Mono- and Bimetallic Copper(I)- and Silver(I)-Phosphane Complexes with β-Diketonate Units;Ein- und zweikernige Kupfer(I)- und Silber(I)-Phosphan-Komplexe mit β-Diketonato-Teilstrukturen

Zeitschrift fur Anorganische und Allgemeine Chemie

Volumn 629, Issue 12-13, 2003, Pages 2371-2380

  Lang, H ^a   Leschke, M ^a   Melter, M ^a   Walfort, B ^a   Kohler K ^a   Schulz, S E ^b   Gessner T ^b  

^a CHEMNITZ UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Germany)

^b Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik   (Germany)

Author keywords

Chelates; Chemical vapour deposition; Copper; Crystal structure; Phosphanes; Silver; Diketonates

Indexed keywords

1,1,1,5,5,5 HEXAFLUOROACETYLACETONATE; 1,3 DIPHENYL 1,3 PROPANDONATE; 1,4 ANTHRACHINOATE; 2 METHYL 4 PYRONATE; 2,2,6,6 TETRAMETHYL 3,5 HEPTANEDIONATE; ACETONE; BROMINE DERIVATIVE; CHELATE; COPPER COMPLEX; DIKETONE; HEPTANE DERIVATIVE; LIGAND; METAL DERIVATIVE; SILVER DERIVATIVE; TROPONOLATE; UNCLASSIFIED DRUG;

ARTICLE; CHEMICAL REACTION; CHEMICAL STRUCTURE; CRYSTALLIZATION; MASS SPECTROMETRY; NUCLEAR MAGNETIC RESONANCE SPECTROSCOPY; PHOSPHORUS NUCLEAR MAGNETIC RESONANCE; PRECIPITATION; PRECURSOR; PROTON NUCLEAR MAGNETIC RESONANCE; SOLID STATE; VAPORIZATION;

EID: 0346155740     PISSN: 00442313     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/zaac.200300253     Document Type: Article

References (77)

1. a) H. Lang, M. Leschke, H. A. Mayer, M. Melter, C. Weber, G. Rheinwald, O. Walter, G. Huttner, Inorg. Chim. Acta 2001, 324, 266.
2. b) M. Leschke, H. Lang, M. Melter, G. Rheinwald, C. Weber, H. A. Mayer, H. Pritzkow, L. Zsolnai, A. Driess, G. Huttner, Z. Anorg. All. Chem. 2002, 628, 349.
3. c) M. Leschke, H. Lang, J. Inorg. Chem. Commun. 2002, 5, 203.
4. d) M. Leschke, H. Lang, R. Holze, Electrochim. Acta 2003, 48, 919.
5. a) M. Leschke, M. Melter, C. Weber, G. Rheinwald, H. Lang, A. Driess, G. Huttner, Z. Anorg. Allg. Chem. 2001, 627, 1199.
6. b) H. Lang, M. Leschke, G. Rheinwald, M. Melter, Inorg. Chem. Commun. 1998, 1, 254.
7. c) M. Leschke, G. Rheinwald, H. Lang, Z. Anorg. Allg. Chem. 2002, 628, 2470.
8. d) M. Leschke, M. Melter, H. Lang, Inorg. Chim. Acta 2003, im Druck,
9. e) M. Leschke, H. Lang, R. Holze, J. Solid. State Electrochem. 2003, im Druck.
10. z. B. a) T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim) 1994. b) A. Jain, K. M. Chi, H. K. Chi, J. Farkas, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, Semicond Int. 1993, 16, 128. c) H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, E. N. Duesler, Can. J. Chem. 1992, 70, 2954. d) D. B. Beach, F. K. Legoues, C. K. Hu, Chem. Mater. 1990, 2, 216. e) H. K. Shin, K. M. Chi, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, M. F. Paffett, J. D. Farr, Chem. Mater. 1992, 4, 788. f) T. H. Baum, C. E. Larson, Chem. Mater. 1992, 4, 365. g) E. Szlyk, P. Piszczek, A. Grodzicki, M. Chaberski, A. Golinski, J. Szatkowski, J. Blaszczyk, Chem. Vap. Dep. 2001, 7, 111. h) J. Li, R. Blewer, J. W. Mayer, MRS Bull. 1993, 18, 18. i) T. L. Alford, J. Li, J. W. Mayer, S. Q. Wang, Thin solid Films 1995, VII, 262. j) P. L. Pai, C. H. Ting, IEEE Electron Device Lett. 1989, 10, 423. k) S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, P. J. Brock, J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332. l) L. H. Dubois, B. R. Zegarski, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295. m) J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, J. de Physique, 1991, IV(I), C2. n) T. H. Lemmen, G. V. Goeder, J. C. Huffman, R. L. Gerts, K. G. Caulton, Inorg. Chem. 1990, 29, 3680.
