Comparison between first- and second-generation praseodymium precursors for the MOCVD synthesis of praseodymium aluminate thin films

Chemistry of Materials

Volumn 19, Issue 18, 2007, Pages 4442-4446

  Nigro, Raffaella Lo ^a   Toro, Roberta G ^b   Malandrino, Grazieila ^b   Fragalà, Ignazio L ^b  

^a CNR   (Italy)

^b UNIVERSITY OF CATANIA   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMORPHOUS FILMS; CHARACTERIZATION; CRYSTALLIZATION; ENERGY DISPERSIVE SPECTROSCOPY; FILM GROWTH; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; MICROSTRUCTURE; PERMITTIVITY; PRASEODYMIUM COMPOUNDS;

ACETYLACETONATE; ADDUCTS; ELECTRICAL CHARACTERIZATIONS;

THIN FILMS;

EID: 34548827989     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm070706t     Document Type: Article

References (32)

1. Frosch, C. J.; Derick, L. Proc. Electrochem. Soc. 1957.
2. Ligenza, J. R.; Spitzer, W. G. J. Phys. Chem. 1961, 65, 2011.
3. Ligenza, J. R.; Spitzer, W. G. J. Phys. Chem. Solids 1960, 14, 131.
4. Gibaudo, G.; Clerc, R.; Vincent, E.; Bruyere, S.; Autran, J. L. C. R. Acad. Sci. Paris 2000, IV, 911.
5. Feofilov, S. P.; Kaplyanskii, A. A.; Zakharchenya, R. I. J. Lumin. 1997, 72, 41.
6. Feofilov, S. P.; Kaplyanskii, A. A.; Kulinkin, A. B.; Kutsenko, A. B.; Vasilevskaya, T. N.; Zakharchenya, R. I. Radiat. Eff. Defects Solids 1999, 151, 943.
7. Green, M. L.; Sorsch, T. W.; Timp, G. L.; Muller, D. A.; Weir, B. E.; Silverman, P. J.; Moccio, S. V.; Kim, Y. O. Microelectron. Eng. 1999, 48.
8. Buchanan, D. A. IBM J. Res. Dev. 1999, 43, 3.
9. Fischetti, M. V.; Laux, S. E. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 2277.
10. Mussig, H. J.; Dabrowsky, J.; Ignatovich, K.; Liu, J. P.; Zavodinsky, V.; Osten, H. J. Surf. Sci. 2002, 504, 159.
11. Gusev, E. P.; Cartier, E.; Buchanan, D. A.; Gribelyuk, M.; Copel, M.; Okorn-Schimdt, H.; D'Emic, C. Microelectron. Eng. 2001, 59, 341.
12. Lysaght, P. S.; Chen, P. J.; Bergamann, R.; Messina, T.; Murto, R. W.; Huff, H. R. J. Non-Cryst. Solids 2002, 303, 54.
13. Osten, H. J.; Liu, J. P.; Bugiel, E.; Mussig, H. J.; Zaumseil, P. Microelectron. Reliab. 2001, 41, 991.
14. Osten, H. J.; Liu, J. P.; Bugiel, E.; Mussig, H. J.; Zaumseil, P. J. Cryst. Growth 2002, 235, 229.
15. Lo Nigro, R.; Raineri, V.; Bongiorno, C.; Toro, R.; Malandrino, G.; Fragalà, I. L. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 129.
16. Lo Nigro, R.; Toro, R.; Malandrino, G.; Raineri, V.; Fragalà, I. L. Adv. Mater. 2003, 15, 1071.
17. Lo Nigro, R.; Toro, R. G.; Malandrino, G.; Condorelli, G. G.; Raineri, V.; Fragalà, I. L. Adv. Funct. Mater. 2005, 15, 838.
18. Lo Nigro, R.; Malandrino, G.; Toro, R. G.; Fragalà, I. L. Chem. Vap. Dep. 2006, 12, 109.
19. Lo Nigro, R.; Malandrino, G.; Toro, R. G.; Fragalà, I. L Topics in Applied Physics: Rare Earth Oxide Thin Films-Growth, Characterization and Applications; Springer, NY, 2007; Vol. 106, p 33.
20. Fiorenza, P.; Lo Nigro, R.; Raineri, V.; Lombardo, S.; Toro, R. G.; Malandrino, G.; Fragalà, I. L. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 231913/1.
21. Fiorenza, P.; Lo Nigro, R.; Raineri, V.; Lombardo, S.; Toro, R. G.; Malandrino, G.; Fraga», I. L. J Appl. Phys. 2005, 98, 044312/1.
22. a) Chin, A.; Liao, C. C.; Lu, C. H.; Chen, W. J.; Tsai, C. 2007 Symposium on VLSI Circuits: Digest of Technical Papers; Institute of Electrical and Electronic Engineers: New York, 2001; p 135.
23. (b) Kim, W. S.; Kawahara, T.; Itoh, H.; Horiuchi, A.; Muto, A.; Maeda, T.; Mitsubishi, R.; Torii, K.; Kitajima, H. Jpn, J. Appl. Phys., Part I, 2004, 43, 1860.
24. (c) Fujtsuka, R.; Sakashita, M.; Sakai, A.; Ogawa, M.; Zaima, S.; Yasuda, Y. Jpn, J. Appl. Phys., Part I 2005, 44, 2428.
25. Green, M. L; Gusev, E. P.; Degraeve, R.; Garfuenkel, E. L. Appl. Phys. Lett. 2001, 90, 2057.
26. Zhu, W.; Ma, T. P.; Tamagawa, T.; Di, Y.; Kim, J.; Carruthers, R.; Gibson, M.; Furukawa, T. Tech. Dig. -Int. Electron Devices Meet. 2001, 464.
27. Van Dover, R. B.; Lang, D. V.; Green, M. L.; Manchanda, L. J. Vac. Sci. Technol. A 2001, 19, 2779.
28. Lo Nigro, R.; Toro, R.; Malandrino, G.; Fragalà, I. L.; Rossi, P.; Dapporto, P. J. Electrochem. Soc. 2004, 151, F206.
29. Malandrino, G.; Condorelli, G. G.; Lo Nigro, R. Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 171.
30. Malandrino, G.; Fragalà, I. L.; Scardi, P. Chem. Mater. 1998, 10, 3765.
31. Malandrino, G.; Frassica, A.; Fragalà, I. L. Chem. Vap. Deposition 1997, 3, 306.
32. Toro, R. G.; Malandrino, G.; Fragalà, I. L.; Keshu, W.; Leto, A.; Pezzotti, G. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 23977.