Cleaning of AlN and GaN surfaces

Journal of Applied Physics

Volumn 84, Issue 9, 1998, Pages 5248-5260

  King, S W ^a   Barnak, J P ^a   Bremser, M D ^a   Tracy, K M ^a   Ronning, C ^a   Davis, R F ^a   Nemanich, R J ^a  

^a North Carolina State University   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001682415     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.368814     Document Type: Article

References (86)

1. R. F. Davis, Proc. IEEE 79, 702 (1991).
2. J. H. Edgar, J. Mater. Res. 7, 235 (1992).
3. S. Strite and H. Morkoc, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 1237 (1992).
4. H. Morkoc and S. N. Mohammad, Science 267, 51 (1995).
5. S. Nakamura et al., Appl. Phys. Lett. 68, 3269 (1996); 72, 2014 (1998).
6. S. Nakamura et al., Appl. Phys. Lett. 68, 3269 (1996); 72, 2014 (1998).
7. M. C. Benjamin, M. D. Bremser, T. W. Weeks, Jr., S. W. King, R. F. Davis, and R. J. Nemanich, Appl. Surf. Sci. 104/105, 455 (1996).
8. M. C. Benjamin, C. Wang, R. F. Davis, and R. J. Nemanich, Appl. Phys. Lett. 64, 3288 (1994).
9. W. Kern, RCA Rev. 39, 278 (1978).
10. W. Kern, J. Electrochem. Soc. 137, 1887 (1990).
11. T. Ohmi, J. Electrochem. Soc. 143, 1957 (1996).
12. G. R. Srinivasan, J. Cryst. Growth 70, 201 (1984).
13. M. K. Sanganeria, M. C. Ozturk, G. Harris, K. E. Violette, I. Ban, C. A. Lee, and D. M. Maher, J. Electrochem. Soc. 142, 3961 (1995).
14. E. H. Rhoderick and R. H. Williams, Metal-Semiconductor Contacts, 2nd ed. (Oxford University Press, New York, 1988). pp. 5-17.
15. S. Ingrey, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 829 (1992).
16. J. Massies and J. P. Contour, J. Appl. Phys. 58, 806 (1985).
17. J. P. Contour, J. Massies, H. Fronius, and K. Ploog, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 27, L167 (1988).
18. S. Ingrey, W. M. Lau, and N. S. McIntrye, J. Vac. Sci. Technol. A 4, 984 (1986).
19. J. A. McClintock, R. A. Wilson, and N. E. Byer, J. Vac. Sci. Technol. 20, 241 (1982).
20. V. Y. Fominski, O. I. Naoumenko, V. N. Nevolin, A. P. Alekhin, A. M. Markeev, and L. A. Vyukov, Appl. Phys. Lett. 68, 2243 (1996).
21. S. Baunack and A. Zehe, Phys. Status Solidi A 115, 223 (1989).
22. R. P. Vasquez, B. F. Lewis, and F. J. Grunthaner, Appl. Phys. Lett. 42, 293 (1983).
23. A. J. SpringThorpe, S. J. Ingrey, B. Emmerstorfer, P. Mandeville, and W. T. Moore, Appl. Phys. Lett. 50, 77 (1987).
24. T. H. Chiu, W. T. Tsang, M. D. Williams, C. A. C. Mendonca, K. Dreyer, and F. G. Storz, Appl. Phys. Lett. 65, 3368 (1994).
25. M. Yamada and Y. Ide, Jpn. J. Appl, Phys., Part 2 33, L671 (1994).
26. C. M. Rouleau and R. M. Park, J. Appl. Phys. 73, 4610 (1993).
27. V. Grafe, H. Reinhardt, D. Schalch, and A. Scharmann, Phys. Status Solidi A 136, K105 (1993).
