-
1
-
-
23844488821
-
-
0021-8979 10.1063/1.1994932.
-
T. Brückl and H. Zull, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.1994932 98, 023307 (2005).
-
(2005)
J. Appl. Phys.
, vol.98
, pp. 023307
-
-
Brückl, T.1
Zull, H.2
-
2
-
-
25144513938
-
-
0021-8979 10.1063/1.2032617.
-
H. Seo, J. H. Kim, K. H. Chung, J. Y. Kim, S. H. Kim, and H. Jeon, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.2032617 98, 043308 (2005).
-
(2005)
J. Appl. Phys.
, vol.98
, pp. 043308
-
-
Seo, H.1
Kim, J.H.2
Chung, K.H.3
Kim, J.Y.4
Kim, S.H.5
Jeon, H.6
-
3
-
-
40149087199
-
-
0021-8979 10.1063/1.2885158.
-
J. S. Li, J. X. Wang, M. Yin, P. Q. Gao, D. Y. He, Q. Chen, Y. L. Li, and H. Shirai, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.2885158 103, 043505 (2008).
-
(2008)
J. Appl. Phys.
, vol.103
, pp. 043505
-
-
Li, J.S.1
Wang, J.X.2
Yin, M.3
Gao, P.Q.4
He, D.Y.5
Chen, Q.6
Li, Y.L.7
Shirai, H.8
-
4
-
-
12144290380
-
-
0021-8979 10.1063/1.1644630.
-
F. Pommereau, L. Legoúzigou, S. Hubert, S. Sainson, J. P. Chandouineau, S. Fabre, and G. H. Duanal, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.1644630 95, 2242 (2004).
-
(2004)
J. Appl. Phys.
, vol.95
, pp. 2242
-
-
Pommereau, F.1
Legoúzigou, L.2
Hubert, S.3
Sainson, S.4
Chandouineau, J.P.5
Fabre, S.6
Duanal, G.H.7
-
5
-
-
0000006997
-
-
1070-664X 10.1063/1.871477.
-
F. F. Chen, Phys. Plasmas 1070-664X 10.1063/1.871477 2, 2164 (1995).
-
(1995)
Phys. Plasmas
, vol.2
, pp. 2164
-
-
Chen, F.F.1
-
6
-
-
46449114565
-
-
0734-2101 10.1116/1.2924340.
-
H. B. Kim, H. C. Lee, K. N. Kim, and G. Y. Yeoma, J. Vac. Sci. Technol. A 0734-2101 10.1116/1.2924340 26, 842 (2008).
-
(2008)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.26
, pp. 842
-
-
Kim, H.B.1
Lee, H.C.2
Kim, K.N.3
Yeoma, G.Y.4
-
7
-
-
53349175304
-
-
0003-6951 10.1063/1.2994691.
-
M. Avella, J. Jiḿnez, F. Pommereau, J. P. Landesman, and A. Rhallabi, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.2994691 93, 131913 (2008).
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.93
, pp. 131913
-
-
Avella, M.1
Jiḿnez, J.2
Pommereau, F.3
Landesman, J.P.4
Rhallabi, A.5
-
10
-
-
34248371232
-
-
0003-6951 10.1063/1.2734501.
-
M. H. Lee, K. H. Lee, D. S. Hyun, and C. W. Chung, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.2734501 90, 191502 (2007).
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.90
, pp. 191502
-
-
Lee, M.H.1
Lee, K.H.2
Hyun, D.S.3
Chung, C.W.4
-
11
-
-
39349105577
-
-
0003-6951 10.1063/1.2844885.
-
A. M. Daltrini, S. A. Moshkalev, T. J. Morgan, R. B. Piejak, and W. G. Graham, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.2844885 92, 061504 (2008).
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 061504
-
-
Daltrini, A.M.1
Moshkalev, S.A.2
Morgan, T.J.3
Piejak, R.B.4
Graham, W.G.5
-
13
-
-
34247267711
-
-
0021-8979 10.1063/1.2715845.
-
A. M. Daltrini, S. A. Moshkalev, M. J. R. Monteiro, and E. Besseler, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.2715845 101, 073309 (2007).
