Toward local growth of individual nanowires on three-dimensional microstructures by using a minimally invasive catalyst templating method

Nano Letters

Volumn 11, Issue 10, 2011, Pages 4213-4217

  Jenke, Martin Günter ^a   Lerose, Damiana ^b   Niederberger, Christoph ^a   Michler, Johann ^a   Christiansen, Silke ^b,c   Utke, Ivo ^a  

^a SWISS FEDERAL LABORATORIES FOR MATERIALS SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Switzerland)

^b LEIBNIZ INSTITUTE OF PHOTONIC TECHNOLOGY   (Germany)

^c MAX PLANCK INSTITUTE FOR THE SCIENCE OF LIGHT   (Germany)

Author keywords

chemical vapor deposition (CVD); focused electron beam induced deposition (FEBID); Focused ion beam (FIB); nanowire; postprocessing; silicon nanowire; vapor liquid solid growth (VLS)

Indexed keywords

FOCUSED ELECTRON BEAM INDUCED DEPOSITION (FEBID); FOCUSED ION BEAM (FIB); POSTPROCESSING; SILICON NANOWIRE; VAPOR LIQUID SOLID GROWTH (VLS);

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CATALYSTS; ELECTRON BEAMS; FOCUSED ION BEAMS; GOLD DEPOSITS; LIQUIDS; NANOWIRES; SILICON COMPOUNDS; SILICON OXIDES; THREE DIMENSIONAL; VAPORS;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 80054019348     PISSN: 15306984     EISSN: 15306992     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/nl2021448     Document Type: Article

References (38)

