Group 2 element precursors for the chemical vapor deposition of electronic materials

Advances in Inorganic Chemistry

Volumn 50, Issue , 2000, Pages 173-192

  Matthews, Jason S ^a   Rees Jr , William S ^a,b  

^a GEORGIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (United States)

^b Georgia Institute of Technology   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000980281     PISSN: 08988838     EISSN: None     Source Type: Book Series    
DOI: 10.1016/s0898-8838(00)50004-x     Document Type: Review

References (72)

1. Rees, W. S., Jr. "CVD of Non-Metals," VCH: Weinheim, 1996.
2. Jensen, K. F. In "Microelectronics Processing, Chemical Engineering Aspects"; Hess, D. W., and Jensen, K. F., Eds.; ACS Advances in Chemistry Series 23; American Chemical Society: Washington, DC, 1989; pp. 200-206.
3. Wu, J.; Yaguchi, H.; Onabe, K. Appl. Phys. Lett. 1998, 2, 193.
4. Yasuda, K.; Kojima, K.; Mori, K.; Kubota, Y.; Nimura, T.; Inukai, F.; Asai, Y. J. Elect. Matl. 1998 6, 527.
5. Mitra, P.; Case, F. C.; Reine, M. B. J. Elect. Matl. 1998, 6, 510.
6. Nonogaki, Y.; Iguchi, T.; Fuchi, S.; Fujiwara, Y.; Takeda, Y. Appl. Surf. Sci. 1998, 130-132, 724.
7. Durrant, S. F.; Bica De Morales, M. A. J. Polymer Sci. B 1998, 36, 1881.
8. Foxon, C. T.; Hughes, O. H. J. Matl. Sci.: Matls. in Elec. 1998, 9, 227.
9. Wankerl, A.; Emerson, D. T.; Cook, M. J.; Shealy, J. R. J. Cryst. Growth 1998, 191, 8.
10. Erkov, V. G.; Devyatova, S. F.; Golod, I. A.; Timofeeva, G. V.; Pokrovskii, L. D. Russian Microelectronics 1998, 3, 183.
11. Izena, A.; Sakuraba, M.; Matsuura, T.; Murota, J. J. Cryst. Growth 1998, 188, 131.
12. Hwang, T. J.; Hendrick, M. R.; Shao, H.; Hornis, H. G.; Hunt, A. T. Matls. Sci. and Eng. 1998, A244, 91.
13. Nyman, M.; Jenkins, K.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T.; Duesler, E. N. Chem. Mater. 1998, 10, 914.
14. Hubert-Pfalzgraf, L. G.; Guillon, H. Appl. Organomet. Chem. 1998, 12, 221.
15. Jones, A. C.; O'Brien, P. "CVD of Compound Semiconductors. Precursor Synthesis, Development and Applications," VCH: Weinheim, 1996.
16. Interrante, L. V.; Hampden-Smith, M. J. "Chemistry of Advanced Materials"; Wiley-VCH; Weinheim, 1998.
17. Moore, G. E. "International Electron Devices Meeting," Washington, DC, Dec. 1975, p. 11;
18. Keyes, R. W. IEEE Trans. Electron Devices 1979, ED-26, 271.
19. Saraswatt, K. C.; Mohammadi, F. IEEE Trans. Electron Devices, 1982, ED-29, 645;
20. Brews, J. R. IEEE Trans. Electron Devices 1986, ED-33, 1356
21. Chaudary, P. J. J. Appl. Phys. 1974, 45, 4339
22. Penney, R. V. J. Phys. Chem. Solids 1964, 25, 335.
23. McConica, C. M.; Krishnamani, K. J. J. Electrochem. Soc. 1986, 133, 2542
24. Singer, P. H. Semicond. Int. 1990, March, 45.
25. Dennard, R. H.; Gaensslen, F. H.; Yu, H.; Rideout, V. L.; Bassows, E.; LeBlank, A. R. IEEE J. Solid-State Circuits 1974, SC-9, 256.
26. Cracknell, D. J. GEC J. Res. 1992, 9, 155.
27. Geballe, T. H.; Hulm, J. K. Science 1988, 239, 367.
28. Bradley, D. C.; Mehrotra, R. C.; Gaul, D. P. "Metal Alkoxides"; Academic Press: New York, 1978, 411.
29. Bradley, D. C. Chem. Rev. 1989, 89, 1317.
30. Goel, S. C.; Matchett, M. A.; Chiang, M. Y.; Buhro, W. E. J. Am. Chem. Soc. 1991, 113, 1844.
31. Rees, W. S.; Jr.; Moreno, D. A. J. Chem. Soc., Chem Commun. 1991, 24, 1759.
32. Drake, S. R.; Streib, W. E.; Chisholm, M. H.; Caulton, K. G. Inorg. Chem 1990, 29, 2708.
33. Cloke, F. G. N.; Hitchcock, P. B.; Lappert, M. F.; Lawless, G. A.; Royo, B. J. Chem. Soc. Chemi. Commun. 1991, 724.
34. Drake, S. R.; Otway, D. J.; Hursthouse, M. B.; Abdul Malik, K. M. Polyhedron 1992, 11, 1995.
