-
3
-
-
0035872897
-
-
G. D. Wilk, R. M. Wallace, and J. M. Anthony, J. Appl. Phys., 89, 5243 (2001)
-
(2001)
J. Appl. Phys
, vol.89
, pp. 5243
-
-
Wilk, G.D.1
Wallace, R.M.2
Anthony, J.M.3
-
5
-
-
58049088384
-
-
H. Kwon, H.-H. Park, B.-H. Kim, and J. S. Ha, J. Electrochem. Soc., 156, G13 (2009)
-
(2009)
J. Electrochem. Soc
, vol.156
-
-
Kwon, H.1
Park, H.-H.2
Kim, B.-H.3
Ha, J.S.4
-
6
-
-
78650724589
-
-
Q. Tao, A. Kueltzo, M. Singh, G. Jursich, and C. G. Takoudis, J. Electrochem. Soc., 158, G27 (2011)
-
(2011)
J. Electrochem. Soc
, vol.158
-
-
Tao, Q.1
Kueltzo, A.2
Singh, M.3
Jursich, G.4
Takoudis, C.G.5
-
9
-
-
79953174275
-
-
M. Lukosius, C. B. Kaynak, S. Rushworth, and C.Wenger, J. Electrochem. Soc., 158, G119 (2011)
-
(2011)
J. Electrochem. Soc
, vol.158
-
-
Lukosius, M.1
Kaynak, C.B.2
Rushworth, S.3
Wenger, C.4
-
10
-
-
33751584082
-
-
T.-M. Pan, C.-L. Chen, W.W. Yeh, and S.-J. Hou, Appl. Phys. Lett., 89, 222912 (2006)
-
(2006)
Appl. Phys. Lett
, vol.89
, pp. 222912
-
-
Pan, T.-M.1
Chen, C.-L.2
Yeh, W.W.3
Hou, S.-J.4
-
11
-
-
27744508284
-
-
J. Paivassari, J. Niinisto, K. Arstila, K. Kukli, M. Putkonen, and L. Niinisto, Chem. Vap. Deposition, 11, 415 (2005)
-
(2005)
Chem. Vap. Deposition
, vol.11
, pp. 415
-
-
Paivassari, J.1
Niinisto, J.2
Arstila, K.3
Kukli, K.4
Putkonen, M.5
Niinisto, L.6
-
13
-
-
67349232757
-
-
A. V. Shlyakhtina, D. A. Belov, O. K. Karyagina, and L. G. Shcherbakova, J. Alloys Compd., 479, 6 (2009)
-
(2009)
J. Alloys Compd
, vol.479
, pp. 6
-
-
Shlyakhtina, A.V.1
Belov, D.A.2
Karyagina, O.K.3
Shcherbakova, L.G.4
-
16
-
-
79955661360
-
-
Q. Tao, G. M. Jursich, and C. Takoudis, IEEE Trans. Semi. Manu., 24, 139 (2011)
-
(2011)
IEEE Trans. Semi. Manu
, vol.24
, pp. 139
-
-
Tao, Q.1
Jursich, G.M.2
Takoudis, C.3
-
17
-
-
2942585147
-
-
J. Paivasaari, M. Putkonen, T. Sajavaara, and L. Niinisto, J. Alloys Compd., 374, 124 (2004)
-
(2004)
J. Alloys Compd
, vol.374
, pp. 124
-
-
Paivasaari, J.1
Putkonen, M.2
Sajavaara, T.3
Niinisto, L.4
-
18
-
-
27344438442
-
-
J. Paivasaari, C. L. Dezelah, D. Back, H. M. El-Kadri, M. J. Heeg, M. Putkonen, L. Niinisto, and C. H. Winter, J. Mater. Chem., 15, 4224 (2005)
-
(2005)
J. Mater. Chem
, vol.15
, pp. 4224
-
-
Paivasaari, J.1
Dezelah, C.L.2
Back, D.3
El-Kadri, H.M.4
Heeg, M.J.5
Putkonen, M.6
Niinisto, L.7
Winter, C.H.8
-
19
-
-
0027591725
-
-
