Phosphane copper(I) dicarboxylates: Synthesis and their potential use as precursors for the spin-coating process in the deposition of copper

Zeitschrift fur Anorganische und Allgemeine Chemie

Volumn 636, Issue 11, 2010, Pages 1931-1940

  Jakob, Alexander ^a   Rüffer, Tobias ^a   Ecorchard, Petra ^a   Walfort, Bernhard ^a   Körbitz, Kathrin ^a   Frühauf, Swantje ^a   Schulz, Stefan E ^a   Gessner, Thomas ^a   Lang, Heinrich ^a  

^a CHEMNITZ UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Germany)

Author keywords

Chemical vapor deposition; Copper; Dicarboxylic acids; Electrochemistry; Spin coating

Indexed keywords

EID: 77957960822     PISSN: 00442313     EISSN: 15213749     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/zaac.201000082     Document Type: Article

References (82)

1. a) S. P. Murarka, R. J. Gutmann, A. E. Kaloyeros, W. A. Lanford, Thin Solid Films 1993, 236, 257
2. b) P. Doppelt, T. H. Baum, MRS Bull. 1994, 19, 41
3. c) A. V. Gelatos, A. Jain, R. Marsh, C. J. Mogab, MRS Bull. 1994, 19, 49
4. d) C. Whitman, M. M. Moslehi, A. Paranjpe, L. Velo, T. Omstead, J. Vac. Sci. Technol. A 1999, 17, 1893
5. e) Semiconductor Industry Association, The International Technology Roadmap for Semiconductors - ITRS, 2005 (http://www.itrs.net).
6. a) C. Niu, F. Wang, G. Magsamen, B. Le, B. Stephenson, Thin Solid Films 2008, 516, 1826
7. b) A. P. Ehiasarian, J. G. Wen, I. Petrov, J. Appl. Phys. 2007, 101, 054301
8. c) W. Zhang, L. Yi, J. Tu, P. Chang, D. Mao, J. Wu, J. Elec. Mater. 2005, 34, 1307
9. d) O. Zimmer, Surf. Coat. Technol. 2005, 200, 440
10. e) P. Kumara, F. Zhua, A. Madan, Int. J. Hydrogen Energy 2008, 33, 3938
11. f) L. Zeng, H. Peng, W. Wang, Y. Chen, W. Qi, D. Lei, J. Liang, J. Zhao, X. Kong, J. Phys. Chem. C 2008, 11 2, 10735
12. g) Q. Cheng, S. Xua, J. W. Chai, S. Y. Huang, Y. P. Ren, J. D. Long, P. P. Rut-kevych, K. Ostrikov, Thin Solid Films 2008, 516, 5991
13. h) S. Mat-hur, T. Ruegamer, N. Donia, H. Shen, J. Nanosci. Nanotechnol. 2008, 8, 2597
14. i) J. Prokop, G. Finnah, J. Lorenz, V. Piotter, R. Ruprecht, J. Hausselt, Microsyst. Technol. 2008, 14,1669
15. j) N. Uchiya, Y. Furuta, H. Nishikawa, T. Watanabe, J. Haga, T. Satoh, M. Oikawa, Y. Ishii, T. Kamiya, Microsyst. Technol. 2008, 14, 1537
16. k) B.-J. Kim, S.-J. Park, J. Colloid Interface Sci. 2008, 325, 297
17. l) K. Klosová, J. Hubálek, Phys. Status Solidi A 2008, 205, 1435
18. m) L. Yuan, A. Goldbach, H. Xu, J. Membr. Sci. 2008, 322, 39
19. n) C. Domínguez-Ríos, M. V. Moreno, R. Torres- Sánchez, W. Antúnez, A. Aguilar-Elguézabal, J. González-Hernández, Surf. Coat. Technol. 2008, 202, 4848
20. o) H. Lang, R. Buschbeck, "Deposition of Metals and Metal Oxides by Means of Metal Enolates" in: The Chemistry of Metal Enolates (Ed.: J. Zabicky), John Wiley & Sons Limited, Chichester, 2009.
21. a) H. Kim, H. B. Bhandari, S. Xu, R. G. Gordon, J. Electrochem. Soc. 2008, 155, H496