28. C. G. Olson, J. H. Sexton, D. W. Lynch, A. J. Bevolo, H. R. Shanks, B. N. Harmon, W. Y. Ching, and D. M. Wieliczka, Solid State Commun. 56, 35 (1985).
29. R. V. Kasowski and F. S. Ohuchi, Phys. Rev. B 35, 9311 (1987).
30. H. H. Madden and D. W. Goodman, Surf. Sci. 150, 39 (1985).
31. J. A. Taylor and J. W. Rabalais, J. Chem. Phys. 75, 1735 (1981).
32. Y. Kido, M. Kakeno, K. Yamada, T. Hioki, J. Kawamoto, and M. Tada, J. Phys. D 15, 2067 (1982).
33. J. Hedman and N. Martensson, Phys. Scr. 22, 176 (1980).
34. R. W. Hunt, L. Vanzetti, T. Castro, K. M. Chen, L. Sorba, P. I. Cohen, W. Gladfelter, J. M. van Hove, J. N. Kuznia, M. A. Khan, and A. Franciosi, Physica B 185, 415 (1993).
35. J. Ma, B. Garni, N. Perkins, W. L. O'Brien, T. F. Kuech, and M. G. Lagally, Appl. Phys. Lett. 69, 3351 (1996).
36. M. A. Khan, J. N. Kuznia, D. T. Olson, and R. Kaplan, J. Appl. Phys. 73, 3108 (1993).
37. V. M. Bermudez, R. Kaplan, M. A. Khan, and J. N. Kuznia, Phys. Rev. B 48, 2436 (1993).
38. V. M. Bermudez, T. M. Jung, K. Doverspike, and A. E. Wickenden, J. Appl. Phys. 79, 110 (1996).
39. V. M. Bermudez, J. Appl. Phys. 80, 1190 (1996).
40. S. W. King, C. Ronning, M. C. Benjamin, R. J. Nemanich, and R. F. Davis, J. Appl. Phys. (to be published).
41. K. Prabhakaran, T. G. Andersson, and K. Nozawa, Appl. Phys. Lett. 69, 3212 (1996).
42. V. M. Bermudez, Appl. Surf. Sci. 119, 147 (1997).
43. M. M. Sung, J. Ahn, V. Bykov, D. D. Koleske, A. E. Wickenden, and J. W. Rabalais, Phys. Rev. B 54, 14652 (1996).
44. K. Rapcewicz, M. B. Nardelli, and J. Bernholc, Phys. Rev. B 56, R12725 (1997).
45. W. C. Hughes, W. H. Rowland, Jr., M. A. L. Johnson, S. Fujita, J. W. Cook, Jr., J. F. Schetzina, J. Ren, and J. A. Edmond, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 1571 (1995).
46. K. Iwata, H. Asahi, S. J. Yu, K. Asami, H. Fujita, M. Fushida, and S. Gonda, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 35, L289 (1996).
47. P. Hacke, G. Feuillet, H. Okumura, and S. Yoshida, J. Cryst. Growth 175/176, 94 (1997).
48. F. A. Ponce, D. P. Bour, W. T. Young, M. Saunders, and J. W. Steeds, Appl. Phys. Lett. 69, 337 (1996).
49. B. Daudin, J. L. Rouviere, and M. Arlery, Appl. Phys. Lett. 69, 2480 (1996).
50. S. S. Dhesi, C. B. Stagarescu, K. E. Smith, D. Doppalapudi, R. Singh, and T. D. Moustakas, Phys. Rev. B 56, 10271 (1997).
51. H. Ishikawa, S. Kobayashi, Y. Koide, S. Yamasaki, S. Nagai, J. Umezaki M. Koike, and M. Murakami, J. Appl. Phys. 81, 1315 (1997).
52. L. L. Smith, S. W. King, R. J. Nemanich, and R. F. Davis, J. Electron Mater. 25, 805 (1996).
53. W. E. Packard, J. D. Dow, K. Doverspike, R. Kaplan, and R. Nicolaides, J. Mater. Res. 12, 646 (1997).
54. T. W. Weeks, Jr., M. D. Bremser, K. S. Ailey, E. Carlson, W. G. Perry, and R. F. Davis, Appl. Phys. Lett. 67, 401 (1995).
55. S. W. King, Ph.D. dissertation, NCSU, 1997.
