Nucleation and growth of copper oxide films in MOCVD processes using the β-ketoiminate precursor 4,4′-(1,2-ethanediyldinitrilo)bis(2-pentanonate) copper(II)

Chemical Vapor Deposition

Volumn 5, Issue 5, 1999, Pages 237-244

  Condorelli, Guglielmo G ^a   Malandrino, Graziella ^a   Fragalà, Ignazio L ^a  

^a UNIVERSITY OF CATANIA   (Italy)

Author keywords

Copper oxides; Growth kinetics; MOCVD; Nucleation; Precursors; Ketoiminate

Indexed keywords

EID: 0039181528     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/(SICI)1521-3862(199910)5:5<237::AID-CVDE237>3.0.CO;2-U     Document Type: Article

References (33)

1. A. E. Kaloyeros, M. A. Fury, MRS Bull. 1993, 18(6), 22.
2. J. Li, T. E. Seidel, J. W. Mayer, MRS Bull. 1994, 19(8), 15.
3. P. C. Andricacos, C. Uzoh, J. O. Dukovic, J. Horkans, H. Deligianni, IBM J. Res. Dev. 1998, 42, 567.
4. J. G. Bednorz, K. A. Müller, Z. Phys. B 1986, 64, 89.
5. A. D. Berry, K. D. Gaskill, R. T. Holm, E. J. Cukauskas, R. Kaplan, R. L. Henry, Appl. Phys. Lett. 1988, 52, 1743:
6. G. Malandrino, A. Frassica, G. G. Condorelli, G. Lanza, I. L. Fragalà, J. Alloys Compd. 1997, 257, 314.
7. G. Malandrino, G. G. Condorelli, G. Lanza, I. L. Fragalà, U. Scotti di Uccio, M. Valentino, J. Alloys Compd. 1997, 251, 332.
8. T. Ishihara, K. Kometani, M. Hashida, Y. Takita, J. Electrochem. Soc. 1991, 138, 173.
9. T. Ishihara, M. Higuchi, T. Takagi, M. Ito, H. Nishiguchi, T. Takita, J. Mater. Chem. 1998, 8, 2037.
10. J. Tamaki, K. Shimanoe, Y. Yamada, Y. Yamamoto, N. Miura, N. Yamazoe, Sens. Actuators B 1998, 49, 121.
11. D. L. Schulz, T. J. Marks, Adv. Mater. 1994, 6, 719.
12. M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, in The Chemistry of Metal CVD (Eds: T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith), VCH, Weinheim 1994, p. 239.
13. G. L. Griffin, A. W. Maverick, in The Chemistry of Metal CVD (Eds: T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith), VCH, Weinheim 1994, a) p. 175;
14. b) p.212.
15. R. G. Charles, J. G. Cleary, US Patent 3 594 216, 1971.
16. T. Gerfin, M. Becht, K. H. Dahmen, Mater. Sci. Eng. B 1993, 17, 97.
17. S. M. Fine, P. N. Dyer, J. A. T. Norman, B. A. Muratore, R. L. Ianpietro Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1990, 204, 415.
18. M. L Hitchman, K. F. Jensen, in Chemical Vapor Deposition (Eds: M. L. Hitchman, K. F. Jensen), Academic Press, London 1993, p. 5.
19. G. G. Condorelli, G. Malandrino, I. L. Fragalà, Chem. Mater. 1995, 7, 2096.
20. W. L. Gladfelter, Chem. Mater. 1993, 5, 1372.
21. C. A. Neugebauer, in Handbook of Thin Film Technology (Eds. L. I. Maissel, R. Glang), McGraw-Hill, New York 1969, Ch. 8, a) p. 3;
22. b) p. 32;
23. c) p. 41.
24. A. Laaksonen, V. Talanquer, D. W. Oxtoby, Annu. Rev. Phys. Chem. 1995, 46, 489.
25. M. P. Seah, in Practical Surface Analysis, Vol. 1 (Eds: D. Briggs, M. P. Seah), Wiley, Chichester 1995, p. 244.
26. C. D. Wagner, L. E. Davis, M. V. Zeller, J. A. Taylor, R. H. Raymond, L. H. Gale, Surf. Interface Anal. 1981, 3, 211.
27. M. P. Seah, W. A. Dench, Surf. Interface Anal. 1979, 1, 2.
28. J. F. Moulder, W. F. Stickle, P. E. Sobol, K. D. Bomben, in Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy (Ed: J. Chastain), Perkin-Elmer Corporation Physical Electronic Division, Eden Prairie, ME 1992, p. 25.
29. Hacac = 2,4-pentanedione.
30. G. G. Condorelli, G. Malandrino, I. Fragalà, Chem. Mater. 1994, 6, 1861.
31. G. G. Condorelli, G. Malandrino, I. L. Fragalà, Chem. Vap. Deposition 1999, 5, 21.
32. ASTM Powder Diffraction Files, Joint Committee on Powder Diffraction Standards (JCPDS), USA 1974, set 5-0661, Inorganic.
33. P. J. McCarthy, R. J. Hovey, K. Ueno, A. E. Martell, J. Am. Chem. Soc. 1955, 77, 5820.