Surface modification and significant reduction of yellow/blue luminescence of gallium nitride

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 112, Issue 45, 2008, Pages 17652-17656

  Fang, Z L ^a   Kang, J Y ^a   Shen, W Z ^b  

^a XIAMEN UNIVERSITY   (China)

^b SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMMONIA; DROP FORMATION; DROPS; GALLIUM COMPOUNDS; GALLIUM NITRIDE; LIGHT EMISSION; LUMINESCENCE; NITRIDES; SEMICONDUCTING GALLIUM; STOICHIOMETRY; SURFACE TREATMENT;

GAN FILMS; GAN LAYERS; GAN NANOISLANDS; HOMOEPITAXY; IN-SITU; NANO ISLANDS; NON STOICHIOMETRIES; PATTERNED LAYERS; PHOTOLUMINESCENCE STUDIES; SIGNIFICANT REDUCTIONS; SMOOTH LAYERS; STEP SURFACES; STRUCTURED SURFACES; SURFACE MODIFICATIONS; SURFACE STOICHIOMETRIES; THERMAL ANNEALING; TRIMETHYLGALLIUM;

GALLIUM ALLOYS;

EID: 57049137101     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp806202n     Document Type: Article

References (37)

1. Reshchikov, M. A.; Morkoc, H. J. Appl. Phys. 2005, 97, 061301and references cited therein.
2. Ogino, T.; Aoki, M. Jpn. J. Appl. Phys 1980, 19, 2395.
3. Glaser, E. R.; Kennedy, T. A.; Doverspike, K.; Rowland, L. B.; Gaskill, D. K.; Freitas, J. A.; Asif Khan, M; Olson, D. T.; Kuznia, J. N.; Wickenden, D. K. Phys. Rev. B 1995, 51, 13326.
4. Polenta, L.; Castaldini, A.; Cavallini, A. J. Appl Phys. 2007, 102, 063702.
5. Lymperakis, L.; Neugebauer, J.; Albrecht, M.; Remmele, T.; Strunk, H. P. Phys. Rev. Lett. 2004, 93, 196401.
6. Arslan, I.; Browning, N. D. Phys. Rev. Lett. 2003, 91, 165501.
7. Elsner, J.; Jones, R.; Heggie, M. I.; Sitch, P. K.; Haugk, M; Frauenheim, Th.; Öberg, S.; Briddon, P. R. Phys. Rev. B 1998, 58, 12571.
8. Wright, A. F. J. Appl. Phys. 2005, 98, 103531.
9. Ganchenkova, N. G.; Nieminen, R. M. Phys. Rev. Lett. 2006, 96, 196402.
10. Look, D. C.; Reynolds, D. C.; Hemsky, J. W.; Sizelove, J. R.; Jones, R. L.; Molnar, R. J. Phys. Rev. Lett. 1997, 79, 2273.
11. Tham, D.; Nam, C.-Y.; Fischer, J. E. Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 1197.
12. Polenta, L.; Rossi, M.; Cavallini, A.; Calarco, R.; Marso, M.; Meijers, R.; Richter, T.; Stoica, T.; Lüth, H. ACS Nano 2008, 2, 287.
13. Beaumont, B.; Vennéguès, Ph.; Gibart, P. Phys. Status Solidi B 2001, 227, 1.
14. Zubia, D.; Zaidi, S. H.; Brueck, S. R. J.; Hersee, S. D. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 858.
15. Zang, K. Y.; Wang, Y. D.; Chua, S. J.; Wang, L. S. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 193106.
16. Riemann, T.; Hempel, T.; Christen, J.; Veit, P.; Clos, R.; Dadgar, A.; Krost, A.; Haboeck, U.; Hoffmann, A. J. Appl. Phys. 2006, 99, 123518.
17. Fang, Z. L.; Li, S. P.; Li, J. C.; Sun, H. Z.; Wang, S. J.; Kang, J. Y. Thin Solid Films 2008, 516, 6344.
18. Li, G.; Chua, S. J.; Xu, S. J.; Wang, W.; Li, P.; Beaumont, B.; Gibart, P. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 2821.
19. Arakawa, Y. IEEE J. Selected Top. Quantum Electron 2002, 8, 823.
20. Huang, Y.; Duan, X. F.; Cui, Y.; Lieber, C. M. Nano Lett. 2002, 2, 101.
21. Kim, H.-M.; Kang, T. W.; Chung, K. S. Adv. Mater. 2003, 15, 567.
22. Johnson, J. C.; Choi, H.-J.; Knutsen, K. P.; Schaller, R. D.; Yang, P. D. Nat. Mater. 2002, 1, 106.
23. Hayden, O.; Agarwal, R.; Lieber, C. M. Nat. Mater. 2006, 5, 352.
24. Rizzi, A.; Lüth, H. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2002, 75, 69.
25. Lee, C.-T.; Lin, C.-C.; Lee, H.-Y.; Chen, P.-S. J. Appl. Phys. 2008, 103, 094504.
26. Derluyn, J.; Boeykens, S.; Cheng, K.; Vandersmissen, R.; Das, J.; Ruythooren, W.; Degroote, S.; Leys, M. R.; Germain, M.; Borghs, G. J. Appl. Phys. 2005, 98, 054501.
27. Kwon, M.-K.; Kim, J.-Y.; Kim, B.-H.; Park, I.-K.; Cho, C.-Y.; Byeon, C. C.; Park, S.-J. Adv. Mater. 2008, 20, 1253.
28. Zheng, H.; Xie, M. H.; Wu, H. S.; Xue, Q. K. Phys. Rev. B 2007, 75, 205310.
29. Fang, Z. L.; Kang, J. Y. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 7889.
30. Fang, Z. L.; Kang, J. Y.; Huang, W. J.; Sun, H. T.; Lu, M.; Kong, J. F.; Shen, W. Z. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 4925.
31. Oh, E.; Kim, B.; Park, H.; Park, Y. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 1883.
32. Zolper, J. C.; Crawford, M. H.; Howard, A. J.; Ramer, J.; Hersee, S. D. Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 200.
33. Koleske, D. D.; Wickenden, A. E.; Henry, R. L.; Culbertson, J. C.; Twigg, M. E. J. Cryst. Growth 2001, 223, 466.
34. Wang, Z. M.; Liang, B. L.; Sablon, K. A.; Lee, J.; Mazur, Y. I.; Strom, N. W.; Salamo, G. J. Small 2007, 3, 235.
35. Moulder, J. F.; Stickle, W. F.; Sobol, P. E.; Bomben, K. D. Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy: A Reference Book of Standard Spectra for Identification and Interpretation of XPS Data; Physical Electronics: Perkin-Elmer Corp.: Eden Prairie, MN, 1995..
36. Koleske, D. D.; Wickenden, A. E.; Henry, R. L.; Twigg, M. E. J. Cryst. Growth 2002, 242, 55.
37. Neugebauer, J.; Van de Walle, C. G. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 503.