22. b) S. H. Yoon, K. W. Seo, S. S. Lee, I.W. Shim, Thin Solid Films 2006, 515, 1544
23. c) A. Grodzicki, I. Łakomska, P. Piszczek, I. Szymánska, E. Szłyk, Coord. Chem. Rev. 2005, 249, 2232
24. d) P. D. Tran, P. Doppelt, Surf. Coat. Tech-nol. 2007, 201, 9066
25. e) I. B. Szymańska, P. Piszczek, W. Bała, K. Bartkiewicz, E. Szłyk, Surf. Coat. Technol. 2007, 201, 9015;
26. N. G. Semaltianos, Surf. Coat. Technol. 2007, 201, 7327
27. S. W. Kang, D. J. Seong, J. Y. Yun, S. W. Rhee, Electrochem. Solid-State Lett. 2006, 9, C161
28. h) L. Wang, G. L. Griffin, J. Electrochem. Soc. 2006, 153, C137
29. i) J. A. T. Norman, WO 2008/085426, 2008
30. j) G. Scarel, M. Fanciulli, Mater. Information Technol. 2005, 31
31. k) J. Rickerby, J. H. G. Steinke, Chem. Rev. 2002, 102, 1525
32. l) N. Roth, A. Jakob, T. Waechtler, S. E. Schulz, T. Gessner, H. Lang, Surf. Coat. Technol. 2007, 201, 9089
33. m) Y. Shen, M. Leschke, S. E. Schulz, R. Ecke, T. Gessner, H. Lang, Chin. J. Inorg. Chem. 2004, 20, 1257.
34. a) H.-K. Shin, K. M. Chi, J. Farkas, I. M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, E. N. Duesler, Inorg. Chem. 1992, 31, 424
35. b) T. T. Kodas,M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD, VCH Verlagsgesellschaft mbH, Weinheim, 1994
36. c) G. Schmidt, U. Behrens, J. Organomet. Chem. 1996, 509, 49
37. d) Y. Shen, T. Rüffer, S. E. Schulz, T. Gessner, L. Wittenbecher, H.-J. Sterzel, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2005, 690, 3878
38. e) H. Lang, M. Leschke, M. Melter, B. Walfort, K. Köhler, S. E. Schulz, T. Geßner, Z. Anorg. Allg. Chem. 2003, 629, 2371.
39. a) A. Jakob, H. Schmidt, P. Djiele, Y. Shen, H. Lang, Microchem. Acta 2007, 156, 77
40. b) T. Haase, K. Kohse-Höinghaus, N. Bahla-wane, P. Djiele, A. Jakob, H. Lang, Chem. Vap. Depositon 2005, 11, 195
41. c) T. Haase, K. Kohse-Höinghaus, B. Atakan, H. Schmidt, H. Lang, Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 144
42. d) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25
43. e) A. Jakob, Y. Shen, T. Wächtler, S. E. Schulz, T. Gessner, R. Riedel, C. Fasel, H. Lang, Z. Anorg. Allg. Chem. 2008, 634, 2226.
44. a) P. Doppelt, Microelectro. Eng. 1997, 37, /38, 89
45. b) Y. Shen, T. Rüffer, S. E. Schulz, T. Gessner, L. Wittenbecher, H.-J. Sterzel, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2005, 690, 3878
46. c) J. Teichgräber, S. Dechert, F. Meyer, J. Organomet. Chem. 2005, 690, 5255.
47. a) A. Jakob, H. Schmidt, B. Walfort, G. Rheinwald, S. Frühauf, S. Schulz, T. Gessner, H. Lang, Z. Anorg. Allg. Chem. 2005, 631, 1079
48. b) L. Rast, A. Stanishevsky, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 223118
49. c) S. Schaefers, L. Rast, A. Stanishevsky, Mater. Lett. 2006, 60, 706
50. d) J. He, T. Kunitake, Langmuir 2006, 22, 7881.
51. a) K. Köhler, J. Eichhorn, F. Meyer, D. Vidovic, Organometallics 2003, 22, 4426
