Post-deposition reorganization of pentacene films deposited on low-energy surfaces

Journal of Materials Chemistry

Volumn 19, Issue 31, 2009, Pages 5580-5592

  Amassian, Aram ^a   Pozdin, Vladimir A ^a   Desai, Tushar V ^a   Hong, Sukwon ^a   Woll, Arthur R ^b   Ferguson, John D ^a   Brock, Joel D ^a   Malliaras, George G ^a   Engstrom, James R ^a  

^a School of Operations Research and Industrial Engineering   (United States)

^b NONE   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AFM; AMBIENT AIR; AS-DEPOSITED THIN FILMS; DE-WETTING; EX SITU; HEXAMETHYLDISILAZANE; IN-SITU; IN-VACUUM; INTERFACIAL LAYER; INTERFACIAL MONOLAYERS; INTERLAYER TRANSPORT; LOW ENERGY SURFACES; MOLECULAR FILMS; MORPHOLOGICAL CHANGES; ORGANIC ELECTRONIC DEVICES; ORGANIC THIN FILMS; PENTACENE FILM; PENTACENES; POST-DEPOSITION; ROOM TEMPERATURE; SMALL MOLECULES; SUPERSONIC MOLECULAR BEAM; SURFACE ENERGIES; SYNCHROTRON X RAYS; TIME INTERVAL; ULTRA-THIN; ULTRA-THIN FILM; UPPER LAYER;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; DIELECTRIC MATERIALS; GATE DIELECTRICS; GATES (TRANSISTOR); INTERFACIAL ENERGY; MOLECULAR DYNAMICS; MOLECULES; MONOLAYERS; SEMICONDUCTING ORGANIC COMPOUNDS; SILICON COMPOUNDS; SURFACE CHEMISTRY; SURFACE TENSION; THIN FILMS; VACUUM;

DEPOSITION;

EID: 68149169153     PISSN: 09599428     EISSN: 13645501     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/b907947e     Document Type: Article

References (66)