M. Ritala, M. Leskela, E. Nykanen, P. Soininen, and L. Niinisto, Thin Solid Films, 228, 32 (1993)
-
(1993)
Thin Solid Films
, vol.228
, pp. 32
-
-
Ritala, M.1
Leskela, M.2
Nykanen, E.3
Soininen, P.4
Niinisto, L.5
-
20
-
-
0034229297
-
-
J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, M. Ritala, and M. Leskela, Appl. Surf. Sci., 161, 385 (2000)
-
(2000)
Appl. Surf. Sci
, vol.161
, pp. 385
-
-
Aarik, J.1
Aidla, A.2
Uustare, T.3
Ritala, M.4
Leskela, M.5
-
21
-
-
66549099367
-
-
P. Majumder, G. Jursich, and C. Takoudis, J. Appl. Phys., 105, 104106 (2009)
-
(2009)
J. Appl. Phys
, vol.105
, pp. 104106
-
-
Majumder, P.1
Jursich, G.2
Takoudis, C.3
-
22
-
-
51849105994
-
-
B. Miao, R. Mahapatra, N. Wright, and A. Horsfall, J. Appl. Phys., 104, 054510 (2008)
-
(2008)
J. Appl. Phys
, vol.104
, pp. 054510
-
-
Miao, B.1
Mahapatra, R.2
Wright, N.3
Horsfall, A.4
-
23
-
-
25644443869
-
-
W. D. Kim, G. W. Hwang, O. S. Kwon, S. K. Kim, M. Cho, D. S. Jeong, S. W. Lee, M. H. Seo, C. S. Hwang, Y.-S. Min, and Y. J. Cho, J. Electrochem. Soc., 152, C552 (2005)
-
(2005)
J. Electrochem. Soc
, vol.152
-
-
Kim, W.D.1
Hwang, G.W.2
Kwon, O.S.3
Kim, S.K.4
Cho, M.5
Jeong, D.S.6
Lee, S.W.7
Seo, M.H.8
Hwang, C.S.9
Min, Y.-S.10
Cho, Y.J.11
-
24
-
-
33645719096
-
-
S. K. Kim, S. W. Lee,C. S.Hwang,Y.-S. Min, J. Y.Won, and J. Jeong, J. Electrochem. Soc., 153, F69 (2006)
-
(2006)
J. Electrochem. Soc
, vol.153
-
-
Kim, S.K.1
Lee, S.W.2
Hwang, C.S.3
Min, Y.-S.4
Won, J.Y.5
Jeong, J.6
-
25
-
-
79959604629
-
-
F. M. Li, B. C. Bayer, S. Hofmann, J. D. Dutson, S. J. Wakeham, M. J. Thwaites, W. I. Milne, and A. J. Flewitt, Appl. Phys. Lett., 98, 252903 (2011)
-
(2011)
Appl. Phys. Lett
, vol.98
, pp. 252903
-
-
Li, F.M.1
Bayer, B.C.2
Hofmann, S.3
Dutson, J.D.4
Wakeham, S.J.5
Thwaites, M.J.6
Milne, W.I.7
Flewitt, A.J.8
-
26
-
-
67651208863
-
-
Q. Tao, G. Jursich, P. Majumder, M. Singh, W. Walkosz, P. Gu, R. Klie, and C. Takoudis, Electrochem. Soid-State Lett., 12, G50 (2009)
-
(2009)
Electrochem. Soid-State Lett
, vol.12
-
-
Tao, Q.1
Jursich, G.2
Majumder, P.3
Singh, M.4
Walkosz, W.5
Gu, P.6
Klie, R.7
Takoudis, C.8
-
27
-
-
0032645835
-
-
S. A. Campbell, H.-S. Kim, D. C. Gilmer, B. He, T. Ma, and W. L. Gladfelter, IBM J. RES. DEVELOP., 43, 383 (1999)
-
(1999)
IBM J. RES. DEVELOP
, vol.43
, pp. 383
-
-
Campbell, S.A.1
Kim, H.-S.2
Gilmer, D.C.3
He, B.4
Ma, T.5
Gladfelter, W.L.6
|