-
2
-
-
79958221815
-
-
H. Cao Z. N. Yu J. Wang J. O. Tegenfeldt R. H. Austin E. Chen W. Wu S. Y. Chou Appl. Phys. Lett. 2002 81 174 176
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 174-176
-
-
Cao, H.1
Yu, Z.N.2
Wang, J.3
Tegenfeldt, J.O.4
Austin, R.H.5
Chen, E.6
Wu, W.7
Chou, S.Y.8
-
5
-
-
18744373863
-
-
S. W. Howell S. M. Dirk K. Childs H. Pang M. Blain R. J. Simonson J. M. Tour D. R. Wheeler Nanotechnology 2005 16 754 758
-
(2005)
Nanotechnology
, vol.16
, pp. 754-758
-
-
Howell, S.W.1
Dirk, S.M.2
Childs, K.3
Pang, H.4
Blain, M.5
Simonson, R.J.6
Tour, J.M.7
Wheeler, D.R.8
-
8
-
-
27744605320
-
-
A. L. Garcia L. K. Ista D. N. Petsev M. J. O'Brien P. Bisong A. A. Mammoli S. R. J. Brueck G. P. Lopez Lab Chip 2005 5 1271 1276
-
(2005)
Lab Chip
, vol.5
, pp. 1271-1276
-
-
Garcia, A.L.1
Ista, L.K.2
Petsev, D.N.3
O'Brien, M.J.4
Bisong, P.5
Mammoli, A.A.6
Brueck, S.R.J.7
Lopez, G.P.8
-
12
-
-
34248186650
-
-
Z. Q. Gao A. Agarwal A. D. Trigg N. Singh C. Fang C. H. Tung Y. Fan K. D. Buddharaju J. M. Kong Anal. Chem. 2007 79 3291 3297
-
(2007)
Anal. Chem.
, vol.79
, pp. 3291-3297
-
-
Gao, Z.Q.1
Agarwal, A.2
Trigg, A.D.3
Singh, N.4
Fang, C.5
Tung, C.H.6
Fan, Y.7
Buddharaju, K.D.8
Kong, J.M.9
-
13
-
-
33846695595
-
-
E. Stern J. F. Klemic D. A. Routenberg P. N. Wyrembak D. B. Turner-Evans A. D. Hamilton D. A. LaVan T. M. Fahmy M. A. Reed Nature 2007 445 519 522
-
(2007)
Nature
, vol.445
, pp. 519-522
-
-
Stern, E.1
Klemic, J.F.2
Routenberg, D.A.3
Wyrembak, P.N.4
Turner-Evans, D.B.5
Hamilton, A.D.6
Lavan, D.A.7
Fahmy, T.M.8
Reed, M.A.9
-
17
-
-
0036883171
-
-
P. Naulleau K. A. Goldberg E. H. Anderson D. Attwood P. Batson J. Bokor P. Denham E. Gullikson B. Harteneck B. Hoef K. Jackson D. Olynick S. Rekawa F. Salmassi K. Blaedel H. Chapman L. Hale P. Mirkarimi R. Soufli E. Spiller D. Sweeney J. Taylor C. Walton D. O'Connell D. Tichenor C. W. Gwyn P. Y. Yan G. J. Zhang J. Vac. Sci. Technol., B 2002 20 2829 2833
-
(2002)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.20
, pp. 2829-2833
-
-
Naulleau, P.1
Goldberg, K.A.2
Anderson, E.H.3
Attwood, D.4
Batson, P.5
Bokor, J.6
Denham, P.7
Gullikson, E.8
Harteneck, B.9
Hoef, B.10
Jackson, K.11
Olynick, D.12
Rekawa, S.13
Salmassi, F.14
Blaedel, K.15
Chapman, H.16
Hale, L.17
Mirkarimi, P.18
Soufli, R.19
Spiller, E.20
Sweeney, D.21
Taylor, J.22
Walton, C.23
O'Connell, D.24
Tichenor, D.25
Gwyn, C.W.26
Yan, P.Y.27
Zhang, G.J.28
more..
-
18
-
-
31844442760
-
-
P. Naulleau K. A. Goldberg J. P. Cain E. H. Anderson K. R. Dean P. Denham B. Hoef K. H. Jackson IEEE J. Quantum Electron. 2006 42 44 50
-
(2006)
IEEE J. Quantum Electron.
, vol.42
, pp. 44-50
-
-
Naulleau, P.1
Goldberg, K.A.2
Cain, J.P.3
Anderson, E.H.4
Dean, K.R.5
Denham, P.6
Hoef, B.7
Jackson, K.H.8
-
28
-
-
0036425982
-
-
B. Michel A. Bernard A. Bietsch E. Delamarche M. Geissler D. Juncker H. Kind J. P. Renault H. Rothuizen H. Schmid P. Schmidt-Winkel R. Stutz H. Wolf Chimia 2002 56 527 542
-
(2002)
Chimia
, vol.56
, pp. 527-542
-
-
Michel, B.1
Bernard, A.2
Bietsch, A.3
Delamarche, E.4
Geissler, M.5
Juncker, D.6
Kind, H.7
Renault, J.P.8
Rothuizen, H.9
Schmid, H.10
Schmidt-Winkel, P.11
Stutz, R.12
Wolf, H.13
-
31
-
-
58649116654
-
-
R. J. Hill, Temesca, Berkeley, CA
-
Physcial Vapor Deposition, ed., R. J. Hill,, Temesca, Berkeley, CA, 1976
-
(1976)
Physcial Vapor Deposition, Ed.
-
-
|