MOCVD of LaAlO3 films from a molten precursor mixture: Characterization of liquid, gas, and deposited phases

Chemical Vapor Deposition

Volumn 10, Issue 3, 2004, Pages 171-177

  Malandrino, Graziella ^a   Condorelli, Guglielmo G ^a   Lo Nigro, Raffaella ^b  

^a UNIVERSITY OF CATANIA   (Italy)

^b CNR   (Italy)

Author keywords

Gas phase; LaAlO3; MOCVD; Molten mixture; Perovskite

Indexed keywords

ALUMINA; DIFFERENTIAL SCANNING CALORIMETRY; EPITAXIAL GROWTH; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; IN SITU PROCESSING; LANTHANUM COMPOUNDS; MASS TRANSFER; MOLTEN MATERIALS; PEROVSKITE; PHYSICAL VAPOR DEPOSITION; POLYETHERS; SURFACE PHENOMENA; THERMOANALYSIS; THIN FILMS; VAPORIZATION;

GAS PHASE; HEXAFLUOROACETYLACETONATE; LAALO3; MOLTEN MIXTURES;

METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 3142698565     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200306286     Document Type: Article

References (33)

1. M. A. Peña, J. L. G. Fierro, Chem. Rev. 2001, 101, 1981.
2. S. Geller, V. B. Bala, Acta Crystallogr. 1956, 9, 1019.
3. A. Cassinese, A. Andreone, E. Di Gennaro, G. Pica, R. Vaglio, G. Malandrino, L. M. S. Perdicaro, I. L. Fragalà, C. Granala, Supercond. Sci. Technol. 2001, 14, 406.
4. H. Schneidewind, M. Manzel, G. Bruchlos, K. Kirsch, Supercond. Sci. Technol. 2001, 14, 200.
5. L. P. Lee, K. Char, M. S. Colclough, G. Zaharchuk, Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 3051.
6. X. F. Meng, F. S. Pierce, K. M. Wong, R. S. Amos, C. H. Xu, B. S. Deaver Jr., S. J. Poon, IEEE Trans. Magn. 1991, 27, 1638.
7. P. Peshev, V. Slavova, Mater. Res. Bull. 1994, 29, 255.
8. S. S. Shoup, M. Paranthaman, D. B. Beach, E. D. Spechtand, R. K. Williams, J. Mater. Res. 1997, 12, 1017.
9. Chemical Vapor Deposition: Principles and Applications (Eds: M. L. Hitchman, K. F. Jensen), Academic Press, London 1993.
10. B. Han, D. A. Neumayer, D. L. Schulz, B. J. Hinds, T. J. Marks, Chem. Mater. 1993, 5, 14.
11. A. A. Molodyk, I. E. Korsakov, M. A. Novojilov, I. E. Graboy, A. R. Kaul, G. Wahl, Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 133.
12. M. Nieminen, T. Sajavaara, E. Rauhala, M. Putkonen, L. Niinistö, J. Mater. Chem. 2001, 11, 2340.
13. G. Malandrino, P. Scardi, I. L. Fragalà, Chem. Mater. 1998, 10, 3765.
14. a) G. Malandrino, R. Licata, F. Castelli, I. L. Fragalà, C. Benelli, Inorg. Chem. 1995, 34, 6233.
15. b) G. Malandrino, F. Castelli, C. Benelli, I. L. Fragalà, Chem. Mater. 1998, 10, 3434
16. G. Malandrino, R. Lo Nigro, C. Benelli, I. L. Fragalà, Eur. J. Inorg. Chem. in press.
17. O. Malandrino, A. M. Borzì, I. L. Fragalà, A. Andreone, A. Cassinese, G. Pica, J. Mater. Chem. 2002, 12, 3728.
18. Y. Pauleau, O. Dulac, Chem. Mater. 1991, 3, 280.
19. G. G. Condorelli, S. Gennaro, I. L. Fragalà, Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 185.
20. B. Zheng, G. Braeckelmann, K. Kujawski, I. Lou, S. Lane, A. E. Kaloyeros J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 3896.
21. M. F. Richardson, W. F. Wagner, D. E. Sands, J. Inorg. Nucl. Chem. 1968, 30, 1275.
22. H. Ogoshi, K. Nakamoto, J. Chem. Phys. 1966, 45, 3113.
23. D. Lin-Vien, N. B. Colthup, W. G. Fateley, J. G. Grasselli, The Handbook of Infrared and Raman Characteristic Frequencies of Organic Molecules, Academic Press, San Diego, CA 1991, Ch. 9, p. 117.
24. C. J. Pouchert, The Aldrich Library of Infrared Spectra, Ed. III, Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 1981.
25. C. B. Moore, G. C. Pimentel, J. Chem. Phys. 1963, 38, 2816.
26. D. Lin-Vien, N. B. Colthup, W. G. Fateley, J. G. Grasselli, The Handbook of Infrared and Raman Characteristic Frequencies of Organic Molecules, Academic Press, San Diego, CA 1991, Ch. 13, p. 213.
27. C. Kötting, W. Sander, M. Senzlober, H. Bürger, Chem. Eur. J. 1998, 4, 1611.
28. G. Malandrino, A. R. Frassica, I. L. Fragalà, Chem. Vap. Deposition 1997, 3, 306.
29. R. Lo Nigro, R. Toro, G. Malandrino, I. L. Fragalà, Proc. 16th Int. Conf. and EUROCVD-14, Eds: M. D. Allendorf, F. Maury, F. Teyssandier, The Electrochemical Society, Pennington, NJ 2003, p. 915.
30. G. Malandrino, A. R. Frassica, G. G. Condorelli, G. Lanza, I. L. Fragalà, J. Alloys Compd. 1997, 251, 314.
31. G. Malandrino, I. L. Fragalà, U. Scotti di Uccio, M. Valentino, Il Nuovo Cimento 1997, 19, 1053.
32. K. Char, M. S. Colclough, S. M. Garrison, N. Newman, G. Zaharchuk, Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 733.
33. J. McAleese, J. C. Plakatouras, B. C. H. Steele, Thin Solid Films 1996, 250, 152.