Electrochromic behavior of W xSi yO z thin films prepared by reactive magnetron sputtering at normal and glancing angles

ACS Applied Materials and Interfaces

Volumn 4, Issue 2, 2012, Pages 628-638

  Gil Rostra, Jorge ^a   Cano, Manuel ^b   Pedrosa, José M ^b   Ferrer, Francisco Javier ^c   García García, Francisco ^d   Yubero, Francisco ^a   González Elipe, Agustín R ^a  

^a INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE SEVILLA   (Spain)

^b UNIVERSIDAD PABLO DE OLAVIDE   (Spain)

^c CENTRO NACIONAL DE ACELERADORES   (Spain)

^d NONE

Author keywords

colored thin films; electrochromic films; GLAD; optical properties; reactive magnetron sputtering; tungsten oxide; W xSi yO z

Indexed keywords

COLORED THIN FILMS; ELECTROCHROMIC FILMS; GLAD; REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING; TUNGSTEN OXIDE;

ELECTROCHROMIC DEVICES; MAGNETRON SPUTTERING; OPTICAL PROPERTIES; RAMAN SPECTROSCOPY; REFRACTIVE INDEX; RUTHERFORD BACKSCATTERING SPECTROSCOPY; SILICON; THIN FILMS; TUNGSTEN; TUNGSTEN COMPOUNDS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

AMORPHOUS SILICON;

EID: 84857383319     PISSN: 19448244     EISSN: 19448252     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/am2014629     Document Type: Article

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