Nanoscale writing of transparent conducting oxide features with a focused ion beam

Advanced Materials

Volumn 21, Issue 6, 2009, Pages 721-725

  Sosa, Norma E ^b   Liu, Jun ^a   Chen, Christopher ^b   Marks, Tobin J ^a   Hersam, Mark C ^b  

^a NORTHWESTERN UNIVERSITY   (United States)

^b Northwestern University   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BORON; CONDUCTIVE FILMS; DIAMONDS; ELECTRIC WIRE; FOCUSED ION BEAMS; ION BEAMS; IONS; METALLIC COMPOUNDS; NANOSTRUCTURED MATERIALS; NANOTECHNOLOGY; OXIDE FILMS; PLATINUM; PROBES; THIN FILMS;

ATOMIC FORCE MICROSCOPES; BORON-DOPED DIAMONDS; COATED PROBES; CONDUCTING OXIDES; CONDUCTING WIRES; ELECTRICAL MAPPINGS; GLASS SUBSTRATES; ION-ASSISTED DEPOSITIONS; NANO-SCALE; ROOM TEMPERATURES; SYSTEM PRESSURES; TRANSPARENT CONDUCTING OXIDES; TRANSPARENT METALS;

ION BEAM ASSISTED DEPOSITION;

EID: 60349086183     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200802129     Document Type: Article

References (30)

1. L. Wang, M. H. Yoon, G. Lu, Y. Yang, A. Facchetti, T. J. Marks, Not. Mater. 2006, 5, 893.
2. K. Nomura, H. Ohta, K. Ueda, T. Kamiya, M. Hirano, H. Hosono, Science 2003, 300, 1269.
3. K. Nomura, H. Ohta, A. Takagi, T. Kamiya, M. Hirano, H. Hosono, Nature 2004, 432, 488.
4. S. Y. Ju, A. Facchetti, Y. Xuan, J. Liu, F. Ishikawa, P. D. Ye, C. W. Zhou, T. J. Marks, D. B. Janes, Nat. Nanotech. 2007, 2, 378.
5. P. F. Carcia, R. S. McLean, M. H. Reilly, G. Nunes, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1117.
6. H. J. Dai, E. W. Wong, C. M. Lieber, Science 1996, 272, 523.
7. K. Esfarjani, A. A. Farajian, Y. Hashi, Y. Kawazoe, Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 79.
8. J. Nygard, D. H. Cobden, M. Bockrath, P. L. McEuen, P. E. Lindelof, Appl. Phys. A. 1999, 69, 297.
9. B. G. Lewis, D. C. Paine, MRS Bull. 2000, 25, 22.
10. A. J. Freeman, K. R. Poeppelmeier, T. O. Mason, R. P. H. Chang, T. J. Marks, MRS Bull. 2000, 25, 45.
11. R. L. Weiher, Appl. Phys. 1962, 33, 2834.
12. T. O. Mason, G. B. Gonzalez, J. H. Hwang, D. R. Kammler, Phys. Chem. Chem. Phys. 2003, 5, 2183.
13. A. Wang, N. L. Edleman, J. R. Babcock, T. J. Marks, M. A. Lane, P. R. Brazis, C. R. Kannewurf, J. Mater. Res. 2002, 17, 3155.
14. H. Kawazoe, H. Yanagi, K. Ueda, H. Hosono, MRS Bull. 2000, 25, 28.
15. K. Wang, Y. Vygranenko, A. Nathan, Thin Solid Films 2007, 515, 6981.
16. T. L. Breen, P. M. Fryer, R. W. Nunes, M. E. Rothwell, Langmuir 2002, 18, 194.
17. J. Molloy, P. Maguire, S. J. Laverty, J. A. McLaughlinJ. Eledrochem. Soc. 1995, 142, 4285.
18. W. J. MoberlyChan, D. P. Adams, M. J. Aziz, G. Hobler, T. Schenkel, MRS Bull. 2007, 32, 424.
19. S. Matsui, Y. Ochiai, Nanotechnology 1996, 7, 247.
20. H. J. Lezec, C. R. Musil, J. Melngailis, L. J. Mahoney, J. D. Woodhouse, J. Vac. Sci. Techol. B 1991, 9, 2709.
21. O. Yavas, M. Takai, Jpn. J. Applied Phys. 1 1999, 38, 7131.
22. M. F. Chen, Y. P. Chen, W. T. Hsiao, Z. P. Gu, Thin Solid Films 2007, 515, 8515.
23. A. H. Hamdi, R. C. O. Laugal, A. B. Catalan, A. L. Micheli, N. W. Schubring, Thin Solid Films 1991, 198, 9.
24. A. B. Catalan, J. V. Maniese, A. H. Hamdi, R. C. O. Laugal, A. L. Micheli, Thin Solid Films 1990, 188, 21.
25. J. Chae, S. Appasamy, K. Jain, Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 261102.
26. M. W. Such, D. E. Kramer, M. C. Hersam, Ultramicroscopy 2004, 99, 189.
27. R. J. Cava, J. M. Phillips, J. Kwo, G. A. Thomas, R. B. Vandover, S. A. Carter, J. J. Krajewski, W. F. Peck, J. H. Marshall, D. H. Rapkine, Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 2071.
28. T. Minami, J. Vac Sci. and Technol. 1999, 17, 1765.
29. J. M. Phillips, J. Kwo, G. A. Carter, R. J. Cava, S. Y. Hou, J. J. Krajewski, J. H. Marshall, W. F. Peck, D. H. Rapkine, R. B. Vandover, Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 115.
30. G. B. Gonzalez, J. B. Cohen, J. H. Hwang, T. O. Mason, J. P. Hodges, J. D. Jorgensen, Appl. Phys. 2001, 89, 2550.