1. Nadj-Perge, S.; Frolov, S. M.; Bakkers, E. P. A. M.; Kouwenhoven, L. P. Nature 2010, 468 (7327) 1084-1087
2. Liao, L.; Lin, Y. C.; Bao, M. Q.; Cheng, R.; Bai, J. W.; Liu, Y. A.; Qu, Y. Q.; Wang, K. L.; Huang, Y.; Duan, X. F. Nature 2010, 467 (7313) 305-308
3. Xiang, J.; Lu, W.; Hu, Y. J.; Wu, Y.; Yan, H.; Lieber, C. M. Nature 2006, 441 (7092) 489-493
4. Pauzauskie, P. J.; Yang, P. Mater. Today 2006, 9 (10) 36-45
5. Tian, B. Z.; Cohen-Karni, T.; Qing, Q. A.; Duan, X. J.; Xie, P.; Lieber, C. M. Science 2010, 329 (5993) 830-834
6. Zheng, G. F.; Gao, X. P. A.; Lieber, C. M. Nano Lett. 2010, 10 (8) 3179-3183
7. Cui, Y.; Wei, Q. Q.; Park, H. K.; Lieber, C. M. Science 2001, 293 (5533) 1289-1292
8. Hochbaum, A. I.; Chen, R. K.; Delgado, R. D.; Liang, W. J.; Garnett, E. C.; Najarian, M.; Majumdar, A.; Yang, P. D. Nature 2008, 451 (7175) 163-176
9. Stelzner, T.; Pietsch, M.; Andra, G.; Falk, F.; Ose, E.; Christiansen, S. Nanotechnology 2008, 19 (29) 295203
10. Lerose, D.; Bechelany, M.; Philippe, L.; Michler, J.; Christiansen, S. J. Cryst. Growth 2010, 312 (20) 2887-2891
11. Becker, M.; Sivakov, V.; Andra, G.; Geiger, R.; Schreiber, J.; Hoffmann, S.; Michler, J.; Milenin, A. P.; Werner, P.; Christiansen, S. H. Nano Lett. 2007, 7 (1) 75-80
12. Schmid, H.; Bjork, M. T.; Knoch, J.; Riel, H.; Riess, W.; Rice, P.; Topuria, T. J. Appl. Phys. 2008, 103 (2) 024304
13. Cheng, C.; Lei, M.; Feng, L.; Wong, T. L.; Ho, K. M.; Fung, K. K.; Loy, M. M. T.; Yu, D. P.; Wang, N. ACS Nano 2009, 3 (1) 53-58
14. Fan, H. J.; Lee, W.; Scholz, R.; Dadgar, A.; Krost, A.; Nielsch, K.; Zacharias, M. Nanotechnology 2005, 16 (6) 913-917
15. Lee, S. H.; Lee, H. J.; Oh, D.; Lee, S. W.; Goto, H.; Buckmaster, R.; Yasukawa, T.; Matsue, T.; Hong, S. K.; Ko, H.; Cho, M. W.; Yao, T. F. J. Phys. Chem. B 2006, 110 (9) 3856-3859
16. Martensson, T.; Borgstrom, M.; Seifert, W.; Ohlsson, B. J.; Samuelson, L. Nanotechnology 2003, 14 (12) 1255-1258
17. Martensson, T.; Carlberg, P.; Borgstrom, M.; Montelius, L.; Seifert, W.; Samuelson, L. Nano Lett. 2004, 4 (4) 699-702
18. Peng, K. Q.; Zhang, M. L.; Lu, A. J.; Wong, N. B.; Zhang, R. Q.; Lee, S. T. Appl. Phys. Lett. 2007, 90 (16) 163123
19. Li, J. Y.; Lu, C. G.; Maynor, B.; Huang, S. M.; Liu, J. Chem. Mater. 2004, 16 (9) 1633-1636
20. He, J. H.; Hsu, J. H.; Wang, C. W.; Lin, H. N.; Chen, L. J.; Wang, Z. L. J. Phys. Chem. B 2006, 110 (1) 50-53
21. Guan, Y. F.; Fowlkes, J. D.; Retterer, S. T.; Simpson, M. L.; Rack, P. D. Nanotechnology 2008, 19 (50) 505302
22. Utke, I.; Hoffmann, P.; Melngailis, J. J. Vac. Sci. Technol., B 2008, 26 (4) 1197-1276
23. Utke, I.; Golzhauser, A. Angew. Chem., Int. Ed. 2010, 49 (49) 9328-9330
24. Wagner, R. S.; Ellis, W. C. Appl. Phys. Lett. 1964, 4 (5) 89-90
25. Givargizov, E. I. J. Cryst. Growth 1975, 31 (Dec) 20-30
26. Ross, F. M. Rep. Prog. Phys. 2010, 73 (11) 114501
27. Kallesoe, C.; Wen, C. Y.; Molhave, K.; Boggild, P.; Ross, F. M. Small 2010, 6 (18) 2058-2064
28. Steckl, A. J.; Chyr, I. J. Vac. Sci. Technol., B 1999, 17 (2) 362-365
29. Melngailis, J.; Musil, C. R.; Stevens, E. H.; Utlaut, M.; Kellogg, E. M.; Post, R. T.; Geis, M. W.; Mountain, R. W. J. Vac. Sci. Technol., B 1986, 4 (1) 176-180
30. Hochleitner, G.; Steinmair, M.; Lugstein, A.; Roediger, P.; Wanzenboeck, H. D.; Bertagnolli, E. Nanotechnology 2011, 22 (1) 015302
31. Utke, I.; Hoffmann, P.; Dwir, B.; Leifer, K.; Kapon, E.; Doppelt, P. J. Vac. Sci. Technol., B 2000, 18 (6) 3168-3171
32. Westwater, J.; Gosain, D. P.; Tomiya, S.; Usui, S.; Ruda, H. J. Vac. Sci. Technol., B 1997, 15 (3) 554-557
33. Schmidt, V.; Senz, S.; Gosele, U. Nano Lett. 2005, 5 (5) 931-935
34. Kodambaka, S.; Hannon, J. B.; Tromp, R. M.; Ross, F. M. Nano Lett. 2006, 6 (6) 1292-1296
35. Stelzner, T.; Andra, G.; Wendler, E.; Wesch, W.; Scholz, R.; Gosele, U.; Christiansen, S. Nanotechnology 2006, 17 (12) 2895-2898
36. Cui, Y.; Lauhon, L. J.; Gudiksen, M. S.; Wang, J. F.; Lieber, C. M. Appl. Phys. Lett. 2001, 78 (15) 2214-2216
37. Gierak, J. Semicond. Sci. Technol. 2009, 24 (4) 043001
38. van Dorp, W. F.; van Someren, B.; Hagen, C. W.; Kruit, P. Nano Lett. 2005, 5 (7) 1303-1307