11. z. B. a) T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim) 1994. b) A. Jain, K. M. Chi, H. K. Chi, J. Farkas, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, Semicond Int. 1993, 16, 128. c) H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, E. N. Duesler, Can. J. Chem. 1992, 70, 2954. d) D. B. Beach, F. K. Legoues, C. K. Hu, Chem. Mater. 1990, 2, 216. e) H. K. Shin, K. M. Chi, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, M. F. Paffett, J. D. Farr, Chem. Mater. 1992, 4, 788. f) T. H. Baum, C. E. Larson, Chem. Mater. 1992, 4, 365. g) E. Szlyk, P. Piszczek, A. Grodzicki, M. Chaberski, A. Golinski, J. Szatkowski, J. Blaszczyk, Chem. Vap. Dep. 2001, 7, 111. h) J. Li, R. Blewer, J. W. Mayer, MRS Bull. 1993, 18, 18. i) T. L. Alford, J. Li, J. W. Mayer, S. Q. Wang, Thin solid Films 1995, VII, 262. j) P. L. Pai, C. H. Ting, IEEE Electron Device Lett. 1989, 10, 423. k) S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, P. J. Brock, J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332. l) L. H. Dubois, B. R. Zegarski, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295. m) J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, J. de Physique, 1991, IV(I), C2. n) T. H. Lemmen, G. V. Goeder, J. C. Huffman, R. L. Gerts, K. G. Caulton, Inorg. Chem. 1990, 29, 3680.
12. z. B. a) T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim) 1994. b) A. Jain, K. M. Chi, H. K. Chi, J. Farkas, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, Semicond Int. 1993, 16, 128. c) H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, E. N. Duesler, Can. J. Chem. 1992, 70, 2954. d) D. B. Beach, F. K. Legoues, C. K. Hu, Chem. Mater. 1990, 2, 216. e) H. K. Shin, K. M. Chi, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, M. F. Paffett, J. D. Farr, Chem. Mater. 1992, 4, 788. f) T. H. Baum, C. E. Larson, Chem. Mater. 1992, 4, 365. g) E. Szlyk, P. Piszczek, A. Grodzicki, M. Chaberski, A. Golinski, J. Szatkowski, J. Blaszczyk, Chem. Vap. Dep. 2001, 7, 111. h) J. Li, R. Blewer, J. W. Mayer, MRS Bull. 1993, 18, 18. i) T. L. Alford, J. Li, J. W. Mayer, S. Q. Wang, Thin solid Films 1995, VII, 262. j) P. L. Pai, C. H. Ting, IEEE Electron Device Lett. 1989, 10, 423. k) S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, P. J. Brock, J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332. l) L. H. Dubois, B. R. Zegarski, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295. m) J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, J. de Physique, 1991, IV(I), C2. n) T. H. Lemmen, G. V. Goeder, J. C. Huffman, R. L. Gerts, K. G. Caulton, Inorg. Chem. 1990, 29, 3680.
13. z. B. a) T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim) 1994. b) A. Jain, K. M. Chi, H. K. Chi, J. Farkas, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, Semicond Int. 1993, 16, 128. c) H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, E. N. Duesler, Can. J. Chem. 1992, 70, 2954. d) D. B. Beach, F. K. Legoues, C. K. Hu, Chem. Mater. 1990, 2, 216. e) H. K. Shin, K. M. Chi, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, M. F. Paffett, J. D. Farr, Chem. Mater. 1992, 4, 788. f) T. H. Baum, C. E. Larson, Chem. Mater. 1992, 4, 365. g) E. Szlyk, P. Piszczek, A. Grodzicki, M. Chaberski, A. Golinski, J. Szatkowski, J. Blaszczyk, Chem. Vap. Dep. 2001, 7, 111. h) J. Li, R. Blewer, J. W. Mayer, MRS Bull. 1993, 18, 18. i) T. L. Alford, J. Li, J. W. Mayer, S. Q. Wang, Thin solid Films 1995, VII, 262. j) P. L. Pai, C. H. Ting, IEEE Electron Device Lett. 1989, 10, 423. k) S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, P. J. Brock, J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332. l) L. H. Dubois, B. R. Zegarski, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295. m) J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, J. de Physique, 1991, IV(I), C2. n) T. H. Lemmen, G. V. Goeder, J. C. Huffman, R. L. Gerts, K. G. Caulton, Inorg. Chem. 1990, 29, 3680.
14. z. B. a) T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim) 1994. b) A. Jain, K. M. Chi, H. K. Chi, J. Farkas, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, Semicond Int. 1993, 16, 128. c) H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, E. N. Duesler, Can. J. Chem. 1992, 70, 2954. d) D. B. Beach, F. K. Legoues, C. K. Hu, Chem. Mater. 1990, 2, 216. e) H. K. Shin, K. M. Chi, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, M. F. Paffett, J. D. Farr, Chem. Mater. 1992, 4, 788. f) T. H. Baum, C. E. Larson, Chem. Mater. 1992, 4, 365. g) E. Szlyk, P. Piszczek, A. Grodzicki, M. Chaberski, A. Golinski, J. Szatkowski, J. Blaszczyk, Chem. Vap. Dep. 2001, 7, 111. h) J. Li, R. Blewer, J. W. Mayer, MRS Bull. 1993, 18, 18. i) T. L. Alford, J. Li, J. W. Mayer, S. Q. Wang, Thin solid Films 1995, VII, 262. j) P. L. Pai, C. H. Ting, IEEE Electron Device Lett. 1989, 10, 423. k) S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, P. J. Brock, J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332. l) L. H. Dubois, B. R. Zegarski, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295. m) J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, J. de Physique, 1991, IV(I), C2. n) T. H. Lemmen, G. V. Goeder, J. C. Huffman, R. L. Gerts, K. G. Caulton, Inorg. Chem. 1990, 29, 3680.
