Toward nanometer-scale optical photolithography: Utilizing the near-field of bowtie optical nanoantennas

Nano Letters

Volumn 6, Issue 3, 2006, Pages 355-360

  Sundaramurthy, Arvind ^a   Schuck, P James ^b   Conley, Nicholas R ^b   Fromm, David P ^b   Kino, Gordon S ^a   Moerner, W E ^b  

^a STANFORD UNIVERSITY   (United States)

^b STANFORD UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

OPTICAL NANOANTENNAS; PHOTORESIST REGIONS; POLYMER RESIST NANOSTRUCTURES;

ANTENNAS; FINITE DIFFERENCE METHOD; NANOSTRUCTURED MATERIALS; OPTICAL MATERIALS; PHOTORESISTS; POLYMERS;

PHOTOLITHOGRAPHY;

NANOMATERIAL;

ARTICLE; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CHEMISTRY; COLOR; INSTRUMENTATION; METHODOLOGY; NANOTECHNOLOGY; OPTICS; ULTRASTRUCTURE;

COLOR; MICROSCOPY, ATOMIC FORCE; NANOSTRUCTURES; NANOTECHNOLOGY; OPTICS;

EID: 33645390389     PISSN: 15306984     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/nl052322c     Document Type: Article

References (42)

1. Sanchez, E. J.; Novotny, L.; Xie, X. S. Phys. Rev. Lett. 1999, 82, 4014-4017.
2. Fromm, D. P.; Sundaramurthy, A.; Schuck, P. J.; Kino, G. S.; Moerner, W. E. Nano Lett. 2004, 4, 957-961.
3. Schuck, P. J.; Fromm, D. P.; Sundaramurthy, A.; Kino, G. S.; Moerner, W. E. Phys. Rev. Lett. 2005, 94, 017402.
4. Sundaramurthy, A.; Crozier, K. B.; Kino, G. S.; Fromm, D. P.; Schuck, P. J.; Moerner, W. E. Phys. Rev. B 2005, 72, 165409.
5. Muhlschlegel, P.; Eisler, H.-J.; Martin, O. J. F.; Hecht, B.: Pohl, D. W. Science 2005, 308, 1607-1609.
6. Hao, E.; Schatz, G. C. J. Chem. Phys. 2004, 120, 357-366.
7. Kottmann, J. P.; Martin, O. J. F.; Smith, D. R.; Schultz, S. J. Microsc. 2001, 202, 60-65.
8. Genov, D. A.; Sarychev, A. K.; Shalaev, V. M.; Wei, A. Nano Lett. 2003, 4, 153-158.
9. Jackson, J. B.; Westcott, S. L.; Hirsch, L. R.; West, J. L.; Halas, N. J. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 257-259.
10. Farrer, R. A.; Butterfield, F. L.; Chen, V. W.; Fourkas, J. T. Nano Lett. 2005, 5, 1139-1142.
11. Paesler, M. A.; Moyer, P. J. Near-Field Optics Theory, Instrumentation, and Applications; Wiley: New York, 1996.
12. Betzig, E.; Trautman, J. K.; Harris, T. D.; Weiner, J. S.; Kostelak, R. L. Science 1991, 251, 146-1470.
13. Hecht, B.; Sick, B.; Wild, U. P.; Deckert, V.; Zenobi, R.; Martin, O. J. F.; Pohl, D. W. J. Chem. Phys. 2000, 112, 7761-7774.
14. Hamann, H. F.; Gallagher, A.; Nesbitt, D. J. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 1469-1471.
15. Hillenbrand, R.; Keilmann, F. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 25-27.
16. Hillenbrand, R.; Keilmann, F. Appl. Phys. B 2001, 73, 239-243.
17. Hillenbrand, R.; Keilmann, F.; Hanarp, P.; Sutherland, D. S.; Aizpurua, J. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 368-370.
18. Leiderer, P.; Bartels, C.; Konig-Birk, J.; Mosbacher, M.; Boneberg, J. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 5370-5372.
