The atomic layer deposition of SrB2O4 films using the thermally stable precursor bis(tris(pyrazolyl)borate)strontium

Chemical Vapor Deposition

Volumn 17, Issue 4-6, 2011, Pages 128-134

  Saly, Mark J ^a   Munnik, Frans ^b   Winter, Charles H ^a  

^a WAYNE STATE UNIVERSITY   (United States)

^b INSTITUTE OF ION BEAM PHYSICS AND MATERIALS RESEARCH   (Germany)

Author keywords

Atomic layer deposition; Strontium; Strontium borate; Thin film grsowth; Tris(pyrazolyl)borate ligands

Indexed keywords

ALD GROWTH; AS-DEPOSITED FILMS; CARBON AND NITROGEN; DETECTION LIMITS; ELASTIC RECOIL DETECTION ANALYSIS; HYDROGEN CONCENTRATION; SEM IMAGE; STRONTIUM BORATE; THERMALLY STABLE; THIN FILM COMPOSITION; TRIS(PYRAZOLYL)BORATE LIGANDS; TRISPYRAZOLYLBORATE; WATER PULSE; XPS ANALYSIS;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; ATOMIC LAYER DEPOSITION; PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; STRONTIUM; SURFACE ROUGHNESS; THIN FILMS; VAPOR DEPOSITION; X RAY DIFFRACTION; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

AMORPHOUS FILMS;

EID: 79958167074     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.201006890     Document Type: Article

References (58)

