Nanoporous organosilicate films prepared in acidic conditions using tetraalkylammonium bromide porogens

Advanced Functional Materials

Volumn 18, Issue 20, 2008, Pages 3332-3339

  Eslava, Salvador ^a,b   Baklanov, Mikhail R ^a   Urrutia, Jone ^a   Kirschhock, Christine E A ^b   Maex, Karen ^a,b   Martens, Johan A ^b  

^a IMEC   (Belgium)

^b UNIVERSITY OF LEUVEN   (Belgium)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ACIDS; AMINES; AMMONIUM COMPOUNDS; COLLOIDS; CONCENTRATION (PROCESS); FILM PREPARATION; FILMS; HYDROPHOBICITY; MATERIALS PROPERTIES; MECHANICAL PROPERTIES; POLYACRYLONITRILES; PORE SIZE; POROSITY; SEMICONDUCTING SILICON COMPOUNDS; SILICON; SILICON WAFERS; SIZE DISTRIBUTION; TOLUENE;

ACIDIC CONDITIONS; ALKYL CHAIN LENGTHS; DIELECTRIC CONSTANTS; ELLIPSOMETRIC POROSIMETRY; METHYLTRIMETHOXY SILANES; NANOPOROUS; NARROW PORES; ORGANOSILICATE FILMS; PORE DIAMETERS; PORE NETWORKS; PORE SIZE DISTRIBUTIONS; PORE SURFACES; PORE VOLUMES; POROGEN; POROGENS; QUATERNARY AMMONIUMS; REFERENCE MATERIALS; SILANOL GROUPS; TETRAALKYLAMMONIUM BROMIDES;

DIELECTRIC MATERIALS;

EID: 55349145986     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.200800556     Document Type: Article

References (51)