56. J. van der Weide, Ph.D. dissertation, NCSU, 1994.
57. S. Ingrey, W. M. Lau, and N. S. NcIntyre, J. Vac. Sci. Technol. A 4, 984 (1986).
58. J. R. Vig, J. Vac. Sci. Technol. A 3, 1027 (1985).
59. M. Tabe, Appl. Phys. Lett. 45, 1073 (1984).
60. V. Y. Fominski, O. I. Naoumenko, V. N. Nevolin, A. P. Alekhin, A. M. Markeev, and L. A. Vyukov, Appl. Phys. Lett. 68, 2243 (1996).
61. A. Nylund and I. Olefjord, Surf. Interface Anal. 21, 283 (1994).
62. A. Nylund and I. Olefjord, Surf. Interface Anal. 21, 290 (1994).
63. T. Tsuchida and H. Takahashi, J. Mater. Res. 9, 2919 (1994).
64. P. Bowen, J. G. Highfield, A. Mocellin, and T. A. Ring, J. Am. Ceram. Soc. 73, 724 (1990).
65. J. G. Highfield and P. Bowen, Anal. Chem. 61, 2399 (1989).
66. XPS Handbook, edited by J. Chastain (Perkin Elmer, Eden Prairie, MN, 1992).
67. D. R. Lide, CRC Handbook of Chemistry and Physics, 71st ed. (CRC, New York, 1991), pp. 4-41, 9-87.
68. V. I. Nefedov, Y. A. Buslaev, and Y. V. Kokunov, Russ. J. Inorg. Chem. 19, 1166 (1974).
69. S. W. King, L. L. Smith, J. P. Barnak, J. H. Ku, J. A. Christman, M. C. Benjamin, M. D. Bremser, R. J. Nemanich, and R. F. Davis, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 395, 739 (1996).
70. C. K. Peng, S. L. Tu, S. S. Chen, and C. C. Lin, Appl. Phys. Lett. 66, 2549 (1995).
71. C. P. Foley and J. Lyngdal, J. Vac. Sci. Technol. A 5, 1708 (1987).
72. S. D. Wolter, B. P. Luther, D. L. Waltemyer, C. Onneby, S. E. Mohney, and R. J. Molnar, Appl. Phys. Lett. 70, 2156 (1997).
73. A. Miyauchi, Y. Inoue, M. Ohue, N. Momma, T. Suzuki, and M. Akiyama, J. Electrochem. Soc. 137, 3257 (1990).
74. CRC Handbook, edited by D. R. Lide (CRC, Boston, 1990).
75. R. G. Frieser, J. Electrochem. Soc. 113, 357 (1966).
76. I. Chen, S. Hwang, and S. Chen, Ind. Eng. Chem. Res. 28, 738 (1989).
77. G. Hollinger and F. J. Himpsel, Appl. Phys. Lett. 44, 93 (1984).
78. W. C. Simpson, T. D. Durbin, P. R. Varekamp, and J. A. Yarmoff, J. Appl. Phys. 77, 2751 (1995).
79. R. D. Jones and K. Rose, J. Phys. Chem. Solids 48, 587 (1987).
80. F. C. Sauls, W. J. Hurley, L. V. Interrante, P. S. Marchetti, and G. E. Maciel, Chem. Mater. 7, 1361 (1995).
81. P. Hacke, G. Feuillet, H. Okumura, and S. Yoshida, Appl. Phys. Lett. 69, 2507 (1996).
82. C. C. Cheng, S. R. Lucas, H. Gutleben, W. J. Choyke, and J. T. Yates, Jr., J. Am. Chem. Soc. 114, 1249 (1992).
83. S. Nakamura, N. Iwasa, M. Senoh, and T. Mukai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 31, 107 (1992).
84. W. Kim, A. Salvador, A. E. Botchkarev, O. Aktas, S. N. Mohammad, and H. Morkoc, Appl. Phys. Lett. 69, 559 (1996).
85. J. M. Zavada, R. G. Wilson, C. R. Abernathy, and S. J. Pearton, Appl. Phys. Lett. 64, 2724 (1994).
86. S. J. Pearton, C. R. Abernathy, P. W. Wisk, W. S. Hobson, and F. Ren, Appl. Phys. Lett. 63, 1143 (1993).