-
(2007)
J. Appl. Phys.
, vol.101
, pp. 073309
-
-
Daltrini, A.M.1
Moshkalev, S.A.2
Monteiro, M.J.R.3
Besseler, E.4
-
14
-
-
43049132897
-
-
0021-8979 10.1063/1.2905213.
-
S. V. Singh, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.2905213 103, 083303 (2008).
-
(2008)
J. Appl. Phys.
, vol.103
, pp. 083303
-
-
Singh, S.V.1
-
15
-
-
0033341724
-
-
0963-0252 10.1088/0963-0252/8/4/309.
-
G. Cunge, B. Crowley, D. Vender, and M. M. Turne, Plasma Sources Sci. Technol. 0963-0252 10.1088/0963-0252/8/4/309 8, 576 (1999).
-
(1999)
Plasma Sources Sci. Technol.
, vol.8
, pp. 576
-
-
Cunge, G.1
Crowley, B.2
Vender, D.3
Turne, M.M.4
-
16
-
-
7044274672
-
-
0022-3727 10.1088/0022-3727/37/20/009.
-
T. Czerwiec and D. B. Grave, J. Phys. D 0022-3727 10.1088/0022-3727/37/ 20/009 37, 2827 (2004).
-
(2004)
J. Phys. D
, vol.37
, pp. 2827
-
-
Czerwiec, T.1
Grave, D.B.2
-
18
-
-
0032050034
-
-
0093-3813 10.1109/27.669626.
-
N. S. Yoon, B. C. Kim, J. G. Yang, and S. M. Hwang, IEEE Trans. Plasma Sci. 0093-3813 10.1109/27.669626 26, 190 (1998).
-
(1998)
IEEE Trans. Plasma Sci.
, vol.26
, pp. 190
-
-
Yoon, N.S.1
Kim, B.C.2
Yang, J.G.3
Hwang, S.M.4
-
23
-
-
0035418434
-
-
0963-0252 10.1088/0963-0252/10/3/313.
-
P. Chabert, A. J. Lichtenberg, M. A. Lieberman, and A. M. Marakhtanov, Plasma Sources Sci. Technol. 0963-0252 10.1088/0963-0252/10/3/313 10, 478 (2001).
-
(2001)
Plasma Sources Sci. Technol.
, vol.10
, pp. 478
-
-
Chabert, P.1
Lichtenberg, A.J.2
Lieberman, M.A.3
Marakhtanov, A.M.4
-
24
-
-
0042267318
-
-
0021-8979 10.1063/1.1580196.
-
P. Chabert, A. J. Lichtenberg, M. A. Lieberman, and A. M. Marakhtanov, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.1580196 94, 831 (2003).
-
(2003)
J. Appl. Phys.
, vol.94
, pp. 831
-
-
Chabert, P.1
Lichtenberg, A.J.2
Lieberman, M.A.3
Marakhtanov, A.M.4
-
26
-
-
43049132897
-
-
0021-8979 10.1063/1.3000667.
-
S. V. Singh and C. Pargmann, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.3000667 104, 083303 (2008).
-
(2008)
J. Appl. Phys.
, vol.104
, pp. 083303
-
-
Singh, S.V.1
Pargmann, C.2
-
29
-
-
0033352377
-
-
0021-4922 10.1143/JJAP.38.6890.
-
H. J. Yoon, T. H. Chung, and D. C. Seo, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 0021-4922 10.1143/JJAP.38.6890 38, 6890 (1999).
-
(1999)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.38
, pp. 6890
-
-
Yoon, H.J.1
Chung, T.H.2
Seo, D.C.3
-
30
-
-
0035926706
-
-
0022-3727 10.1088/0022-3727/34/10/308.
-
K. Bera, B. Farouk, and P. Vitello, J. Phys. D 0022-3727 10.1088/0022-3727/34/10/308 34, 1479 (2001).
-
(2001)
J. Phys. D
, vol.34
, pp. 1479
-
-
Bera, K.1
Farouk, B.2
Vitello, P.3
-
34
-
-
34248371232
-
-
0003-6951 10.1063/1.2734501.
-
M. H. Lee, K. H. Lee, D. S. Hyun, and C. W. Chung, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.2734501 90, 191502 (2007).
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.90
, pp. 191502
-
-
Lee, M.H.1
Lee, K.H.2
Hyun, D.S.3
Chung, C.W.4
|