15. z. B. a) T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim) 1994. b) A. Jain, K. M. Chi, H. K. Chi, J. Farkas, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, Semicond Int. 1993, 16, 128. c) H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, E. N. Duesler, Can. J. Chem. 1992, 70, 2954. d) D. B. Beach, F. K. Legoues, C. K. Hu, Chem. Mater. 1990, 2, 216. e) H. K. Shin, K. M. Chi, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, M. F. Paffett, J. D. Farr, Chem. Mater. 1992, 4, 788. f) T. H. Baum, C. E. Larson, Chem. Mater. 1992, 4, 365. g) E. Szlyk, P. Piszczek, A. Grodzicki, M. Chaberski, A. Golinski, J. Szatkowski, J. Blaszczyk, Chem. Vap. Dep. 2001, 7, 111. h) J. Li, R. Blewer, J. W. Mayer, MRS Bull. 1993, 18, 18. i) T. L. Alford, J. Li, J. W. Mayer, S. Q. Wang, Thin solid Films 1995, VII, 262. j) P. L. Pai, C. H. Ting, IEEE Electron Device Lett. 1989, 10, 423. k) S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, P. J. Brock, J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332. l) L. H. Dubois, B. R. Zegarski, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295. m) J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, J. de Physique, 1991, IV(I), C2. n) T. H. Lemmen, G. V. Goeder, J. C. Huffman, R. L. Gerts, K. G. Caulton, Inorg. Chem. 1990, 29, 3680.
16. z. B. a) T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim) 1994. b) A. Jain, K. M. Chi, H. K. Chi, J. Farkas, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, Semicond Int. 1993, 16, 128. c) H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, E. N. Duesler, Can. J. Chem. 1992, 70, 2954. d) D. B. Beach, F. K. Legoues, C. K. Hu, Chem. Mater. 1990, 2, 216. e) H. K. Shin, K. M. Chi, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, M. F. Paffett, J. D. Farr, Chem. Mater. 1992, 4, 788. f) T. H. Baum, C. E. Larson, Chem. Mater. 1992, 4, 365. g) E. Szlyk, P. Piszczek, A. Grodzicki, M. Chaberski, A. Golinski, J. Szatkowski, J. Blaszczyk, Chem. Vap. Dep. 2001, 7, 111. h) J. Li, R. Blewer, J. W. Mayer, MRS Bull. 1993, 18, 18. i) T. L. Alford, J. Li, J. W. Mayer, S. Q. Wang, Thin solid Films 1995, VII, 262. j) P. L. Pai, C. H. Ting, IEEE Electron Device Lett. 1989, 10, 423. k) S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, P. J. Brock, J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332. l) L. H. Dubois, B. R. Zegarski, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295. m) J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, J. de Physique, 1991, IV(I), C2. n) T. H. Lemmen, G. V. Goeder, J. C. Huffman, R. L. Gerts, K. G. Caulton, Inorg. Chem. 1990, 29, 3680.
17. z. B. a) T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim) 1994. b) A. Jain, K. M. Chi, H. K. Chi, J. Farkas, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, Semicond Int. 1993, 16, 128. c) H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, E. N. Duesler, Can. J. Chem. 1992, 70, 2954. d) D. B. Beach, F. K. Legoues, C. K. Hu, Chem. Mater. 1990, 2, 216. e) H. K. Shin, K. M. Chi, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, M. F. Paffett, J. D. Farr, Chem. Mater. 1992, 4, 788. f) T. H. Baum, C. E. Larson, Chem. Mater. 1992, 4, 365. g) E. Szlyk, P. Piszczek, A. Grodzicki, M. Chaberski, A. Golinski, J. Szatkowski, J. Blaszczyk, Chem. Vap. Dep. 2001, 7, 111. h) J. Li, R. Blewer, J. W. Mayer, MRS Bull. 1993, 18, 18. i) T. L. Alford, J. Li, J. W. Mayer, S. Q. Wang, Thin solid Films 1995, VII, 262. j) P. L. Pai, C. H. Ting, IEEE Electron Device Lett. 1989, 10, 423. k) S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, P. J. Brock, J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332. l) L. H. Dubois, B. R. Zegarski, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295. m) J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, J. de Physique, 1991, IV(I), C2. n) T. H. Lemmen, G. V. Goeder, J. C. Huffman, R. L. Gerts, K. G. Caulton, Inorg. Chem. 1990, 29, 3680.
