Heteroepitaxy of LaAlO3 (100) on SrTiO3 (100): In situ growth of LaAlO3 thin films by metal-organic chemical vapor deposition from a liquid single source

Chemistry of Materials

Volumn 10, Issue 12, 1998, Pages 3765-3768

  Malandrino, Graziella ^a   Fragalà, Ignazio L ^a   Scardi, Paolo ^b  

^a UNIVERSITY OF CATANIA   (Italy)

^b UNIVERSITY OF TRENTO   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000543069     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm9804970     Document Type: Article

References (25)

1. Proceedings of the 1992 Applied Superconductivity Conference. IEEE Trans. Appl. Supercond. 1993, 3, 1-2993.
2. Niinisto, L.; Ritala, M.; Leskela, M. Mater. Sci. Eng. B: Solid State Mater. Adv. Technol. 1996, 41, 23.
3. Lee, L. P.; Char, K.; Colclough, M. S.; Zaharchuk, G. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 3051.
4. Berezin, A. B.; Yuan, C. W.; de Lozanne, A. L. Appl. Phys. Lett. 1990, 57, 90.
5. Char, K.; Newman, N.; Garrison, S. M.; Barton, R. W.,Taber R. C.; Laderman, S. S.; Jacowitz, R. D. Appl. Phys. Lett. 1990, 57, 409.
6. Meng, X. F.; Pierce, F. S.; Wong, K. M.; Amos, R. S.; Xu, C. H.; Deaver Jr., B. S.; Poon, S. J. IEEE Trans. Magn. 1991, 27, 1638.
7. Becht, M.; Gerfin, T.; Dahmen, K. H. Chem. Mater. 1993, 5, 137.
8. Han, B.; Neumayer, D. A.; Schulz, D. L.; Marks, T. J.; Zhang, H.; Dravid, V. P.; Appl. Phys. Lett. 1992, 61, 3047.
9. Han, B.; Neumayer, D. A.; Schulz, D. L.; Hinds, B. J.; Marks, T. J. Chem. Mater. 1993, 5, 14.
10. Han, B.; Neumayer, D. A.; Marks, T. J.; Rudman, D. A.; Zhang, H.; Dravid, V. P. Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 3639.
11. Han, B.; Neumayer, D. A.; Goodreau, B. H.; Marks, T. J.; Zhang, H.; Dravid, V. P. Chem. Mater. 1994, 6, 18.
12. (a)Peshev, P.; Slavova, V. Mater. Res. Bull. 1994, 29, 255.
13. (b) Shoup, S. S.; Paranthaman, M.; Beach, D. B.; Spechtand, E. D.; Williams, R. K. J. Mater. Res. 1997, 12, 1017.
14. (a)Chemical Vapor Deposition: Principles and Applications Hitchman, M. L.; Jensen, K. F., Eds.; Academic Press: London, 1993.
15. (b)Spencer, J. T. In Progress in Inorganic Chemistry; Karlin, K. D., Ed.; Wiley: New York, 1994; Vol. 41, p 145.
16. Malandrino, G.; Licata, R.; Castelli, F.; Fragalà , I. L.; Benelli, C. Inorg. Chem. 1995, 34, 6233.
17. Malandrino, G.; Fragalà , I. L. Proceedings of CVD XIVEUROCVD 11, The Electrochemical Society: Pennington, NJ, 1997; Vol. 97-25, p 844.
18. Malandrino, G.; Castelli, F.; Benelli, C.; Fragalà , I. L. Chem. Mater. 1998, in press.
19. (a)Graboy, I. E.; Markov, N. V.; Maleev, V. V.; Kaul, A. R.; Polyakov, S. N.; Svetchnikov, V. L.; Zandbergen, H. W.; Dahmen, K. H. J. Alloys Compd. 1997, 251, 318.
20. (b) Rebane, J. A.; Gorbenko, O. Y.; Suslov, S. G.; Yakovlev, N. V. Korsakov, I. E.; Amelichev, V. A.; Tretyakov, Y. D. Thin Solid Films 1997, 302, 140.
21. (c)Lu, Z.; Hiskes, R.; Dicarolis, S. A.; Nel, A.; Route, R. K.; Feigelson, R. S. J. Crystal Growth 1995, 156, 227.
22. (d)Vanbuskirk, P. C.; Bilodeau, S. M.; Roeder, J. F.; Kirlin, P. S. Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 1996, 35, 2520.
23. Malandrino, G.; Frassica, A.; Fragalà I. L. Chem. Vap. Deposition 1997, 3, 306.
24. Geller, S.; Bala, V. B. Acta Crystallogr. 1956, 9, 1019.
25. Malandrino, G.; Frassica, A. R.; Condorelli, G. G.; Lanza, G.; Fragalà , I. L. J. Alloys Compd. 1997, 251, 314.