zhu, T. Yao, S. Koyama, M. Y. Shen, and T. Goto, Appl. Phys. Lett. 70, 2230 (1997).
3. K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, and J. A. Voigt, Appl. Phys. Lett. 68, 403 (1996).
4. D. C. Reynolds, D. C. Look, B. Jobai, C. W. Litton, T. C. Collins, W. Harsch, and G. Cantwell, Phys. Rev. B 57, 12151 (1998).
5. J. J. Hopfield and D. G. Thomas, Phys. Rev. 122, 35 (1961).
6. K. Vanheusden, W. L. Warren, C. H. Seager, D. R. Tallant, and J. A. Voigt, and B. E. Gnade, J. Appl. Phys. 79, 7983 (1996).
7. M. Liu, A. H. Kitai, and P. Mascher, J. Lumin. 54, 35 (1992).
8. E. G. Bylander, J. Appl. Phys. 49, 1188 (1978).
9. R. Dingle, Phys. Rev. Lett. 23, 579 (1969).
10. N. Y. Garces, L. Wang, L. Bai, N. C. Giles, L. E. Halliburton, and G. Cantwell, Appl. Phys. Lett. 81, 622 (2002).
11. H. Cao, Y. G. Zhao, S. T. Ho, E. W. Seelig, Q. H. Wang, and R. P. H. Chang, Phys. Rev. Lett. 82, 2278 (1999).
12. Z. K. Tang, G. K. L. Wong, P. Yu, M. Kawasaki, A. Ohtomo, H. Koinuma, and Y. Segawa, Appl. Phys. Lett. 72, 3270 (1998).
13. J. Narayan, K. Dovidenko, A. K. Sharma, and S. Oktyabrsky, J. Appl. Phys. 84, 2597 (1998).
14. Y. Chen, D. M. Bagnall, H. j. Koh, K. T. Park, K. Hiraga, Z. Q. Zhu, and T. Yao, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998).
15. C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, W. E. Mayo, Y. Liu, M. Wraback, and H. Shen, J. Appl. Phys. 85, 2595 (1999).
16. N. Fujimura, T. Nishihara, S. Goto, J. F. Xu, and T. Ito, J. Cryst. Growth 130, 269 (1993).
17. S. A. Studenikin, N. Golego, and M. Cocivera, J. Appl. Phys. 84, 2287 (1998).
18. K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, J. Caruso, M. J. Hampden-Smith, and T. T. Kodas, J. Lumin. 54, 35 (1992).
19. Y. Z. Yoo et al., Appl. Phys. Lett. 78, 616 (2001).
20. S. Cho, J. Ma, Y. Kim, G. K. L. Wong, and J. B. Ketterson, Appl. Phys. Lett. 75, 2761 (1999).
21. S. J. Chen, Y. C. Liu, J. G. Ma, D. X. Zhao, Z. Z. Zhi, Y. M. Lu, J. Y. Zhang, D. Z. Shen, and X. W. Fan, J. Cryst. Growth 240, 467 (2002).
22. T. Yatsui, T. Kawazoe, T. Shimizu, Y. Yamamoto, M. Ueda, M. Kourogi, M. Ohtsu, and G. H. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 1444 (2002).
23. X. L. Xu, S. P. Lau, and B. K. Tay, Thin Solid Films 398-399, 244 (2001).
24. B. D. Cullity, Elements of X-ray Diffractions (Addison-Wesley, Reading, MA. 1978), p. 102.
25. M. Suscavage et al., MRS Internet J. Nitride Semicond. Res. 4S1, G3 (1999).
26. K. K. Kim, J. H. Song, H. J. Jung, W. K. Choi, S. J. Park, J. H. Song, and J. Y. Lee, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 2864 (2000).
27. V. Srikant and D. R. Clarke, J. Appl. Phys. 83, 5447 (1998).
28. Phosphor Handbook, edited by S. Shionoya, and W. M. Yen (Chemical Rubber, Cleveland, 1999).
29. D. C. Reynolds, D. C. Look, and B. Jogai, J. Appl. Phys. 89, 6189 (2001).
30. S. A. Studenikin and M. Cocivera, J. Appl. Phys. 91, 5060 (2002).
31. A. van Dijken, E. A. Meulenkamp, D. Vanmaekelbergh, and A. Meijerink, J. Lumin. 90, 123 (2000).
32. X. L. Wu, G. G. Siu, C. L. Fu, and H. C. Ong, Appl. Phys. Lett. 78, 2285 (2001).
33. Y. R. Ryu, S. Zhu, J. M. Wrobel, H. M. Jeong, P. F. Miceli, and H. W. White, J. Cryst. Growth 216, 326 (2000).