19. Bouhelier, A.; Beversluis, M. R.; Novotny, L. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 5041-5043.
20. Aizenberg, J.; Rogers, J. A.; Paul, K. E.; Whitesides, G. M. Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 3773-3775.
21. Alkaisi, M. M.; Blaikie, R. J.; McNab, S. J.; Cheung, R.; Cumming, D. R. S. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 3560-3562.
22. Kik, P. G.; Maier, S. A.; Atwater, H. A. Proc. SPIE 2004, 5347, 215-223.
23. Davy, S.; Spajer, M. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 3306-3308.
24. Hubert, C.; Rumyantseva, A.; Lerondel, G.; Grand, J.; Kostcheev, S.; Billot, L.; Vial, A.; Bachelot, R.; Royer, P.; Chang, S.-h.; Gray, S. K.; Wiederrecht, G. P.; Schatz, G. C. Nano Lett. 2005, 5, 615-619.
25. Novotny, L.; Pohl, D. W.; Hecht, B. Opt. Lett. 1995, 20, 970-972.
26. Hartschuh, A.; Beversluis, M. R.; Bouhelier, A.; Novotny, L. Philos. Trans. R. Soc. London, Ser. A 2004, 362, 807-819.
27. Martin, Y. C.; Hamann, H. F.; Wickramasinghe, H. K. J. Appl. Phys. 2001, 89, 5774-5778.
28. Tanaka, T.; Sun, H.-B.; Kawata, S. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 312-314.
29. Teh, W. H.; Durig, U.; Drechsler, U.; Smith, C. G.; Guntherodt, H.-J. J. Appl. Phys. 2005, 97, 054907.
30. Yin, X.; Fang, N.; Zhang, X.; Martini, I. B.; Schwartz, B. J. Appl. Phys. Lett. 2002, 57, 3663-3665.
31. Baldacchini, T.; LaFratta, C. N.; Farrer, R. A.; Teich, M. C.; Saleh, B. E. A.; Naughton, M. J.; Fourkas, J. T. J. Appl. Phys. 2004, 95, 6072-6076.
32. Juodkazis, S.; Mizeikis, V.; Seet, K. K.; Miwa, M.; Misawa, H. Nanotechnology 2005, 16, 846-849.
33. Campagnola, P. J.; Delguidice, D. M.; Epling, G. A.; Hoffacker, K. D.; Howell, A. R.; Pitts, J. D.; Goodman, S. L. Macromolecules 2000, 33, 1511-1513.
34. Cumpston, B. H.; Ananthavel, S. P.; Barlow, S.; Dyer, D. L.; Ehrlich, E. E.; Erskine, L. L.; Heikal, A. A.; Kuebler, S. M.; Lee, I.-Y.; McCord-Maughon, D.; Qin, J.; Rockel, H.; Rumi, M.; X.-L., W.; Marder, S. R.; Perry, J. W. Nature 1999, 398, 51-54.
35. Postnikova, B. J.; Currie, J.; Doyle, T.; E., H. R.; Anslyn, E. V.; Shear, J. B.; Vanden Bout, D. A. Microelectron. Eng. 2003, 69, 459-465.
36. Takada, K.; H.-B., S.; Kawata, S. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 071122.
37. Perry, M. D.; Stuart, B. C.; Banks, P. S.; Feit, M. D.; Yanovsky, V.; Rubenchik, A. M. J. Appl. Phys. 1999, 55, 6803-6810.
38. Montelius, L.; Tegenfeldt, J. O. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 2628-2630.
39. Houle, F. A.; Hinsberg, W. D.; Morrison, M.; Sanchez, M. I.; Wallraff, G.; Larson, C.; Hoffnagle, J. J. Vac. Sci. Technol., B 2000, 18, 1874-1885.
40. Lin, E. K.; Soles, C. L.; Goldfarb, D. L.; Trinque, B. C.; Burns, S. D.; Jones, R. L.; Lenhart, J. L.; Angelopoulos, M.; Willson, C. G.; Satija, S. K.; Wu, W.-L. Science 2002, 297, 372-375.
41. Mason, M. D.; Ray, K.; Grober, R. D.; Pohlers, G.; Cameron, J. Phys. Rev. Lett. 2004, 93, 073004.
42. Lounis, B.; Moerner, W. E. Nature 2000, 407, 491-493.