A simple route to the synthesis of Pr2O3 high-k thin films

Advanced Materials

Volumn 15, Issue 13, 2003, Pages 1071-1075

  Lo Nigro, Raffaella ^b   Toro, Roberta G ^a   Malandrino, Graziella ^a   Raineri, Vito ^b   Fragalà, Ignazio L ^a  

^a UNIVERSITY OF CATANIA   (Italy)

^b CNR   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; COMPOSITION; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; MORPHOLOGY; PRASEODYMIUM COMPOUNDS; SYNTHESIS (CHEMICAL); TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS;

PRECURSORS;

THIN FILMS;

EID: 0042848774     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200304806     Document Type: Review

References (30)

1. S. Kimura, F. Arai, M. Ikezawa, J. Phys. Soc. Jpn. 2000, 69, 3451.
2. H. L. Wan, X. P. Zhou, W. Z. Weng, R. Q. Long, Z. S. Chao, W. D. Zhang, M. S. Chem, J. Z. Luo, S. Q. Zhou, Catal. Today 1999, 51, 161.
3. J. Robertson, J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 1785.
4. S. Chevalier, G. Bonnet, J. P. Larpin, Appl. Surf. Sci. 2000, 167, 125.
5. D. A. Muller, T. Sorsch, S. Moccio, F. H. Baumann, G. Timp, Nature 1999, 399, 758.
6. J. B. Neaton, D. A. Muller, N. W. Ashcroft, Phys. Rev. Lett. 2000, 85, 1298.
7. "International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS)", ITRS publication, International Sematech, Austin, TX 1999, revised 2000; http://public.itrs.net
8. G. D. Wilk, R. M. Wallace, J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243.
9. E. D. Gusev, M. Copel, E. Cartier, I. J. R. Baumval, C. Krug, M. A. Gribelyuk, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 176.
10. B. H. Lee, L. Kang, R. Nieh, W. X Qi, J. C. Lee, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 1926.
11. M. Copel, M. A.Gribelyuk, E. Gusev, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 436.
12. K. J. Hubbard, D. G. Scholm, J. Mater. Res. 1996, 11, 2757.
13. S. Jeon, K. Im, H. Yang, H. Lee, H. Sim, S. Choi, T. Jang, H. Hwang, IEDM Tech. Dig. 2001, 471.
14. H. J. Osten, J. P. Liu, H. J. Mussig, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 297.
15. J. P. Liu, P. Zaumseil, E. Bugiel, H. J. Osten, Appl. Phys. Lett. 2002, 79, 671.
16. H. J. Osten, J. P. Liu, H. J. Mussig, P. Zaumseil, Microelectron. Reliab. 2001, 41, 991.
17. E. J. Tarsa, J. S. Speck, McD. Robinson, Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 539.
18. D. K. Fork, D. B. Fenner, T. H. Geballe, Appl. Phys. Lett. 1990, 68, 4316.
19. H. J. Osten, J. P. Liu, P. Gaworzewski, E. Bugiel, P. Zaumseil, IEDM Tech. Dig. 2000, 653.
20. B. H. Lee, L. Kang, W. J. Qi, R. Nieh, Y. Jeon, K. Onishi, J. C. Lee, IEDM Tech. Dig. 1999, 133.
21. W. J. Qi, R. Nieh, B. H. Lee, L. Kang, Y. Jeon, K. Onishi, T. Ngai, S. Banerjee, J. C. Lee, IEDM Tech. Dig. 1999, 145.
22. H. J. Osten, A. Fissel, H. J. Mussig, U. Schwalke, K. Boye, K. Haberle, R. Heller, G. Hess, G. Muller, T. Ruland, G. Tzschockel, ESSDERC 2002, 407.
23. T. Kodas, M. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD, Wiley-VCH, Weinheim, Germany 1994.
24. H. O. Pierson, Handbook of Chemical Vapor Deposition, Noesy, New York 1992.
25. K. J. Eisentraut, R. E. Sievers, J. Am. Chem. Soc. 1984, 87, 5254.
26. B. G. Hyde, D. J. M. Bevan, L. Eyring, Proc. Conf. Rare Earth Res. 1964, Gordon and Breach, Newark, NJ 1965, p. 277.
27. L. Eyring, N. C. Baenziger, J. Appl. Phys. 1962, 33, 428.
28. A. Dimoulas, G. Vellianitis, A. Travlos, V. Ioannou-Souglediris, A. G. Nassiopoulou, J. Appl. Phys. 2002, 92, 426.
29. S. Guha, E. Cartier, M. Gribelyuk, N. A. Bojarczuk, M. Copel, Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 2710.
30. H. J. Mussig, J. Dabroeski, K. Ignatovich, J. P. Liu, V. Zavodinsky, H. J. Osten, Surf. Sci. 2002, 504, 159.