Thermal decomposition of Ti (O-iPr)2(dpm)2on Pt Foil

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 153, Issue 3, 2006, Pages

  Cho, Yong Seok ^a   Cho, Sung Il ^a,b   Heo, Jung Shik ^a   Kim, Jeong Chan ^a   Moon, Sang Heup ^a  

^a Seoul National University   (South Korea)

^b SAMSUNG Electronics   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DISSOCIATION; METAL FOIL; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; PLATINUM; PYROLYSIS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; DISPROPORTIONATION; ISOPROPOXY LIGAND; TITANIUM DIISOPROPOXIDE DIPIVALOYLMETHANATO;

TITANIUM COMPOUNDS;

EID: 32044457881     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2165747     Document Type: Article

References (33)

1. C. S. Hwang, Mater. Sci. Eng., B, 56, 178 (1998).
2. N. Tohge and Y. Takama, J. Mater. Sci.: Mater. Electron., 10, 273 (1999).
3. G. D. Wilk, R. M. Wallace, and J. M. Anthony, J. Appl. Phys., 89, 5243 (2001).
4. M. Yoshida, H. Yamaguchi, T. Sakuma, and Y. Miyasaka, J. Electrochem. Soc., 142, 244 (1995).
5. S. O. Park, C. S. Hwang, H.-J. Cho, C. S. Kang, H.-K. Kang, S. I. Lee, and M. Y. Lee, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 35, 1548 (1996).
6. L. A. Wills, W. A. Feil, B. W. Wessels, L. M. Tong, and T. J. Marks, J. Cryst. Growth, 107, 712 (1991).
7. M. de Keijser and G. J. M. Dormans, MRS Bull., 21 (6), 37 (1996).
8. M. Ritala, M. Leskela, L. Niinisto, and P. Haussalo, Chem. Mater., 5, 1174 (1993).
9. M. Ritala, M. Leskela, and E. Rauhala, Chem. Mater., 6, 556 (1994).
10. S. George, A. W. Ott, and J. W. Klaus, J. Phys. Chem., 100, 13121 (1996).
11. T. Suntola, Thin Solid Films, 216, 84 (1992).
12. J. Aarik, A. Aidla, V. Sammelselg, and T. Uustare, J. Cryst. Growth, 148, 268 (1995).
13. K. Kukli, A. Aidla, J. Aarik, M. Schuisky, A. Harsta, M. Ritala, and M. Leskela, Langmuir, 16, 8122 (2000).
14. S. J. Yun, K. H. Lee, J. Skarp, H. R. Kim, and K. S. Nam, J. Vac. Sci. Technol. A, 15, 2993 (1997).
15. R. Kuse, M. Kundu, T. Yasuda, N. Miyata, and A. Toriumi, J. Appl. Phys., 94, 6411 (2003).
16. A. Rahtu, K. Kukli, and M. Ritala, Chem. Mater., 13, 817 (2001).
17. K. Yong and J. Jeong, Korean J. Chem. Eng., 19, 451 (2002).
18. H.-K. Ryu, J. S. Heo, S.-I. Cho, C. H. Chung, and S. H. Moon, J. Electrochem. Soc., 146, 1117 (1999).
19. J. S. Heo, Y. S. Cho, J. C. Kim, and S. H. Moon, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 44, 3926 (2005).
20. S. Haukka and T. Suntola, Interface Sci., 5, 119 (1997).
21. M. Leskela and M. Ritala, J. Phys. IV, 9, Pr8-837 (1999).
22. S.-I. Cho, C.-H. Chung, and S. H. Moon, Thin Solid Films, 409, 98 (2002).
23. S.-I. Cho, C.-H. Chung, and S. H. Moon, J. Phys. IV, 11, Pr3-517 (2001).
24. Eight Peak Index of Mass Spectra, 3rd ed., Mass Spectrometry Data Centre, Nottingham, U.K. (1986).
25. R. J. Koestner, M. A. Van Hove, and G. A. Somorjai, J. Phys. Chem., 87, 203 (1983).
26. Z. M. Liu and M. A. Vannice, Surf. Sci., 316, 337 (1994).
27. Y.-M. Wu, D. C. Bradley, and R. M. Nix, Appl. Surf. Sci., 64, 21 (1993).
28. K. Kawasiki, T. Kodama, H. Miki, and T. Kioda, Surf. Sci., 64, 349 (1977).
29. R. E. Gilbert, C. K. Mount, O. Melendez, and G. B. Hoflund, J. Phys.: Condens. Matter, 5, A213 (1993).
30. P. Babelon, A. S. Dequiedt, H. Mostefa-Sba, S. Bourgeois, P. Sibillot, and M. Sacilotti, Thin Solid Films, 322, 63 (1998).
31. G. S. Herman, Y. Gao, T. T. Tran, and J. Osterwalder, Surf. Sci., 447, 201 (2000).
32. Y. Gao, C. L. Perkins, S. He, P. Alluri, T. Tran, S. Thevuthasan, and M. A. Henderson, J. Appl. Phys., 87, 7430 (2000).
33. J. L. Armstrong, M. Langell, and J. M. White, J. Vac. Sci. Technol. A, 15, 1146 (1997).