52. b) C.-H. Wu, L. Sun, B. C. Faust, J. Phys. Chem. A 2000, 104, 4989
53. c) D. J. Darensbourg, M. W. Holtcamp, B. Khandelwal, J. H. Reibenspies, Inorg. Chem. 1994, 33, 531
54. d) D. J. Darensbourg, M. W. Holtcamp, J. H. Reibenspies, Poly hedron 1996, 15, 2341
55. e) P.-L. Fabre, A. M. Galibert, B. Soula, F. Dahan, P. Castan, J. Chem. Soc., Dalton Trans. 2001, 1529.
56. N. Kumar, D. G. Tuck, K. D. Watson, Can. J. Chem. 1987, 65, 740.
57. J. Diez, S. Falagan, P. Gamasa, J. Gimeno, Polyhedron 1988, 7, 37.
58. a) K. A. Bunten, L. Chen, A. L. Fernandez, A. J. Poe, Coord. Chem. Rev. 2002, 233, /234, 41
59. b) C. A. Tolman, Chem. Rev. 1977, 77, 313.
60. a) S. J. Lippard, J. J. Mayerle, Inorg. Chem. 1972, 11, 753
61. b) E. L. Muetterties, C. W. Alegranti, J. Am. Chem. Soc. 1970, 92, 4115
62. c) S. J. Friese, B. E. Kucera, L. Que Jr., W. B. Tolman, Inorg. Chem. 2006, 45, 8003
63. d) D. A. Brown, N. J. Fitzpatrick, H. Müller-Bunz, A. T. Ryan, Inorg. Chem. 2006, 45, 4497
64. e) D. A. Brown, W. Errington, N. J. Fitzpatrick, W. K. Glass, T. J. Kemp, H. Nimir, A. T. Ryan, Chem. Commun. 2002, 1210.
65. a) D. A. Edwards, R. Richards, J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1975, 637
66. b) K. Nakamoto, Infrared and Raman Spectra of Inorganic and Coordination Compounds, Wiley Interscience, 1997,p. 232.
67. E. R. Bartholomew, S. H. Bertz, S. Cope, D. C. Dorton, M. Murphy, C. A. Ogle, Chem. Commun. 2008, 1176.
68. a) D. J. Eisler, C. W. Kirby, R. J. Puddephatt, Inorg. Chem. 2003, 42, 7626
69. b) K. B. Nilsson, I. Persson, Dalton Trans. 2004, 1312
70. c) S. Berger, S. Braun, H. O. Kalinowski, NMR-Spektroskopie von Nichtmetallen, Georg Thieme Verlag, Stuttgart, 1993,p. 88
71. a) D. J. Darensbourg, M. W. Holtcamp, E. M. Longridge, B. Khandelwal, K. K. Klausmeyer, J. H. Reibenspies, J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 318
72. b) D. J. Darensbourg, M. W. Holtcamp, B. Khandelwal, K. K. Klausmeyer, J. H. Reibenspies, Inorg. Chem. 1994, 33, 2036.
73. D. J. Darensbourg, D. L. Larkins, J. H. Reibenspies, Inorg. Chem. 1998, 37, 6125.
74. A. I. Wallbank, A. Borecki, N. J. Taylor, J. F. Corrigan, Organo-metallics 2005, 24, 788.
75. F.-K. Zheng, Y. Cui, W.-D. Cheng, J.-S. Huang, Chin. J. Struct. Chem. 1997, 16, 365.
76. A. Bondi, J. Phys. Chem. 1964, 68, 441.
77. A. W. Addison, T. N. Rao, J. Reedijk, J. van Rijn, G. C. Verschoor, J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1984, 1349.
78. A. R. Rossi, R. Hoffmann, Inorg. Chem. 1975, 14, 365.
79. a) J. G. Noltes, J. W. van den Hurk, J. Organomet. Chem. 1964, 1, 377
80. b) H. K. Hofstee, J. Boersma, J. D. van der Meulsen, G. J. M. van der Kerk, J. Organomet. Chem. 1978, 153, 245.
81. G. M. Sheldrick, Acta Crystallogr., Sect. A 1990, 46, 467.
82. G. M. Sheldrick, SHELXL-97, Program for Crystal Structure Refinement, University of Göttingen, 1997.