Influence of indium doping on the activity of gallium oxynitride for water splitting under visible light irradiation

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 115, Issue 6, 2011, Pages 2805-2811

  Hu, Che Chia ^a   Lee, Yuh Lang ^a   Teng, Hsisheng ^a  

^a NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BAND STRUCTURE ENGINEERING; CHARGE MOBILITIES; FACILE PROCEDURE; GALLIUM OXYNITRIDE; HIGH ACTIVITY; HIGHER-DEGREE; INDIUM DOPING; ORBITALS; OXYNITRIDES; PHOTOCATALYTIC ACTIVITIES; PHOTOCATALYTIC WATER SPLITTING; REPLACEMENT LEVEL; SYNTHESIS METHOD; VISIBLE LIGHT; VISIBLE-LIGHT IRRADIATION; WATER SPLITTING; WURTZITES; X-RAY PHOTOELECTRONS;

DOPING (ADDITIVES); INDIUM; METHANOL; NITRIDES; PHOTOCATALYSIS; PHOTOCATALYSTS; SPECTROSCOPIC ANALYSIS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; ZINC SULFIDE;

GALLIUM;

EID: 79951535764     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp1105983     Document Type: Article

References (98)

1. Maeda, K.; Domen, K. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 7851
2. Balzani, V.; Credi, A.; Venturi, M. ChemSusChem 2008, 1, 26
3. Kudo, A.; Miseki, Y. Chem. Soc. Rev. 2009, 38, 253
4. Li, J.; Zhang, J. Z. Coord. Chem. Rev. 2009, 253, 3015
5. Serrano, E.; Rus, G.; Garcia-Martinez, J. Renewable Sustainable Energy Rev. 2009, 13, 2373
6. Nian, J. N.; Hu, C. C.; Teng, H. Int. J. Hydrogen Energy 2008, 33, 2897
7. Hu, C. C.; Nian, J. N.; Teng, H. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2008, 92, 1071
8. Li, T. L.; Teng, H. J. Mater. Chem. 2010, 20, 3656
9. Yeh, T. F.; Syu, J. M.; Cheng, C.; Chang, T. H.; Teng, H. Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 2255
10. Yerga, R. M. N.; Galván, M. C. A.; del Valle, F.; de la Mano, J. A. V.; Fierro, J. L. G. ChemSusChem 2009, 2, 471
11. Diebold, U. Surf. Sci. Rep 2003, 48, 53
12. Asahi, R.; Morikawa, T.; Ohwaki, T.; Aoki, K.; Taga, Y. Science 2001, 293, 269
13. Tsai, C. C.; Teng, H. Appl. Surf. Sci. 2008, 254, 4912
14. Zhang, G.; Ding, X.; Hu, Y.; Huang, B.; Zhang, X.; Qin, X.; Zhou, J.; Xie, J. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 17994
15. Leung, D. Y. C.; Fu, X.; Wang, C.; Ni, M.; Leung, M. K. H.; Wang, X.; Fu, X. ChemSusChem 2010, 3, 681
16. Tsai, C. C.; Teng, H. Chem. Mater. 2006, 18, 367
17. Tsai, C. C.; Teng, H. Langmuir 2008, 24, 3434
18. Cojocaru, B.; Neaţu, S.; Pârvulescu, V. I.; Şomoghi, V.; Petrea, N.; Epure, G.; Alvaro, M.; Garcia, H. ChemSusChem 2009, 2, 427
19. Silva, C. G.; Faria, J. L. ChemSusChem 2010, 3, 609
20. Wang, K. P.; Teng, H. Phys. Chem. Chem. Phys. 2009, 11, 9489
