Effects of surface treatments and metal work functions on electrical properties at p-GaN/metal interfaces

Journal of Applied Physics

Volumn 81, Issue 3, 1997, Pages 1315-1322

  Ishikawa, Hidenori ^a   Kobayashi, Setsuko ^a   Koide, Y ^a   Yamasaki, S ^b   Nagai, S ^b   Umezaki, J ^b   Koike, M ^b   Murakami, Masanori ^a  

^a KYOTO UNIVERSITY   (Japan)

^b Toyoda Gosei Co Ltd   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0346282583     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.363912     Document Type: Article

References (28)

1. H. Amano, N. Sawaki, I. Akasaki, and Y. Toyoda, Appl. Phys. Lett. 48, 353 (1986).
2. I. Akasaki, H. Amano, Y. Koide, K. Hiramatsu, and N. Sawaki, J. Cryst. Growth 98, 209 (1989).
3. H. Amano, M. Kito, K. Hiramatsu, and I. Akasaki, Jpn. J. Appl. Phys. 28, L2112 (1989).
4. S. Nakamura, T. Mukai, and M. Senoh, Appl. Phys. Lett. 64, 1687 (1994).
5. I. Akasaki, H. Amano, S. Sota, H. Sakai, T. Tanaka, and M. Koike, Jpn. J. Appl. Phys. 34, L1517 (1995).
6. S. Nakamura, M. Senoh, S. Nagahama, N. Iwasa, T. Yamada, T. Matsushita, H. Kiyoku, and Y. Sugimoto, Jpn. J. Appl. Phys. 35, L74 (1996).
7. M. A. Khan, J. N. Kuznia, A. R. Bhattarai, and K. T. Olson, Appl. Phys. Lett. 62, 1786 (1993).
8. J. S. Foresi and T. D. Moustakas, Appl. Phys. Lett. 62, 2859 (1993).
9. M. E. Lin, Z. Ma, F. Y. Huang, Z. F. Fan, L. H. Allen, and H. Morkoç, Appl. Phys. Lett. 64, 1003 (1994).
10. M. E. Lin, F. Y. Huang, and H. Morkoç, Appl. Phys. Lett. 64, 2557 (1994).
11. J. D. Guo, C. I. Lin, M. S. Feng, F. M. Pan, G. C. Chi, and C. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 68, 235 (1996).
12. R. W. Hunt, L. Vanzetti, T. Castro, K. M. Chen, L. Sorba, P. I. Cohen, W. Gladfelter, J. M. Van Hove, J. N. Kuznia, M. A. Khan, and A. Franciosi, Physica B 185, 415 (1993).
13. T. L. Chu, K. Ito, R. K. Smeltzer, and S. S. C. Chu, J. Electrochem. Soc. 121, 159 (1974).
14. A. Shintani and S. Minagawa, J. Electrochem. Soc. 123, 706 (1976).
15. A. Callegari, E. T-S. Pan, and M. Murakami, Appl. Phys. Lett. 46, 1141 (1985).
16. M. Murakami, K. D. Childs, J. M. Baker, and A. Callegari, J. Vac. Sci. Technol. B 4, 903 (1986).
17. T. Sands, V. G. Keramidas, A. J. Yu, K.-M. Yu, R. Gronsky, and J. Washburn, J. Mater. Res. 2, 262 (1987).
18. V. M. Bermudez, T. M. Jung, K. Doverspike, and A. E. Wickenden, J. Appl. Phys. 79, 110 (1996).
19. J. D. Guo, M. S. Feng, R. J. Guo, F. M. Pan, and C. Y. Chang, Appl. Phys. Lett. 67, 2657 (1995).
20. J. F. Moulder, W. F. Stickle, P. E. Sobol, and K. D. Bomben, Handbook of X-Ray Photoelectron Spectroscopy (Perkin-Elmer, Eden Praine, MN, 1991).
21. H. H. Berger, Solid-State Electron. 15, 145 (1972).
22. H. B. Michaelson, J. Appl. Phys. 48, 4729 (1977).
23. J. Cho, L. M. Pawlowicz, and N. C. Saha, J. Appl. Phys. 72, 4172 (1992).
24. H. C. Card and E. H. Rhoderick, J. Phys. D 4, 1589 (1971).
25. K. Hattori and Y. Izumi, J. Appl. Phys. 53, 6906 (1982).
26. K. Hattori, T. Yamazaki, Y. Uraoka, and T. Fujii, J. Appl. Phys. 54, 7020 (1983).
27. R. A. Logan and C. D. Yhurmond, J. Electrochem. Soc. 119, 1727 (1972).
28. M. Ilecems and H. C. Montgomety, J. Phys. Chem. Solids 34, 885 (1973).