Atomic layer deposition of ruthenium nanoparticles using a low-density dielectric film as template structure

Chemistry of Materials

Volumn 21, Issue 17, 2009, Pages 4006-4011

  Heo, Jaeyeong ^a   Eom, Dail ^a   Lee, Sang Young ^a   Won, Seok Jun ^a   Park, Sanghyun ^a   Hwang, Cheol Seong ^a   Kim, Hyeong Joon ^a  

^a Seoul National University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

HYDROGEN BONDINGS; HYDROPHOBIC PROPERTIES; HYDROXYL GROUPS; INNER SURFACES; MEAN PORE SIZE; NUCLEATION SITES; POROUS DIELECTRICS; POROUS STRUCTURES; PROCESS TEMPERATURE; RUTHENIUM NANOPARTICLES; TEMPLATE STRUCTURES; ULTRAVIOLET-OZONE TREATMENT;

AGGLOMERATION; DIELECTRIC FILMS; HYDROGEN; HYDROGEN BONDS; NANOPARTICLES; OZONE; RUTHENIUM;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 69849102848     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm901032q     Document Type: Article

References (38)

1. Pelster, R.; Simon, U. Colloid Polym. Sci. 1999, 277, 2-14.
2. Hu, M. S.; Chen, H. L.; Shen, C. H.; Hong, L. S.; Huang, B. R.; Chen, K. H.; Chen, L. C. Nat. Mater. 2006, 5, 102-106.
3. Bamwenda, G. R.; Tsubota, S.; Nakamura, T.; Haruta, M. Catal. Lett. 1997, 44, 83-87.
4. Tam, F.; Moran, C.; Halas, N. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 17290-17294.
5. Clavero, C.; Armelles, G.; Margueritat, J.; Gonzalo, J.; del Muro, M. G.; Labarta, A.; Batlle, X. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 182506.
6. Ruach-Nir, I.; Bendikov, T. A.; Doron-Mor, I.; Barkay, Z.; Vaskevich, A.; Rubinstein, I. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 84-92.
7. Zhang, Z.; Dai, S.; Fan, X.; Blom, D. A.; Pennycook, S. J.; Wei, Y. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 6755-6758.
8. Takeda, Y.; Gritsyna, V. T.; Umeda, N.; Lee, C. G.; Kishimoto, N. Nucl. Instrum. Methods B 1999, 148, 1029-1033.
9. Dalacu, D.; Martinu, L. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 4283-4285.
10. Gordon, R. G.; Hausmann, D.; Kim, E.; Shepard, J. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 73-78.
11. Leskelä M.; Ritala, M. Thin Solid Films 2002, 409, 138-146.
12. George, S. M.; Ott, A. W.; Klaus, J. W. J. Phys. Chem. 1996, 100, 13121-13131.
13. Baumann, T. F.; Biener, J.; Wang, Y. M. M.; Kucheyev, S. O.; Nelson, E. J.; Satcher, J. H.; Elam, J. W.; Pellin, M. J.; Hamza, A. V. Chem. Mater. 2006, 18, 6106-6108.
14. Zhang, Y.; Kang, D. F.; Aindow, M.; Erkey, C. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 2617-2624.
15. Biener, J.; Baumann, T. F.; Wang, Y. M.; Nelson, E. J.; Kucheyev, S. O.; Hamza, A. V.; Kemell, M.; Ritala, M.; Leskelä M. Nanotechnology 2007, 18, 055303.
16. Kucheyev, S. O.; Biener, J.; Baumann, T. F.; Wang, Y. M.; Hamza, A. V.; Li, Z.; Lee, D. K.; Gordon, R. G. Langmuir 2008, 24, 943-948.
17. Farmer, D. B.; Gordon, R. G. J. Appl. Phys. 2007, 101, 124503.
18. Kim, T. W.; Jung, J. H.; Yoon, C. S.; Kim, Y. H. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 042103.
19. Yim, S. S.; Lee, M. S.; Kim, K. S.; Kim, K. B. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 093115.
20. Heo, J.; Lee, S. Y.; Eom, D.; Hwang, C. S.; Kim, H. J. Electrochem. Solid-State Lett. 2008, 11, G5-G8.
21. Jousseaume, V.; Zenasni, A.; Favennec, L.; Gerbaud, G.; Bardet, M.; Simon, J. P.; Humbert, A. J. Electrochem. Soc. 2007, 154, G103.
22. Iacopi, F.; Travaly, Y.; Eyckens, B.; Waldfried, C.; Abell, T.; Guyer, E. P.; Gage, D. M.; Dauskardt, R. H.; Sajavaara, T.; Houthoofd, K. J. Appl. Phys. 2006, 99, 053511.
23. O'Neill, M. L.; Haas, M. K.; Peterson, B. K.; Vrtis, R. N.; Weigel, S. J.; Wu, D.; Bitner, M. D.; Karwacki, E. J. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2006, 3-14.
24. Baklanov, M. R.; Mogilnikov, K. P. Microelectron. Eng. 2002, 64, 335-349.
25. Eom, D.; No, S. Y.; Hwang, C. S.; Kim, H. J. J. Electrochem. Soc. 2006, 153, C229.
26. Kim, S. K.; Lee, S. Y.; Lee, S. W.; Hwang, G. W.; Hwang, C. S.; Lee, J. W.; Jeong, J. J. Electrochem. Soc. 2007, 154, D95.
27. Heo, J.; Won, S.-J.; Eom, D.; Lee, S. Y.; Ahn, Y. B.; Hwang, C. S.; Kim, H. J. Electrochem. Solid-State Lett. 2008, 11, H210-H213.
28. Liles, D. C.; Shaver, A.; Singleton, E.; Wiege, M. B. J. Organomet. Chem. 1985, 288, 33-36.
29. Travaly, Y.; Schuhmacher, J.; Baklanov, M. R.; Giangrandi, S.; Richard, O.; Brijs, B.; Hove, M. V.; Maex, K.; Abell, T.; Somers, K. R. F.; Hendrickx, M. F. A.; Vanquickenborne, L. G.; Ceulemans, A.; Jonas, A. M. J. Appl. Phys. 2005, 98, 083515.
30. Heo, J.; Eom, D.; Kim, H. J. Microelectron. Eng. 2007, 84, 2188-2191.
31. Grill, A.; Neumayer, D. A. J. Appl. Phys. 2003, 94, 6697.
32. Lim, B. S.; Rahtu, A.; Gordon, R. G. Nat. Mater. 2003, 2, 749-754.
33. Jiang, Y.-B.; Xomeritakis, G.; Chen, Z.; Dunphy, D.; Kissel, D. J.; Cecchi, J. L.; Brinker, C. J. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 15446-15447.
34. Whelan, C. M.; Le, Q. T.; Cecchet, F.; Satta, A.; Pireaux, J. J.; Rudolf, P.; Maex, K. Electrochem. Solid-State Lett. 2004, 7, F8.
35. Shamiryan, D.; Baklanov, M. R.; Lyons, P.; Beckx, S.; Boullart, W.; Maex, K. Colloids Surf., A 2007, 300, 111-116.
36. Wang, Z.; Wang, H.; Mitra, A.; Huang, L.; Yan, Y. Adv. Mater. 2001, 13, 746-749.
37. Maex, K.; Baklanov, M. R.; Shamiryan, D.; Iacopi, F.; Brongersma, S. H.; Yanovitskaya, Z. S. J. Appl. Phys. 2003, 93, 8793-8841.
38. The chemistry of silica; Iler, R. K., Ed.; Wiley: New York, 1979.