21. Hsiao, P. T.; Tung, Y. L.; Teng, H. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 6762
22. Hsiao, P. T.; Teng, H. J. Taiwan Inst. Chem. Eng. 2010, 41, 676
23. Lin, W. H.; Cheng, C.; Hu, C. C.; Teng, H. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 211904
24. Hu, C. C.; Teng, H. Appl. Catal., A 2007, 331, 44
25. Liu, J. W.; Chen, G.; Li, Z. H.; Zhang, Z. G. Int. J. Hydrogen Energy 2007, 32, 2269
26. Hu, C. C.; Tsai, C. C.; Teng, H. J. Am. Ceram. Soc. 2009, 92, 460
27. Iwase, A.; Kato, H.; Kudo, A. ChemSusChem 2009, 2, 873
28. Li, X.; Zang, J. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 19411
29. Yan, S. C.; Wang, Z. Q.; Li, Z. S.; Zou, Z. G. Solid State Ionics 2009, 180, 1539
30. Hu, C. C.; Teng, H. J. Catal. 2010, 272, 1-8
31. Li, Z.; Wang, Y.; Liu, J.; Chen, G.; Li, Y.; Zhou, C. Int. J. Hydrogen Energy 2009, 34, 147
32. Yang, M.; Huang, X.; Yan, S.; Li, Z.; Yu, T.; Zou, Z. Mater. Chem. Phys. 2010, 121, 506
33. Mitsuyama, T.; Tsutsumi, A.; Hata, T.; Ikeue, K.; Machida, M. Bull. Chem. Soc. Jpn. 2008, 81, 401
34. Mitsuyama, T.; Tsutsumi, A.; Sato, S.; Ikeue, K.; Machida, M. J. Solid State Chem. 2008, 181, 1419
35. Ikeue, K.; Mitsuyama, T.; Arayama, K.; Tsutsumi, A.; Machida, M. J. Ceram. Soc. Jpn. 2009, 117, 1161
36. Nyman, M.; Rodriguez, M. A.; Rohwer, L. E. S.; Martin, J. E.; Waller, M.; Osterloh, F. E. Chem. Mater. 2009, 21, 4731
37. Li, Y.; Chen, G.; Zhou, C.; Li, Z. Catal. Lett. 2008, 123, 80
38. Puangpetch, T.; Sreethawong, T.; Yoshikawa, S.; Chavadej, S. J. Mol. Catal. A: Chem. 2009, 312, 97
39. Ikeue, K.; Shiiba, S.; Machida, M. Chem. Mater. 2010, 22, 743
40. Zhou, H.; Li, X.; Fan, T.; Osterloh, F. E.; Ding, J.; Sabio, E. M.; Zhang, D.; Guo, Q. Adv. Mater. 2010, 22, 951
41. Zhou, H.; Sabio, E. M.; Townsend, T. K.; Fan, T.; Zhang, D.; Osterloh, F. E. Chem. Mater. 2010, 22, 3362
42. Frame, F. A.; Osterloh, F. E. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 10628
43. Kocha, S. S.; Peterson, M. W.; Arent, D. J.; Redwing, J. M.; Tischler, M. A.; Turner, J. A. J. Electrochem. Soc. 1995, 142, L238
44. Huygens, I. M.; Strubbe, K.; Gomes, W. P. J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 1797
45. Arai, N.; Saito, N.; Nishiyama, H.; Inoue, Y.; Domen, K.; Sato, K. Chem. Lett. 2006, 35, 796
46. Arai, N.; Saito, N.; Nishiyama, H.; Domen, K.; Kobayashi, H.; Sato, K.; Inoue, Y. Catal. Today 2007, 129, 407
47. Kida, T.; Minami, Y.; Guan, G.; Nagano, M.; Akiyama, M.; Yoshida, A. J. Mater. Sci. 2006, 41, 3527
48. Fujii, K.; Kusakabe, K.; Ohkawa, K. Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, 7433
49. Kamata, K.; Maeda, K.; Lu, D.; Kako, Y.; Domen, K. Chem. Phys. Lett. 2009, 470, 90
