Effects of growth temperature on the structural and the optical properties of ZnO thin films on porous silicon grown by using plasma-assisted molecular beam epitaxy

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 60, Issue 10, 2012, Pages 1570-1575

  Kim, Min Su ^a   Kim, Soaram ^a   Yim, Kwang Gug ^a   Leem, Jae Young ^a   Kim, Do Yeob ^b   Nam, Giwoong ^a   Lee, Dong Yul ^c   Kim, Jin Soo ^d   Kim, Jong Su ^e   Son, Jeong Sik ^f  

^a Inje University   (South Korea)

^b Clemson University   (United States)

^c SAMSUNG Electronics   (South Korea)

^d Chonbuk National University   (South Korea)

^e Yeungnam University   (South Korea)

^f Kyungwoon University   (South Korea)

Author keywords

Photoluminescence; Plasma assisted molecular beam epitaxy; Porous silicon; Scanning electron microscopy; X ray diffraction; Zinc oxide

Indexed keywords

EID: 84863634564     PISSN: 03744884     EISSN: 19768524     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.60.1570     Document Type: Article

References (36)

1. Y. S. Kim, W. P. Tai and S. J. Shu, Thin Solid Films 491, 153 (2005).
2. F. Peng, H. Wang, H. Yu and S. Chen, Mater. Res. Bull. 41, 2123 (2006).
3. V. V. S. Kumar, F. Singh, A. Kumar and D. K. Avasthi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 244, 91 (2006).
4. A. Ashour, M. A. Kaid, N. Z. El-Sayed and A. A. Ibrahim, Appl. Surf. Sci. 252, 7844 (2006).
5. S. Lemlikchi, S. Abdelli-Messaci, S. Lafane, T. Kerdja, A. Guittoum and M. Saad, Appl. Surf. Sci. 256, 5650 (2010).
6. W. Shena, Y. Zhaoa and T. Zhang, Thin Solid Films 483, 382 (2005).
7. Y. Li, L. Xu, X. Li, X. Shen and A. Wang, Appl. Surf. Sci. 256, 4543 (2010).
8. U. N. Maiti, P. K. Ghosh, S. Nandy and K. K. Chattopadhyay, Physica B 387, 103 (2007).
9. M. S. Kim, K. G. Yim, M. Y. Cho, D.-Y. Lee, J. S. Kim, J. S. Kim, J.-S. Son and J.-Y. Leem, J. Korean Phys. Soc. 58, 515 (2011).
10. S.-J. An, W. I. Park, G.-C. Yi and S. Cho, Appl. Phys. A 74, 509 (2002).
11. M. S. Kim et al., J. Cryst. Growth 311, 3568 (2009).
12. M. Y. Cho et al., J. Korean Phys. Soc. 56, 1833 (2010).
13. X. Du, M. Murakami, H. Iwaki, Y. Ishitani and A. Yoshikawa, Jpn, J. Appl. Phys. 41, L1043 (2001).
14. A. Setiawan, Z. Vashaei, M. W. Cho, T. Yao, H. Kato, M. Sano, K. Miyamoto, I. Yonenaga and H. J. Ko, J. Appl. Phys. 96, 3763 (2004).
15. Y. M. Lu, X. Wang, Z. Z. Zhang, D. Z. Shen, S. C. Su, B. Yao, B. H. Li, J. Y. Zhang, D. X. Zhao, X. W. Fan and Z. K. Tang, J. Cryst. Growth 301, 373 (2007).
16. F. Xiu, Z. Yang, D. Zhao, J. Liu, K. A. Alim, A. A. Balandin, M. E. Itkis and R. C. Haddon, J. Cryst. Growth 286, 61 (2006).
17. E. Ş. Tüzemen, S. Eker, H. Kavak and R. Esen, Appl. Surf. Sci. 255, 6195 (2009).
18. S. M. Yang, S. K. Han, D. S. Kang, J. G. Kim, S. K. Hong, J. W. Lee, J. Y. Lee, J. H. Song and T. Yao, J. Korean Phys. Soc. 53, 276 (2008).
19. A. Miyake, H. Kominami, H. Tatsuoka, H. Kuwabara, Y. Nakanishi and Y. Hatanaka, J. Cryst. Growth 214, 294 (2000).
20. Y. Feng, Y. Zhou, Y. Liu, G. Zhang and X. Zhang, J. Lumin. 119-120, 233 (2006).
21. D. J. Park, J. Y. Lee, T. E. Park, Y. Y. Kim and H. K. Cho, Thin Solid Films 515, 6721 (2007).
22. Y. C. Lee, S. Y. Hu, W. Water, K. K. Tiong, Z. C. Feng, Y. T. Chen, J. C. Huang, J. W. Lee, C. C. Huang, J. L. Shen and M. H. Cheng, J. Lumin. 129, 148 (2009).
23. M. S. Kim et al., J. Korean Phys. Soc. 56, 827 (2010).
24. Y. Chen, D. M. Bagnall, H. Koh, K. Park, K. Hiraga, Z. Zhu and T. Yao, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998).
25. H. Y. Choi et al., J. Korean Phys. Soc. 56, 1514 (2010).
26. S. S. Kim and B. T. Lee, Thin Solid Films 446, 307 (2004).
27. X. Q. Wei, J. Z. Huang, M. Y. Zhang, Y. Du and B. Y. Man, Mater. Sci. Eng. B-Adv. 166, 141 (2010).
28. L. S. Chuah, Z. Hassan, S. Ng and H. A. Hassan, J. Alloys Compd. 479, L54 (2009).
29. K. K. Kim, J. H. Jong, H. J. Jung, W. K. Choi, S. J. Park and J. H. Song, J. Appl. Phys. 87, 3573 (2000).
30. D. M. Bagnall, Y. F. Chen, M. Y. Chen, M. Y. Shen, Z. Zhu, T. Goto and T. Yao, J. Cryst. Growth 184, 605 (1998).
31. L. E. Greene, M. Law, J. Goldberger, F. Kim, J. C. Johnson, Y. Zhang, R. J. Saykally and P. Yang, Angew. Chem. Int. Ed. 42, 3031 (2003).
32. D. Li, Y. H. Leung, A. B. Djurišić, Z. T. Liu, M. H. Xie, S. L. Shi, S. J. Xu and W. K. Chan, Appl. Phys. Lett. 85, 1601 (2004).
33. K. Vanheusden, W. L. Warren, C. H. Seager, D. R. Tallant, J. A. Voigt and B. E. Gnade, J. Appl. Phys. 79, 7983 (1996).
34. Y. Zhang, Y. Liu, L. Wu, H. Li, L. Han, B. Wang and E. Xie, Appl. Surf. Sci. 255, 4801 (2009).
35. L. Wu, Y. Wu, X. Pan and F. Kong, Opt. Mater. 28, 418 (2006).
36. R. Krishna, D. Haranath, S. P. Singh, H. Chander, A. C. Pandey and D. Kanjilal, J. Mater. Sci. 42, 10047 (2007).