1. J. L. Defreese, A. Katz, Chem. Mater. 2005, 17, 6503.
2. B. J. Scott, G. Wirnsberger, O. D. Stucky, Chem. Mater. 2001, 13, 3140.
3. P. Yang, G. Wirnsberger, H. C. Huang, S. R. Cordero, M. D. McGehee, B. Scott, T. Deng, G. M. Whitesicles, B. F. Chmelka, S. K. Buratto, G. D. Stucky, Science 2000, 287, 465.
4. H. C. Kim, G. Wallraff, C. R. Kreller, S. Angeles, V. Y. Lee, W. Volksen, R. D. Miller, Nano Lett. 2004, 4, 1169.
5. H. Dong, M. A. Brook, J. D. Brennan, Chem. Mater. 2005, 17, 2807.
6. K. Maex, M. R. Baklanov, D. Shamiryan, F. Iacopi, S. H. Brongersma, Z. S. Yanovitskaya, J. Appl. Phys. 2003, 93, 8793.
7. G. Dubois, R. D. Miller, W. Volksen,in; Dielectric Films for Advanced Microelectronics, (Eds: M. R. Baklanov, M. Green, K. Maex,), John Wiley & Sons Inc, England 2007, Ch. 2.
8. M. H. Ree, J. W. Yoon, K. Y. Heo, J. Mater. Chem. 2006, 16, 685.
9. L. Nicole, C. Boissiere, D. Grosso, A. Quach, C. Sanchez, J. Mater. Chem. 2005, 15, 3598.
10. B. J. Cha, S. Kim, K. Char, J. K. Lee, D. Y. Yoon, H. W. Rhee, Chem. Mater. 2006, 18, 378.
11. C. J. Hawker, J. L. Hedrick, R. D. Miller, W. Volksen, MRS Bull. 2000, 25, 54.
12. E. F. Connor, L. K. Sundberg, H. C. Kim, J. J. Cornelissen, T. Magbitang, P. M. Rice, V. Y. Lee, C. J. Hawker, W. Volksen, J. L. Hedrick, R. D. Miller, Angew. Chem. 2003, 115, 3915.
13. T. Magbitang, V. Y. Lee, R. D. Miller, M. F. Toney, Z. L. Lin, R. M. Briber, H. C. Kim, J. L. Hedrick, Adv. Mater. 2005, 17, 1031.
14. B. Lee, W. Oh, Y. Hwang, Y. H. Park, J. Yoon, K. S. Jin, K. Heo, J. Kim, K. W. Kim, M. Ree, Adv. Mater. 2005, 17, 696.
15. T. Magbitang, V. Y. Lee, J. N. Cha, H. L. Wang, W. R. Chung, R. D. Miller, G. Dubois, W. Volksen, H. C. Kim, J. L. Hedrick, Angew. Chem. Int. Ed. 2005, 44, 7574.
16. E. M. Freer, L. E. Krupp, W. D. Hinsberg, P. M. Rice, J. L. Hedrick, J. N. Cha, R. D. Miller, H. C. Kim, Nano Lett. 2005, 5, 2014.
17. B. Lee, Y. H. Park, Y. T. Hwang, W. Oh, J. Yoon, M. Ree, Nat. Mater. 2005, 4, 147.
18. Y. H. Yim, Y. Y. Lyu, H. D. Jeong, S. A. Song, I. S. Hwang, J. Hyeon-Lee, S. K. Mah, S. Chang, J. G. Park, Y. F. Hu, J. N. Sun, D. V. Gidley, Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 382.
19. J. H. Yim, J. B. Seon, T. D. Jeong, L. Y. S. Pu, M. R. Baklanov, D.W. Gidley, Adv. Funct. Mater. 2004, 14, 277.
20. J. H. Yim, M. R. Baklanov, D. W. Gidley, H. G. Peng, H. D. Jeong, L. S. Pu, J. Phys. Chem. B 2004, 108, 8953.
21. C. S. Cundy, P. A. Cox, Chem. Rev. 2003, 103, 663.
22. L. Tosheva, V. P. Valtchev, Chem. Mater. 2005, 17, 2494.
23. C. E. A. Kirschhock, R. Ravishankar, F. Verspeurt, P. J. Grobet, P. A. Jacobs, J. A. Martens, J, Phys. Chem. B 1999, 103, 4965.
24. F. K. de Theije, A. R. Balkenende, M. A. Verheijen, M. R. Baklanov, K. P. Mogilnikov, Y. Furukawa, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 4280.
25. J. Brinker, G. W. Sherer, Sol-Gel Science - The Physics and Chemistry of Sol-Gel Processing, Academic Press, San Diego, US 1990, Ch. 3 and 10.
26. S. J. Gregg, K. S. W. Sing, Adsorption, Surface Area and Porosity, 2nd ed., Academic Press, London, England 1982, Ch. 1 and 5.
27. M. R. Baklanov, K. Maex, Philos. T. Roy. Soc. A 2006, 364, 201.
28. Y. Too, H. Kanoh, K. Kaneko, Adv. Mater. 2005, 17, 2789.
29. M. R. Baklanov, K. P. Mogilnikov, V. G. Polovinkin, F. N. Dultsev, J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 1385.
30. A. Grill, V. Patel, K. P. Rodbell, E. Huang, M. R. Baklanov, K. P. Mogilnikov, M. Toney, H. C. Kim, J. Appl. Phys. 2003, 94, 3427.
31. D. Mitra, I. Chakraborly, S. Bhattacharya, S. P. Moulik, Langmuir 2007, 23, 3049.
32. S. Polarz, B. Smarsly, L. Bronstein, M. Antonietti, Angew. Chem. 2001, 113, 4549.
33. B. H. Han, S. Polarz, M. Antonietti, Chem. Mater. 2001, 13, 3915.
34. A. Grill, D. A. Neumayer, J. Appl. Phys. 2003, 94, 6697.
35. P. Innocenzi, P. Falcaro, D. Grosso, F. Babonneau, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 4711.
36. E. Andideh, M. Lerner, G. Palmrose, S. El-Mansy, T. Scherban, G. H. Xu, J. Blaine, J. Vac. Sci. Technol. B 2004, 22, 196.
37. L. H. Lee, W. C. Chen, W. C. Liu, J. Polym. Sci, Part A: Polym. Chem. 2002, 40A, 1560.
38. W. C. Chen, C. T. Yen, J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 201.
39. A. Fidalgo, L. M. llharco, J. Non-Cryst. Solids 2001, 283, 144.
40. E. I. Kamitsos, A. P. Patsis, G. Kordas, Phys. Rev. B 1993, 48, 12499.
41. E. I. Kamitsos, Phys. Rev. B 1996, 53, 14659.
42. R. M. Almeida, C. G. Pantano, J. Appl. Phys. 1990, 68, 4225.
43. D. Quéré, Phys. A 2002, 313, 32.
44. S. Eslava, M. R. Baklanov, C. E. A. Kirschhock, F. Iacopi, S. Aldea, K. Maex, J. A. Martens, Langmuir 2007, 23, 12811.
45. M. R. Baklanov, K. P. Mogilnikov, Q. T. Le, Microelectron. Eng. 2006, 83, 2287.
46. S. Eslava, F. lacopi, M. R. Baklanov, C. E. A. Kirschhock, K. Maex, J. A. Martens, J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 9288.
47. S. Eslava, S. Delahaye, M. R. Baklanov, F. lacopi,C. E. A. Kirschhock, K. Maex, J. A. Martens, Langmuir 2008, 24, 4894.
48. J. P. Icenhower, P. M. Dove, in: Adsorption on Silica Surfaces, (Ed: E. Papirer,), Marcel Dekker, New York, US 2000, Ch. 9.
49. A. Anedda, C. M. Carbonaro, F. Clemente, R. Corpino, P. C. Ricci, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 13661.
50. C. Y. Ting, H. S. Sheu, W. F. Wu, B. Z. Wan, J. Electrochem. Soc. 2007, 154, G1.
51. S. B. Jung, H. H. Park, Thin Solid Films 2006, 494, 320.