18. z. B. a) T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim) 1994. b) A. Jain, K. M. Chi, H. K. Chi, J. Farkas, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, Semicond Int. 1993, 16, 128. c) H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, E. N. Duesler, Can. J. Chem. 1992, 70, 2954. d) D. B. Beach, F. K. Legoues, C. K. Hu, Chem. Mater. 1990, 2, 216. e) H. K. Shin, K. M. Chi, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, M. F. Paffett, J. D. Farr, Chem. Mater. 1992, 4, 788. f) T. H. Baum, C. E. Larson, Chem. Mater. 1992, 4, 365. g) E. Szlyk, P. Piszczek, A. Grodzicki, M. Chaberski, A. Golinski, J. Szatkowski, J. Blaszczyk, Chem. Vap. Dep. 2001, 7, 111. h) J. Li, R. Blewer, J. W. Mayer, MRS Bull. 1993, 18, 18. i) T. L. Alford, J. Li, J. W. Mayer, S. Q. Wang, Thin solid Films 1995, VII, 262. j) P. L. Pai, C. H. Ting, IEEE Electron Device Lett. 1989, 10, 423. k) S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, P. J. Brock, J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332. l) L. H. Dubois, B. R. Zegarski, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295. m) J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, J. de Physique, 1991, IV(I), C2. n) T. H. Lemmen, G. V. Goeder, J. C. Huffman, R. L. Gerts, K. G. Caulton, Inorg. Chem. 1990, 29, 3680.
19. z. B. a) T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim) 1994. b) A. Jain, K. M. Chi, H. K. Chi, J. Farkas, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, Semicond Int. 1993, 16, 128. c) H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, E. N. Duesler, Can. J. Chem. 1992, 70, 2954. d) D. B. Beach, F. K. Legoues, C. K. Hu, Chem. Mater. 1990, 2, 216. e) H. K. Shin, K. M. Chi, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, M. F. Paffett, J. D. Farr, Chem. Mater. 1992, 4, 788. f) T. H. Baum, C. E. Larson, Chem. Mater. 1992, 4, 365. g) E. Szlyk, P. Piszczek, A. Grodzicki, M. Chaberski, A. Golinski, J. Szatkowski, J. Blaszczyk, Chem. Vap. Dep. 2001, 7, 111. h) J. Li, R. Blewer, J. W. Mayer, MRS Bull. 1993, 18, 18. i) T. L. Alford, J. Li, J. W. Mayer, S. Q. Wang, Thin solid Films 1995, VII, 262. j) P. L. Pai, C. H. Ting, IEEE Electron Device Lett. 1989, 10, 423. k) S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, P. J. Brock, J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332. l) L. H. Dubois, B. R. Zegarski, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295. m) J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, J. de Physique, 1991, IV(I), C2. n) T. H. Lemmen, G. V. Goeder, J. C. Huffman, R. L. Gerts, K. G. Caulton, Inorg. Chem. 1990, 29, 3680.
20. z. B. a) T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim) 1994. b) A. Jain, K. M. Chi, H. K. Chi, J. Farkas, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, Semicond Int. 1993, 16, 128. c) H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, E. N. Duesler, Can. J. Chem. 1992, 70, 2954. d) D. B. Beach, F. K. Legoues, C. K. Hu, Chem. Mater. 1990, 2, 216. e) H. K. Shin, K. M. Chi, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, M. F. Paffett, J. D. Farr, Chem. Mater. 1992, 4, 788. f) T. H. Baum, C. E. Larson, Chem. Mater. 1992, 4, 365. g) E. Szlyk, P. Piszczek, A. Grodzicki, M. Chaberski, A. Golinski, J. Szatkowski, J. Blaszczyk, Chem. Vap. Dep. 2001, 7, 111. h) J. Li, R. Blewer, J. W. Mayer, MRS Bull. 1993, 18, 18. i) T. L. Alford, J. Li, J. W. Mayer, S. Q. Wang, Thin solid Films 1995, VII, 262. j) P. L. Pai, C. H. Ting, IEEE Electron Device Lett. 1989, 10, 423. k) S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, P. J. Brock, J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332. l) L. H. Dubois, B. R. Zegarski, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295. m) J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, J. de Physique, 1991, IV(I), C2. n) T. H. Lemmen, G. V. Goeder, J. C. Huffman, R. L. Gerts, K. G. Caulton, Inorg. Chem. 1990, 29, 3680.
21. z. B. a) T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim) 1994. b) A. Jain, K. M. Chi, H. K. Chi, J. Farkas, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, Semicond Int. 1993, 16, 128. c) H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, E. N. Duesler, Can. J. Chem. 1992, 70, 2954. d) D. B. Beach, F. K. Legoues, C. K. Hu, Chem. Mater. 1990, 2, 216. e) H. K. Shin, K. M. Chi, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, M. F. Paffett, J. D. Farr, Chem. Mater. 1992, 4, 788. f) T. H. Baum, C. E. Larson, Chem. Mater. 1992, 4, 365. g) E. Szlyk, P. Piszczek, A. Grodzicki, M. Chaberski, A. Golinski, J. Szatkowski, J. Blaszczyk, Chem. Vap. Dep. 2001, 7, 111. h) J. Li, R. Blewer, J. W. Mayer, MRS Bull. 1993, 18, 18. i) T. L. Alford, J. Li, J. W. Mayer, S. Q. Wang, Thin solid Films 1995, VII, 262. j) P. L. Pai, C. H. Ting, IEEE Electron Device Lett. 1989, 10, 423. k) S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, P. J. Brock, J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332. l) L. H. Dubois, B. R. Zegarski, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295. m) J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, J. de Physique, 1991, IV(I), C2. n) T. H. Lemmen, G. V. Goeder, J. C. Huffman, R. L. Gerts, K. G. Caulton, Inorg. Chem. 1990, 29, 3680.
