Plasma etching: Principles, mechanisms, application to micro- and nano-technologies

Applied Surface Science

Volumn 164, Issue 1-4, 2000, Pages 72-83

  Cardinaud, Christophe ^a   Peignon, Marie Claude ^a   Tessier, Pierre Yves ^a  

^a INSTITUT DES MATÉRIAUX JEAN ROUXEL   (France)

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Micro technology; Plasma etching; Sano technology

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EID: 0034272682     PISSN: 01694332     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0169-4332(00)00328-7     Document Type: Article

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