50. Li, J.; Lin, J. Y.; Jiang, H. X. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 162107
51. Zhang, S.; Zhang, G.; Yu, S.; Chen, X.; Zhang, X. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 20029
52. Zhang, G.; Li, M.; Yu, S.; Zhang, S.; Huang, B.; Yu, J. J. Colloid Interface Sci. 2010, 345, 467
53. Boppana, V. B. R.; Doren, D. J.; Lobo, R. F. ChemSusChem 2010, 3, 814
54. Huang, J.; Ding, K.; Hou, Y.; Wang, X.; Fu, X. ChemSusChem 2008, 1, 1011
55. Ouyang, S.; Kikugawa, N.; Chen, D.; Zou, Z.; Ye, J. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 1560
56. Karch, K.; Wagner, J. M.; Bechstedt, F. Phys. Rev. B 1998, 57, 7043
57. Kampen, T. U.; Eyckeler, M.; Mönch, W. Appl. Surf. Sci. 1998, 123/124, 28
58. Maruyama, T.; Miyajima, Y.; Hata, K.; Cho, S. H.; Akimoto, K.; Okumura, H.; Yoshida, S.; Kato, H. J. Electron. Mater. 1998, 27, 200
59. Stampfl, C.; Van de Walle, C. G. Phys. Rev. B 1999, 59, 5521
60. Martinez, G. L.; Curiel, M. R.; Skromme, B. J.; Molnar, R. J. J. Electron. Mater. 2000, 29, 325
61. Persson, C.; Sernelius, B. E.; Ferreira da Silva, A.; Araújo, C. M.; Ahuja, R.; Johansson, B. J. Appl. Phys. 2002, 92, 3207-3216
62. Lan, W. C.; Tsai, C. D.; Lan, C. W. J. J. Taiwan Inst. Chem. Eng. 2009, 40, 475
63. Thomas, T.; Guo, X.; Chandrashekhar, M. V. S.; Poitras, C. B.; Shaff, W.; Dreibelbis, M.; Reiherzer, J.; Li, K.; Disalvo, F. J.; Lipson, M.; Spencer, M. G. J. Cryst. Growth 2009, 311, 4402
64. Xiao, P.; Wang, X.; Wang, J.; Ke, F.; Zhou, M.; Bai, Y. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 211907
65. Laaksonen, K.; Ganchenkova, M. G.; Nieminen, R. M. J. Phys.: Condens. Matter 2009, 21, 015803
66. Davis, R. F. Proc. IEEE 1991, 79, 702
67. Van de Walle, C. G.; Neugebauer, J. J. Appl. Phys. 2004, 95, 3851
68. Fang, W.; Xiong, C.; Zheng, C.; Wang, L.; Jiang, F. J. Lumin. 2007, 126, 636
69. Shih, C. F.; Chen, N. C.; Chang, P. H.; Liu, K. S. J. Electrochem. Soc. 2005, 152, G816
70. O'Leary, S. K.; Foutz, B. E.; Shur, M. S.; Bhapkar, U. V.; Eastman, L. F. J. Appl. Phys. 1998, 83, 826
71. Alexandrov, D.; Butcher, K. S. A.; Wintrebert-Fouquet, M. J. Cryst. Growth 2004, 269, 77
72. Walukiewicz, W.; Li, S. X.; Wu, J.; Yu, K. M.; Ager, J. W., III; Haller, E. E.; Lu, H.; Schaff, W. J. J. Cryst. Growth 2004, 269, 119
73. Inaba, Y.; Onozu, T.; Takami, S.; Kubo, M.; Miyamoto, A.; Imamura, A. Jpn. J. Appl. Phys. 2001, 40, 2991
74. García, R.; Hirata, G. A.; Farías, M. H.; McKittrick, J. Mater. Sci. Eng. B 2002, B90, 7
75. Li, S. X.; Haller, E. E.; Yu, K. M.; Walukiewicz, W.; Ager, J. W., III; Wu, J.; Shan, W.; Lu, H.; Schaff, W. J. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 161905