22. z. B. a) T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim) 1994. b) A. Jain, K. M. Chi, H. K. Chi, J. Farkas, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, Semicond Int. 1993, 16, 128. c) H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, E. N. Duesler, Can. J. Chem. 1992, 70, 2954. d) D. B. Beach, F. K. Legoues, C. K. Hu, Chem. Mater. 1990, 2, 216. e) H. K. Shin, K. M. Chi, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, M. F. Paffett, J. D. Farr, Chem. Mater. 1992, 4, 788. f) T. H. Baum, C. E. Larson, Chem. Mater. 1992, 4, 365. g) E. Szlyk, P. Piszczek, A. Grodzicki, M. Chaberski, A. Golinski, J. Szatkowski, J. Blaszczyk, Chem. Vap. Dep. 2001, 7, 111. h) J. Li, R. Blewer, J. W. Mayer, MRS Bull. 1993, 18, 18. i) T. L. Alford, J. Li, J. W. Mayer, S. Q. Wang, Thin solid Films 1995, VII, 262. j) P. L. Pai, C. H. Ting, IEEE Electron Device Lett. 1989, 10, 423. k) S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, P. J. Brock, J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332. l) L. H. Dubois, B. R. Zegarski, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295. m) J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, J. de Physique, 1991, IV(I), C2. n) T. H. Lemmen, G. V. Goeder, J. C. Huffman, R. L. Gerts, K. G. Caulton, Inorg. Chem. 1990, 29, 3680.
23. z. B. a) T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim) 1994. b) A. Jain, K. M. Chi, H. K. Chi, J. Farkas, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, Semicond Int. 1993, 16, 128. c) H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, E. N. Duesler, Can. J. Chem. 1992, 70, 2954. d) D. B. Beach, F. K. Legoues, C. K. Hu, Chem. Mater. 1990, 2, 216. e) H. K. Shin, K. M. Chi, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, M. F. Paffett, J. D. Farr, Chem. Mater. 1992, 4, 788. f) T. H. Baum, C. E. Larson, Chem. Mater. 1992, 4, 365. g) E. Szlyk, P. Piszczek, A. Grodzicki, M. Chaberski, A. Golinski, J. Szatkowski, J. Blaszczyk, Chem. Vap. Dep. 2001, 7, 111. h) J. Li, R. Blewer, J. W. Mayer, MRS Bull. 1993, 18, 18. i) T. L. Alford, J. Li, J. W. Mayer, S. Q. Wang, Thin solid Films 1995, VII, 262. j) P. L. Pai, C. H. Ting, IEEE Electron Device Lett. 1989, 10, 423. k) S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, P. J. Brock, J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332. l) L. H. Dubois, B. R. Zegarski, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295. m) J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, J. de Physique, 1991, IV(I), C2. n) T. H. Lemmen, G. V. Goeder, J. C. Huffman, R. L. Gerts, K. G. Caulton, Inorg. Chem. 1990, 29, 3680.
24. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
25. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
26. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
27. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
28. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
29. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
30. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
31. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
32. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
33. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
34. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
35. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
36. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
37. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
38. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
39. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
40. z. B. a) H. Schmidt, Y. Shen, M. Leschke, Th. Haase, K. Kohse-Höinghaus, H. Lang, J. Organomet. Chem. 2003, 669, 25 und dort zit. Lit. b) K. Chi, Y. Lu, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 117. c) K. Chi, K. Chen, S. Peng, G. Lee, Organometallics 1996, 15, 2575. d) E. T. Eisenbraun, A. Klaver, Z. Patel, G. Nuesca, A. E. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. 2001, B19, 585. e) A. Itsuki, H. Uchida, M. Satou, K, Ogi, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 1997, B121, 116. f) Z. Yuan, N. H. Dryden, X. Li, J. J. Vittal, R. J. Puddephatt, J. Mater. Chem, 1995, 5, 303. g) E. Szlyk, P. Piszczek, M. Chaberski, A. Golinski, Polyhedron 2001, 20, 2853. h) D. A. Edwards, R. M. Harker, M. F. Mahon, K. C. Molloy, Inorg. Chim. Acta 2002, 328, 134. i) E. Szlyk, P. Piszczek, I. Lakomska, Chem. Vap. Dep. 2000, 6, 105. j) C. Oehr, H. Suhr, Appl. Phys. 1989, A49, 691. k) M. J. Shapiro, W. J. Lackey, J. A. Hanigofsky, D. N. Hill, W. B. Carter, E. K. Barefield, J. Alloys Compd. 1992, 187, 331. l) R. J. H. Voorhoeve, J. W. Merewether, J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 364. m) S. Paramonov, S. Samoilenkov, S. Papucha, L. Malkerova, A. Alikhanyan, N. Kuzmina, S. I. Troyanov, A. R. Kaul, J. Phys. IV: Proceedings 2001, 11. n) S. Samoilenkov, M. Stefan, G. Wahl, S. Paramonov, N. Kuzmina, A. Kaul, Chem. Vap. Dep. 2002, 8, 74. o) Y. Sawada, N. Kanou, N. Mitzutani, Thermochim. Acta 1991, 183, 279. p) W. W. Webb, E. F. Riebling, J. Chem. Phys. 1958, 28, 1242. q) M. Whitesides, E. J. Panek, E. R. Stedronsky, J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 232.