1. G. H. Gelinck H. Edzer A. Huitema E. V. Veenendaal E. van Cantatore L. Schrijnemakers J. B. P. H. van der Putten T. C. T. Geuns M. Beenhakkers J. B. Giesbers et al. Nature Mater. 2004 3 106
2. A. L. Briseno S. C. B. Mannsfeld M. M. Ling S. Liu R. J. Tseng C. Reese M. E. Roberts Y. Yang F. Wudl Z. Bao Nature 2006 444 913
3. A. L. Briseno R. J. Tseng M.-M. Ling E. H. L. Falcao Y. Yang F. Wudl Z. Bao Adv. Mat. 2006 18 2320
4. S. Sohnchen S. Lukas G. J. Witte Chem. Phys. 2004 121 525
5. O. D. Jurchescu J. Baas T. T. M. Palstra Appl. Phys. Lett. 2004 84 3061
6. M. Halik H. Klauk U. Zschieschang G. Schmid C. Dehm M. Schuetz S. Maisch F. Effenberger M. Brunnbauer F. Stellacci Nature 2004 431 963
7. A. Papadimitratos A. Amassian A. S. Killampalli J. L. Mack G. G. Malliaras J. R. Engstrom Appl. Phys. A 2009 95 29 35
8. R. Ruiz A. Papadimitratos A. C. Mayer G. G. Malliaras Adv. Mat. 2005 17 1795
9. T. Kelly L. D. Boardman T. D. Dunbar D. V. Muyres M. J. Pellerite T. P. J. Smith Phys. Chem. B 2003 107 5877
10. R. Ruiz D. Choudhary B. Nickel T. Toccoli K. Chang A. C. Mayer P. Clancy J. M. Blakely R. L. Headrick S. Iannotta et al. Chem. Mater. 2004 16 4497
11. S. Y. Yang K. Shin C. E. Park Adv. Func. Mater. 2005 15 1806
12. S. Y. Yang K. Shin S. H. Kim H. Jeon J. H. Kang H. Yang C. E. Park J. Phys. Chem. B 2006 110 20302
13. H. Yang T. J. Shin M. M. Ling K. Cho C. Y. Ryu Z. Bao J. Am. Chem. Soc. 2005 127 11542
14. Practical Surface Analysis by Auger and X-ray Photoelectron Spectroscopy, 2nd edition;, M. P. Seah, and, D. Briggs, Eds.; Wiley & Sons: Chichester, UK, 1992
15. J. W. Rabalais, Principles of Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy; Wiley: New York, 1977
16. Y. Nakayama S. Michida D. Tsunami Y. Kimura M. Niwano Y. Noguchi H. Ishii Appl. Phys. Lett. 2008 92 153306 1
17. P. R. Ribi G. Bratina J. Vac. Sci. Technol. B 2007 25 1152
18. M. Brinkmann S. Pratontep C. Contal Surf. Sci. 2006 600 4712
19. A. S. Killampalli T. W. Schroeder J. R. Engstrom Appl. Phys. Lett. 2005 87 033110 1
20. A. S. Killampalli J. R. Engstrom Appl. Phys. Lett. 2006 88 143125 1
21. F. J. Meyer Zu Heringdorf C. M. Reuter R. M. Tromp Nature 2001 412 517
22. S. E. Fritz S. M. Martin C. D. Frisbie M. D. Ward M. F. Toney J. Am. Chem. Soc. 2004 126 4084
23. X. N. Zhang E. Barrena D. G. de Oteyza H. Dosch Surf. Sci. 2007 601 2420
24. S. Heutz P. Sullivan B. M. Sanderson S. M. Schultes T. S. Jones Solar Energy Mater. and Solar Cells 2004 83 229
25. U. Englisch S. Katholy F. Peñacorada J. Reiche U. Pietsch Mater. Sci. and Engin. C 1999 8-9 99
26. W. Ostwald, Lehrbruck der Allgemeinen Chemie, vol. 2, part 1; Leipzig, Germany, 1896
27. L. Ratke, P. W. Voorhees, Growth and Coarsening: Ostwald Ripening in Material Processing; Springer, 2002
28. S. Rath H. Port Chem. Phys. Lett. 2006 421 152
29. F. Zhang G. Baralia A. Boborodea C. Bailly B. Nysten A. M. Jonas Langmuir 2005 21 7427
30. D. Julthongpiput W. Zhang J. F. Douglas A. Karim M. J. Fasolka Soft Matter 2007 3 613
31. B. M. Besancon P. F. Green J. Chem. Phys. 2007 126 224903 1
32. G. C. Hana Y. H. Wua P. Luoa J. J. Qiua T. C. Chong Solid State Comm. 2003 126 479
33. T. Bolse H. Paulus W. Bolse Nucl. Instr. and Meth. B 2006 245 264
34. G. Beernink T. Strunskus G. Witte Ch. Wöll Appl. Phys. Lett. 2004 85 398
35. D. Kafer C. Woll G. Witte Appl. Phys. A 2009 95 273
36. G. Witte K. Hanel S. Sohnchen Ch. Woll Appl. Phys. A 2006 82 447
37. S. A. Burke J. M. Mativetsky S. Fostner P. Grütter Phys. Rev. B 2007 76 035419 1
38. S. A. Burke W. Ji J. M. Mativetsky J. M. Topple S. Fostner H.-J. Gao H. Guo P. Grütter Phys. Rev. Lett. 2008 100 186104 1
39. S. C. Lim S. H. Kim J. H. Lee M. K. Kim D. J. Kim T. Zyung Synthetic Metals 2005 148 75
40. Q. J. Van Ooij, N. Tang, N. K. Conners, P. J. Barto, in Adhesion Science and Technology: Proceedings of the International Adhesion Symposium;, H. Mizumachi, Ed.; CRC Press, 1997, p.111
41. J. Tallal M. Gordon K. Berton A. L. Charley D. Peyrade Microelectronics Eng. 2005 83 851
42. T. Knieling W. Lang W. Benecke Sensors and Actuators B: Chemical 2007 126 13
43. A. Kawai J. Kawakami J. Photopolym. Sci. Technol. 2003 16 665
44. W. Y. Chou C. W. Kuo H. L. Cheng Y. R. Chen F. C. Tang F. Y. Yang D. Y. Shu C. C. Liao Appl. Phys. Lett. 2006 89 112126 1
45. J. E. Northrup M. L. Tiago S. G. Louie Phys. Rev. B. 2002 66 121404 1
46. S. Wo B. Wang H. Zhou Y. Wang J. Bessette R. L. Headrick A. C. Mayer G. G. Malliaras A. Kazimirov J. Appl. Phys. 2006 100 093504
47. K. Thurmer E. D. Williams J. E. Reutt-Robey Phys. Rev. B 2003 68 155423 1
48. G. Reiter Langmuir 1993 9 1344
49. A. C. Mayer R. Ruiz R. L. Headrick A. Kazimirov G. G. Malliaras Organic Electronics 2004 5 257
50. S. Hong A. Amassian A. R. Woll S. Bhargava J. D. Ferguson G. G. Malliaras J. D. Brock J. R. Engstrom Appl. Phys. Lett. 2008 92 253304 1
51. A. Amassian T. V. Desai S. Kowarik S. Hong A. R. Woll G. G. Malliaras F. Schreiber J. R. Engstrom J. Chem. Phys. 2009 130 124701
52. Y. Wu T. Toccoli J. Zhang N. Koch E. Iacob A. Pallaoro S. Iannotta P. Rudolf Appl. Phys. A 2009 95 21
53. L. L. Kosbar C. D. Dimitrakopoulos D. J. Mascaro Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 2001 665 C10.6
54. S. Kowarik A. Gerlach W. Leitenberger J. Hu G. Witte C. Woll U. Pietsch F. Schreiber Thin Solid Films 2007 515 5606
55. H. Yang L. yang M. M. Ling S. Lastella D. D. Gandhi G. Ramanath Z. Bao C. Y. Ryu J. Phys. Chem. C 2008 112 16161
56. H. Yang M.-M. Ling L. Yang J. Phys. Chem. C 2007 111 12508
57. R. Ruiz A. C. Mayer G. G. Malliaras B. Nickel G. Scoles A. Kazimirov H. Kim R. L. Headrick Z. Islam Appl. Phys. Lett. 2004 85 4926
58. A. C. Mayer A. Kazimirov G. G. Malliaras Phys. Rev. Lett. 2006 97 105503 1
59. A. Amassian K. Kaminska M. Suzuki L. Martinu K. Robbie Appl. Phys. Lett. 2007 91 173114
60. W. L. Kalb F. Meier K. Mattenberger B. Batlogg Phys. Rev. B 2007 76 184112 1
61. H. Yang S. H. Kim L. Yang S. Y. Yang C. E. Park Adv. Mater. 2007 19 2868
62. D. H. Kim H. S. Lee H. Yang L. Yang K. Cho Adv. Func. Mater. 2008 18 1363
63. T. W. Schroeder, Ph.D. Thesis, Cornell University, 2004
64. D. H. Kaelble J. Appl. Polym. Sci. 1974 18 1869
65. P. I. Cohen G. S. Petrich P. R. Pukite G. J. Whaley A. S. Arrott Surf. Sci. 1989 216 222
66. J. E. Goose A. S. Killampalli P. Clancy J. R. Engstrom J. Phys. Chem. C 2009 113 6068