76. Schwenzer, B.; Meier, C.; Masala, O.; Seshadri, R.; DenBaars, S. P.; Mishra, U. K. J. Mater. Chem. 2005, 15, 1891
77. Ji, L. W.; Young, S. J.; Liu, C. H.; Water, W.; Meen, T. H.; Jywe, W. Y. J. Cryst. Growth 2008, 310, 2476
78. Ager, J. W., III; Miller, N.; Jones, R. E.; Yu, K. M.; Wu, J.; Schaff, W. J.; Walukiewicz, W. Phys. Status Solidi B 2008, 245, 873
79. Shih, C. F.; Chen, N. C.; Tseng, C. Y. Thin Solid Films 2008, 516, 5016
80. Lambrecht, W. R. L.; Segall, B.; Strite, S.; Martin, G.; Agarwal, A.; Morkoc, H.; Rockett, A. Phys. Rev. B 1994, 50, 14155
81. Walukiewicz, W. Physica B (Amsterdam, Neth.) 2001, 302-303, 123
82. Lin, S. K.; Wu, K. T.; Huang, C. P.; Liang, C. T.; Chang, Y. H.; Chen, Y. F.; Chang, P. H.; Chen, N. C.; Chang, C. A.; Peng, H. C.; Shih, C. F.; Liu, K. S.; Lin, T. Y. J. Appl. Phys. 2005, 97, 046101
83. Lebedev, V.; Polyakov, V. M.; Hauguth-Frank, S.; Cimalla, V.; Wang, Ch. Y.; Ecke, G.; Schwierz, F.; Schober, A.; Lozano, J. G.; Morales, F. M.; González, D.; Ambacher, O. J. Appl. Phys. 2008, 103, 073715
84. Maeda, K.; Teramura, K.; Takata, T.; Hara, M.; Saito, N.; Toda, K.; Inoue, Y.; Kobayashi, H.; Domen, K. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 20504
85. Maeda, K.; Takata, T.; Hara, M.; Saito, N.; Inoue, Y.; Kobayashi, H.; Domen, K. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 8286
86. Sun, X.; Maeda, K.; Faucheur, M. L.; Teramura, K.; Domen, K. Appl. Catal., A 2007, 327, 114
87. Maeda, K.; Hashiguchi, H.; Masuda, H.; Abe, R.; Domen, K. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 3447
88. Hisatomi, T.; Maeda, K.; Takanabe, K.; Kubota, J.; Domen, K. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 21458
89. Maeda, K.; Masuda, H.; Domen, K. Catal. Today 2009, 147, 173
90. Kou, J.; Li, Z.; Guo, Y.; Gao, J.; Yang, M.; Zou, Z. J. Mol. Catal. A: Chem. 2010, 325, 48
91. Hisatomi, T.; Maeda, K.; Lu, D.; Domen, K. ChemSusChem 2009, 2, 336
92. Hu, C. C.; Teng, H. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 20100
93. Barton, D. G.; Shtein, M.; Wilson, R. D.; Soled, S. L.; Iglesia, E. J. Phys. Chem. B 1999, 103, 630
94. Yarar, Z.; Ozdemir, B.; Ozdemir, M. J. Electron. Mater. 2007, 36, 1303
95. Esser, N.; Rakel, M.; Cobet, C.; Schmidt, W. G.; Braun, W.; Cardona, M. Phys. Status Solidi B 2005, 13, 2601
96. Fiorentini, V.; Methfessel, M.; Scheffler, M. Phys. Rev. B 1993, 47, 13353
97. Bouhafs, B.; Litimein, F.; Dridi, Z.; Ruterana, P. Phys. Status Solidi B 2003, 236, 61
98. King, P. D. C.; Veal, T. D.; Kendrick, C. E.; Bailey, L. R.; Durbin, S. M.; McConville, C. F. Phys. Rev. B 2008, 78, 033308