41. a) A. R. Siedle, in Comprehensive Coordination Chemistry, The Synthesis, Reactions, Properties and Applications of Coordination Compounds (G. Wilkinson, R. D. Gillard, J. A. McCleverty (Eds.), Pergamon Press 1987, 2, 365.
42. b) R. C. Mehrotra, R. Bohra, D. P Gaur, in Metal β-Diketonates and Allied Derivatives, Academic, N. Y. 1978.
43. c) K. C. Joshi, V. N. Pathak, Coord. Chem. Rev. 1977, 22, 37.
44. z. B. a) K. Nakamoto, Infrared and Roman spectra of inorganic and coordination compounds, 4. Aufl., John Wiley and Sons, U.S.A. 1986 und dort zit. Lit. b) J. W. Faller, A. Davison, Inorg. Chem. 1967, 6, 182. c) T. J. Pinnavaia, R. C. Fay, Inorg. Chem. 1968, 7, 502. d) D. C. Bradley, C. E. Holloway, Chem. Commun, 1965, 284. e) C. A. Wilkie, G. Y. Lin, D. T. Harworth, J. Inorg. Nucl. Chem. 1978, 40, 1009. f) N. Serpone, P. H. Bird, A. Somogyvari, D. G. Bickley, Inorg. Chem. 1977, 16, 2381. g) R. W. Jones Jr., R. C. Fay, Inorg. Chem. 1973, 12, 2599.
45. z. B. a) K. Nakamoto, Infrared and Roman spectra of inorganic and coordination compounds, 4. Aufl., John Wiley and Sons, U.S.A. 1986 und dort zit. Lit. b) J. W. Faller, A. Davison, Inorg. Chem. 1967, 6, 182. c) T. J. Pinnavaia, R. C. Fay, Inorg. Chem. 1968, 7, 502. d) D. C. Bradley, C. E. Holloway, Chem. Commun, 1965, 284. e) C. A. Wilkie, G. Y. Lin, D. T. Harworth, J. Inorg. Nucl. Chem. 1978, 40, 1009. f) N. Serpone, P. H. Bird, A. Somogyvari, D. G. Bickley, Inorg. Chem. 1977, 16, 2381. g) R. W. Jones Jr., R. C. Fay, Inorg. Chem. 1973, 12, 2599.
46. z. B. a) K. Nakamoto, Infrared and Roman spectra of inorganic and coordination compounds, 4. Aufl., John Wiley and Sons, U.S.A. 1986 und dort zit. Lit. b) J. W. Faller, A. Davison, Inorg. Chem. 1967, 6, 182. c) T. J. Pinnavaia, R. C. Fay, Inorg. Chem. 1968, 7, 502. d) D. C. Bradley, C. E. Holloway, Chem. Commun, 1965, 284. e) C. A. Wilkie, G. Y. Lin, D. T. Harworth, J. Inorg. Nucl. Chem. 1978, 40, 1009. f) N. Serpone, P. H. Bird, A. Somogyvari, D. G. Bickley, Inorg. Chem. 1977, 16, 2381. g) R. W. Jones Jr., R. C. Fay, Inorg. Chem. 1973, 12, 2599.
47. z. B. a) K. Nakamoto, Infrared and Roman spectra of inorganic and coordination compounds, 4. Aufl., John Wiley and Sons, U.S.A. 1986 und dort zit. Lit. b) J. W. Faller, A. Davison, Inorg. Chem. 1967, 6, 182. c) T. J. Pinnavaia, R. C. Fay, Inorg. Chem. 1968, 7, 502. d) D. C. Bradley, C. E. Holloway, Chem. Commun, 1965, 284. e) C. A. Wilkie, G. Y. Lin, D. T. Harworth, J. Inorg. Nucl. Chem. 1978, 40, 1009. f) N. Serpone, P. H. Bird, A. Somogyvari, D. G. Bickley, Inorg. Chem. 1977, 16, 2381. g) R. W. Jones Jr., R. C. Fay, Inorg. Chem. 1973, 12, 2599.