35. Hitchcock, P. B.; Lappert, M. F.; Lawless, G. A.; Royo, B. J. Chem. Soc. Chem Commun. 1990, 1141.
36. Caulton, K. G.; Chisholm, M. H.; Drake, S. R.; Folting, K. Inorg. Chem. 1991, 30, 1500.
37. Caulton, K. G.; Chisholm, M. H.; Drake, S. R.; Folting, K. J. Chem. Soc. Chem. Commun. 1990, 1349.
38. Caulton, K. G.; Chisholm, M. H.; Drake, S. R.; Streib, W. E. Angew. Chem. 1990, 102, 1492.
39. Hermann, W. A.; Huber, N. W.; Priermeier, T. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1994, 33, 105.
40. Zerger, R.; Stucky, G. D. J. Organometallic Chem. 1974, 80, 7.
41. Williams, R. A.; Hanusa, T. P.; Huffiman, J. C. J. Chem. Soc. Chem. Commun. 1988, 1045.
42. Shannon, R. D. Acta Cryst. 1976, 32A, 751.
43. Burns, C. J.; Andersen, R. A. J. Organomet. Chem. 1987, 325, 31.
44. Gardiner, M. G.; Raston, C. L.; Kennard, C. H. L. Organometallics 1991, 10, 3680.
45. Williams, R. A.; Tesh, K. F.; Hanusa, T. P. J. Am. Chem. Soc. 1991, 113, 4843.
46. Williams, R. A.; Hanusa, T. P. J. Organomet. Chem. Soc. 1992, 429, 143.
47. Rees, W. S. Jr.; Lay, U.; Dippel, K. A. J. Organomet. Chem. 1994, 483, 27.
48. Jutzi, P.; Siemeling, U. J. Organomet. Chem. 1995, 500, 175
49. du Plooy, K. E.; Moll, U.; Wocadlo, S.; Massa, W.; Okuda, J. Organometallics 1995, 14, 3129.
50. Hanusa, T. P. Polyhedron 1990, 11, 1345.
51. Williams, R. A.; Hanusa, T. P.; Huffman, J. C. Organometallics 1990, 9, 1128.
52. Greenwald, A. C.; Rees, W. S.; Lay, U. W. Mater. Res. Soc. Proc. 301, 1997.
53. Wells, A. F. "Structural Inorganic Chemistry," 5th ed. 1984.
54. Hanusa, T. P. Chem. Rev. 1993, 93, 1023.
55. Vaartstra, B. A.; Huffman, J. C.; Streib, W. E.; Caulton, K. G. Inorg. Chem. 1991, 30, 121.
56. Bradley, D. C.; Hursthouse, M. B.; Ibrahim, A. A.; Abdul Malik, K. M.; Motevalli, M.; Moseler, R.; Powell, H.; Runnacles, J. D.; Sullivan, A. C. Polyhedron 1960, 9, 2959.
57. Mohamad, S. N.; Salvador, A. A.; Morkoc, H. Proc. IEEE 1995, 83, 1306
58. Mohamad, S. N.; Morkoc, H. Science 1995, 2678, 51.
59. Holloway, C. E.; Melnik, M. J. Organometallic Chem. 1994, 465, 1.
60. Moshier, R. W.; Sievers, R. E. "Gas Chromatography of Metal Chelates," Pergamon Press: Oxford, 1965.
61. Arunasalam, V-Cumaran.; Drake, S. R.; Hursthouse, M. B.; Hursthouse, K. M.; Abdul Malik, K. M.; Miller, S. A. S.; Mingos, D. M. P. J. Chem. Soc. Dalton Trans. 1996, 2435.
62. Flanagan, J. S.; Luten, H. A.; Rees, W. S., Jr. In preparation.
63. Drake, S. R.; Hursthouse, M. B.; Abdul Malik, K. M.; Otway D. J. J. Chem. Soc. Dalton Trans. 1993, 2883.
64. Drozdoyv, A. A.; Trojanov, S. I. Polyhedron 1992, 11, 2877.
65. Purdy, A. P.; Berry, A. D.; Holm, R. T.; Fatemi, M.; Gskill, K. K. Inorg. Chem. 1989, 28, 2799.
66. Shinohara, K.; Munahata, F.; Yamanaha, M. Jpn. J. Appl. Phys. 1988, 27, L1683.
67. Thompson, S. C.; Cole-Hamilton, D. J.; Gilliland, D. D.; Hitchman, M. L.; Bames, J. C. Adv. Mater. Optics Electron. 1992, 1, 81.
68. Richards, B. C.; Cook, S. L.; Pinch, D. L.; Andrews, G. W.; Lengeling, G.; Schulte, B., Jurgensen, H.; Shen, Y. Q.; Vase, P.; Freltoft, T.; Spee, C. I. M. A.; Linden, J. L.; Hitchman, M. L.; Shamlian, S. H.; Brown, A., Physica C 1995, 252, 229.
69. Timmer, K.; Spee, K. I. M. A.; Mackor, A.; Meinema, H. A.; Spek, A. L.; v. d. Sluis, P. Inorg. Chem. Acta 1991, 69, 2418.
70. Rees, W. S., Jr.; Caballero, C. R.; Hesse, W. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1992, 6, 735.
71. Schulz, D. L.; Hinds, B. J.; Stem, C. L.; Marks, T. J. Inorg. Chem. 1993, 32, 249.
72. Schulz, D. L.; Hinds, B. J.; Neumayer, D. A.; Stern, C. L.; Marks, T. J. Chem. Mater. 1993, 5, 1605.