1. W. A. Wojtczak, P. F. Fleig, M. J. Hampden-Smith, Adv. Organomet. Chem. 1996, 40, 215.
2. G. G. Condorelli, G. Malandrino, I. L. Fragalà, Coord. Chem. Rev. 2007, 251, 1931.
3. B. W. Wessels, Annu. Rev. Mater. Sci. 1995, 25, 525.
4. J. S. Mathews, W. S. Rees, Jr, Adv. Inorg. Chem. 2000, 50, 173.
5. P. Becker, Adv. Mater. 1998, 10, 979.
6. D. N. Nikogosyan, Nonlinear Optical Crystals: A Complete Survey, Springer, New York 2005.
7. C. Chen, Z. Lin, Z. Wang, Appl. Phys. B: Laser Opt. 2005, 80, 1.
8. W. M. Yen, M. J. Weber, Inorganic Phosphors: Compositions, Preparation, and Optical Properties, CRC Press, Boca Raton, Florida 2004.
9. M. Leskelä, T. Koskentalo, G. Blasse, J. Solid State Chem. 1985, 89, 272.
10. W. J. Schipper, D. van der Voort, P. van den Berg, Z. A. E. P. Vroon, G. Blasse, Mater. Chem. Phys. 1993, 33, 311.
11. J. R. Peterson, W. Xu, S. Dai, Chem. Mater. 1995, 7, 1686.
12. H. J. Seo, B. K. Moon, B. J. Kim, J. B. Kim, T. Tsuboi, J. Phys. Condens. Mater. 1999, 7635.
13. P. V. Pir, V. P. Dotsenko, N. P. Efryushina, I. V. Berezovskaya, Inorg. Mater. 2006, 42, 901.
14. C.-K. Chang, T.-M. Chen, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 081902.
15. W.-S. Song, Y.-S. Kim, H. Yang, Mater. Chem. Phys. 2009, 117, 500.
16. Ä. Pekgözlü, H. Karabulut, Inorg. Mater. 2009, 45, 61.
17. A. S. Aleksandrovsky, A. M. Potseluyko, V. A. Seredkin, A. I. Zaitsev, A. V. Zamkov, Thin Solid Films 2005, 483, 27.
18. C. Iwamoto, S. Fujihara, Opt. Mater. 2009, 31, 1614.
19. J. Hao, M. Cocivera, J. Phys. -Condens. Matter 2002, 14, 925.
20. J. Hao, J. Gao, M. Cocivera, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 2778.
21. H. O. Pierson, Handbook of Chemical Vapor Deposition (CVD), Noyes Publications/William Andrew Publishing, Norwich, New York 2005.
22. M. L. Hitchman, K. F. Jenson, Chemical Vapor Deposition: Principles and Applications, Academic Press, London 1993.
23. M. Leskelä, M. Ritala, Angew. Chem. Int. Ed. 2003, 42, 5548.
24. L. Niinistö, J. Päiväsaari, J. Niinistö, M. Putkonen, M. Nieminen, Phys. Status Solidi A 2004, 201, 1443.
25. M. Putkonen, L. Niinistö, Top. Organomet. Chem. 2005, 9, 125.
26. M. Vehkamäki, T. Hänninen, M. Ritala, T. Sajavaara, E. Rauhala, J. Keinonen, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 75.
27. J. Ihanus, T. Hänninen, T. Hatanpää, T. Aaltonen, I. Mutikainen, T. Sajavaara, J. Keinonen, M. Ritala, M. Leskelä, Chem. Mater. 2002, 14, 1937.
28. J. Ihanus, T. Hänninen, T. Hatanpää, M. Ritala, M. Leskelä, J. Electrochem. Soc. 2004, 151, H221.
29. T. Hatanpää, M. Vehkamäki, I. Mutikainen, J. Kansikas, M. Ritala, M. Leskelä, Dalton Trans. 2004, 1181.
30. K. Kukli, M. Ritala, T. Sajavaara, T. Hänninen, M. Leskelä, Thin Solid Films 2006, 500, 322.
31. M. Popovici, S. Van Elshocht, N. Menou, J. Swerts, D. Pierreux, A. Delabie, B. Brijs, T. Conard, K. Opsomer, J. W. Maes, D. J. Wouters, J. A. Kittl, J. Electrochem. Soc. 2010, 157, G1.
32. A. Kosola, M. Putkonen, L.-S. Johansson, L. Niinistö, Appl. Surf. Sci. 2003, 102.
33. M. Tammenmaa, H. Antson, M. Asplund, L. Hiltunen, M. Leskelä, L. Niinistö, E. Ristolainen, J. Cryst. Growth 1987, 84, 151.
34. S. K. Kwon, S. K. Kim, M. Cho, C. S. Hwang, J. Jeong, J. Electrochem. Soc. 2005, 4, C229.
35. S. K. Kwon, S. W. Lee, J. H. Han, C. S. Hwang, J. Electrochem. Soc. 2007, 154, G127.
36. J.-H. Ahn, J.-Y. Kim, S.-W. Kang, J.-H. Kim, J.-S. Roh, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 062910.
37. S. W. Lee, O. S. Kwon, J. H. Han, C. S. Hwang, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 222903.
38. M. J. Saly, M. J. Heeg, C. H. Winter, Inorg. Chem. 2009, 48, 5303.
39. M. J. Saly, F. Munnik, R. J. Baird, C. H. Winter, Chem. Mater. 2009, 21, 3742.
40. M. J. Saly, F. Munnik, C. H. Winter, J. Mater. Chem. 2010, 20, 9995.
41. G. Malandrino, R. Lo Nigro, I. L. Fragalà, Chem. Vap. Deposition 2007, 13, 651.
42. G. Malandrino, R. Lo Nigro, I. L. Fragalà, Inorg. Chim. Acta 2007, 360, 1138.
43. C. L. Dezelah, IV, M. K. Wiedmann, K. Mizohata, R. J. Baird, L. Niinistö, C. H. Winter, J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 12370.
44. T. Hatanpää, M. Ritala, M. Leskelä, J. Organomet. Chem. 2007, 692, 5256.
45. A. E. Turgambaeva, V. V. Krisyuk, S. V. Sysoev, I. K. Igumenov, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 121.
46. M. Vehkamäki, M. Ritala, M. Leskelä, A. C. Jones, H. O. Davies, T. Sajavaara, E. Rauhala, J. Electrochem. Soc. 2004, 151, F69.
47. M. Lukosius, C. Wenger, S. Pasko, I. Costina, J. Dabrowski, R. Sorge, H.-J. Müssig, C. Lohe, IEEE Trans. Electron Dev. 2008, 55, 2273.
48. J. M. Gaskell, S. Przybylak, A. C. Jones, H. C. Aspinall, P. R. Chalker, K. Black, R. J. Potter, P. Taechakumput, S. Taylor, Chem. Mater. 2007, 19, 4796.
49. J. Harjuoja, T. Hatanpää, M. Vehkamäki, S. Väyrynen, M. Putkonen, L. Niinistö, M. Ritala, M. Leskelä, E. Rauhala, Chem. Vap. Deposition 2005, 11, 362.
50. R. Y. Lee, F. L. Zhang, J. Penczek, B. K. Wagner, P. N. Yocom, C. J. Summers, J. Vac. Sci. Technol. B 1998, 16, 855.
51. J. C. Park, H. K. Moon, D. K. Kim, S. H. Byeon, B. C. Kim, K. S. Suh, Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 2162.
52. D. Kumar, J. Sankar, K. G. Cho, V. Craciun, R. K. Singh, Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 2518.
53. M. Putkonen, M. Nieminen, J. Niinistö, L. Niinistö, Chem. Mater. 2001, 13, 4701.
54. J. Päiväsaari, M. Putkonen, L. Niinistö, Thin Solid Films 2005, 472, 275.
55. J. Päiväsaari, C. L. Dezelah, IV, D. Back, H. M. El-Kaderi, M. J. Heeg, M. Putkonen, L. Niinistö, C. H. Winter, J. Mater. Chem. 2005, 15, 4224.
56. S. Trofimenko, J. Am. Chem. Soc. 1967, 89, 3170.
57. M. Ylilammi, T. Ranta-aho, Thin Solid Films 1993, 232, 56.
58. M. J. Weber, Handbook of Optical Materials, CRC Press, Boca Raton, Florida 2003, p. 73.