48. z. B. a) K. Nakamoto, Infrared and Roman spectra of inorganic and coordination compounds, 4. Aufl., John Wiley and Sons, U.S.A. 1986 und dort zit. Lit. b) J. W. Faller, A. Davison, Inorg. Chem. 1967, 6, 182. c) T. J. Pinnavaia, R. C. Fay, Inorg. Chem. 1968, 7, 502. d) D. C. Bradley, C. E. Holloway, Chem. Commun, 1965, 284. e) C. A. Wilkie, G. Y. Lin, D. T. Harworth, J. Inorg. Nucl. Chem. 1978, 40, 1009. f) N. Serpone, P. H. Bird, A. Somogyvari, D. G. Bickley, Inorg. Chem. 1977, 16, 2381. g) R. W. Jones Jr., R. C. Fay, Inorg. Chem. 1973, 12, 2599.
49. z. B. a) K. Nakamoto, Infrared and Roman spectra of inorganic and coordination compounds, 4. Aufl., John Wiley and Sons, U.S.A. 1986 und dort zit. Lit. b) J. W. Faller, A. Davison, Inorg. Chem. 1967, 6, 182. c) T. J. Pinnavaia, R. C. Fay, Inorg. Chem. 1968, 7, 502. d) D. C. Bradley, C. E. Holloway, Chem. Commun, 1965, 284. e) C. A. Wilkie, G. Y. Lin, D. T. Harworth, J. Inorg. Nucl. Chem. 1978, 40, 1009. f) N. Serpone, P. H. Bird, A. Somogyvari, D. G. Bickley, Inorg. Chem. 1977, 16, 2381. g) R. W. Jones Jr., R. C. Fay, Inorg. Chem. 1973, 12, 2599.
50. z. B. a) K. Nakamoto, Infrared and Roman spectra of inorganic and coordination compounds, 4. Aufl., John Wiley and Sons, U.S.A. 1986 und dort zit. Lit. b) J. W. Faller, A. Davison, Inorg. Chem. 1967, 6, 182. c) T. J. Pinnavaia, R. C. Fay, Inorg. Chem. 1968, 7, 502. d) D. C. Bradley, C. E. Holloway, Chem. Commun, 1965, 284. e) C. A. Wilkie, G. Y. Lin, D. T. Harworth, J. Inorg. Nucl. Chem. 1978, 40, 1009. f) N. Serpone, P. H. Bird, A. Somogyvari, D. G. Bickley, Inorg. Chem. 1977, 16, 2381. g) R. W. Jones Jr., R. C. Fay, Inorg. Chem. 1973, 12, 2599.
51. z. B. a) T. A. Work, E. A. Gulliver, M. J. Hampden-Smith, A. L. Rheingold, Inorg. Chem. 1996, 29, 4360. b) K. M. Chi, H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, E. N. Duesler, Polyhedron 1991, 10, 2293. c) R. Dag-Köhn, G. Seifert, G. Kociok-Köhn, Chem. Ber. 1996, 129, 1327. d) M. Driess, M. Faulhaber, H. Pritzkow, Angew. Chem. 1997, 109, 1980. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1997, 36, 1892. e) C. Meyer, H. Grützmacher, H. Pritzkow, Angew. Chem. 1997, 109, 2576. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1997, 36, 2471.
52. z. B. a) T. A. Work, E. A. Gulliver, M. J. Hampden-Smith, A. L. Rheingold, Inorg. Chem. 1996, 29, 4360. b) K. M. Chi, H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, E. N. Duesler, Polyhedron 1991, 10, 2293. c) R. Dag-Köhn, G. Seifert, G. Kociok-Köhn, Chem. Ber. 1996, 129, 1327. d) M. Driess, M. Faulhaber, H. Pritzkow, Angew. Chem. 1997, 109, 1980. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1997, 36, 1892. e) C. Meyer, H. Grützmacher, H. Pritzkow, Angew. Chem. 1997, 109, 2576. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1997, 36, 2471.
53. z. B. a) T. A. Work, E. A. Gulliver, M. J. Hampden-Smith, A. L. Rheingold, Inorg. Chem. 1996, 29, 4360. b) K. M. Chi, H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, E. N. Duesler, Polyhedron 1991, 10, 2293. c) R. Dag-Köhn, G. Seifert, G. Kociok-Köhn, Chem. Ber. 1996, 129, 1327. d) M. Driess, M. Faulhaber, H. Pritzkow, Angew. Chem. 1997, 109, 1980. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1997, 36, 1892. e) C. Meyer, H. Grützmacher, H. Pritzkow, Angew. Chem. 1997, 109, 2576. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1997, 36, 2471.
54. z. B. a) T. A. Work, E. A. Gulliver, M. J. Hampden-Smith, A. L. Rheingold, Inorg. Chem. 1996, 29, 4360. b) K. M. Chi, H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, E. N. Duesler, Polyhedron 1991, 10, 2293. c) R. Dag-Köhn, G. Seifert, G. Kociok-Köhn, Chem. Ber. 1996, 129, 1327. d) M. Driess, M. Faulhaber, H. Pritzkow, Angew. Chem. 1997, 109, 1980. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1997, 36, 1892. e) C. Meyer, H. Grützmacher, H. Pritzkow, Angew. Chem. 1997, 109, 2576. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1997, 36, 2471.
55. z. B. a) T. A. Work, E. A. Gulliver, M. J. Hampden-Smith, A. L. Rheingold, Inorg. Chem. 1996, 29, 4360. b) K. M. Chi, H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, E. N. Duesler, Polyhedron 1991, 10, 2293. c) R. Dag-Köhn, G. Seifert, G. Kociok-Köhn, Chem. Ber. 1996, 129, 1327. d) M. Driess, M. Faulhaber, H. Pritzkow, Angew. Chem. 1997, 109, 1980. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1997, 36, 1892. e) C. Meyer, H. Grützmacher, H. Pritzkow, Angew. Chem. 1997, 109, 2576. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1997, 36, 2471.
56. z. B. a) T. A. Work, E. A. Gulliver, M. J. Hampden-Smith, A. L. Rheingold, Inorg. Chem. 1996, 29, 4360. b) K. M. Chi, H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, E. N. Duesler, Polyhedron 1991, 10, 2293. c) R. Dag-Köhn, G. Seifert, G. Kociok-Köhn, Chem. Ber. 1996, 129, 1327. d) M. Driess, M. Faulhaber, H. Pritzkow, Angew. Chem. 1997, 109, 1980. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1997, 36, 1892. e) C. Meyer, H. Grützmacher, H. Pritzkow, Angew. Chem. 1997, 109, 2576. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1997, 36, 2471.
57. z. B. a) T. A. Work, E. A. Gulliver, M. J. Hampden-Smith, A. L. Rheingold, Inorg. Chem. 1996, 29, 4360. b) K. M. Chi, H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, E. N. Duesler, Polyhedron 1991, 10, 2293. c) R. Dag-Köhn, G. Seifert, G. Kociok-Köhn, Chem. Ber. 1996, 129, 1327. d) M. Driess, M. Faulhaber, H. Pritzkow, Angew. Chem. 1997, 109, 1980. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1997, 36, 1892. e) C. Meyer, H. Grützmacher, H. Pritzkow, Angew. Chem. 1997, 109, 2576. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1997, 36, 2471.
58. a) M. R. Churchill, F. J. Rotella, Inorg. Chem. 1979, 18, 166.
59. b) R. G. Goel, A. L. Beauchamp, Inorg. Chem. 1983, 22, 395.
60. c) D. J. Darensbourg, M. W. Holtcamp, E. M. Longridge, K. K. Klausmeyer, J. H. Reibenspies, Inorg. Chim. Acta 1994, 227, 223.
61. a) K. Smalander, Acta Chem. Scand. A 1981, 35, 815.
62. b) M. Pasquali, C. Floriani, G. Venturi, A. Gaetani-Manfredotti, A. C. Villa, J. Am. Chem. Soc. 1982, 104, 4092.
63. c) H. Elias, E. Hilms, H. Paulus, Z. Naturforsch. 1982, 37b, 1266.
64. a) M. Hasegawa, Y. Inomaki, T. Inayoshi, T. Hoshi, M. Kobayashi, Inorg. Chim. Acta 1997, 257, 259.
65. b) K. Mereiter, A. Carnard, W. Wuert, Priv. Comm. 2002, CCDC 187873.
66. a) G. G. Aleksandrov, I. R. Golding, S. R. Sterlin, A. M. Sladkov, Y. T. Struchkov, I. A. Garbuzova, V. T. Aleksanyan, Izv. Akad. Nauk SSSR, Ser. Khim. 1980, 2679.
67. b) D. W. Macomber, M. D. Rausch, J. Am. Chem. Soc. 1983, 105, 5325.
68. a) H. Lang, K. Köhler, S. Blau, Coord. Chem. Rev. 1995, 243, 113.
69. b) H. Lang, D. S. A. George, G. Rheinwald, Coord. Chem. Rev. 2000, 206-207, 101.
70. c) H. Lang, K. Köhler, M. Büchner, Chem. Ber. 1995, 128, 525.
71. d) A. Jain, K. M. Chi, T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith, J. D. Farr, M. F. Paffet, Chem. Mater. 1991, 3, 995.
72. e) K. M. Chi, H. K. Shin, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, E. N. Duesler, Inorg. Chem. 1991, 30, 4293.
73. f) K. M. Chi, T. S. Corbitt, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, E. N. Duesler, J. Organomet. Chem. 1993, 449, 181.
74. g) H. K. Shin, K. M. Chi, J. Farkas, M. J. Hampden-Smith, T. T. Kodas, E. N. Duesler, Inorg. Chem. 1992, 31, 424.
75. G. M. Sheldrick, Acta Crystallogr., 1990, A46, 467.
76. G. M. Sheldrick, SHELXL97, Programm zur Strukturverfeinerung, Universität Göttingen, 1997.
77. G. M. Sheldrick, XP, Programm zur Strukturverfeinerung und Graphikbearbeitung, Universität Göttingen, 1997.