Vapor phase self-assembly of molecular gate dielectrics for thin film transistors

Journal of the American Chemical Society

Volumn 130, Issue 24, 2008, Pages 7528-7529

  DiBenedetto, Sara A ^a   Frattarelli, David ^a   Ratner, Mark A ^a   Facchetti, Antonio ^a   Marks, Tobin J ^a  

^a NORTHWESTERN UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

HYDROGEN;

ARTICLE; CHEMICAL STRUCTURE; CRYSTAL STRUCTURE; DENSITY FUNCTIONAL THEORY; DIELECTRIC CONSTANT; ELECTRIC POTENTIAL; FILM; GEOMETRY; HYDROGEN BOND; SEMICONDUCTOR; VAPOR;

EID: 45249101747     PISSN: 00027863     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja801309g     Document Type: Article

References (39)

1. (a) Katz, H. E.; Hong, M.; Dodabalapur, A. J. Appl. Phys. 2002, 91, 1572.
2. (b) Podzorov, V.; Pudalov, V. M.; Gershenson, M. E. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1739.
3. (c) Majewski, L. A.; Schroeder, R.; Grell, M. J. Phys. D: Appl. Phys. 2004, 37, 21.
4. (d) Park, Y. D.; Kim, D. H.; Jang, Y.; Hwang, M.; Lim, A. L.; Cho, K. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 243509.
5. (e) Yang, S. Y.; Kim, S. H.; Shin, K.; Jeon, H.; Park, C. E. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 173507.
6. (f) Onoue, T.; Nakamura, I.; Sakabe, Y.; Yasuda, T.; Tsutsui, T. Jpn. Soc. Appl. Phys. 2006, 45, L770.
7. (g) Singh, B.; Sariciftci, N. S. J. Appl. Phys. 2006, 100, 024514.
8. (h) Klauk, H.; Zschieschang, U.; Pflaum, J.; Halik, M. Nature 2006, 445, 745.
9. (i) McDowell, M.; Hill, I. G.; McDermott, J. E.; Bernasek, S. L.; Schwartz, J. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 073505.
10. (j) Kim, C. S.; Jin, S.; Lee, S. W.; Kim, W. J.; Bail, H. K.; Lee, S. J.; Hwang, D. K.; Im, S. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 243515.
11. (k) Jeong, Y. T.; Dodabalapur, A. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 193509.
12. (l) Lee, J.; Panzer, M. J.; He, Y.; Lodge, T. P.; Frisbie, C. D. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 4532.
13. Devine, R. A. B.; Busani, T. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 062902.
14. (a) Veres, J.; Ogier, S.; Lloyd, G.; de Leeuw, D. Chem. Mater. 2004, 16, 4543.
15. (b) Weitz, R. T.; Zschieschang, U.; Effenberger, F.; Klauk, H.; Burghard, M.; Kern, K. Nano. Lett. 2007, 7, 22.
16. (c) Collet, J.; Tharaud, O.; Chapoton, A.; Vuillaume, D. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 1941.
17. (a) Yoon, M.-H.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A. 2005, 102, 4678.
18. (b) Ju, S.; Lee, K.; Janes, D. B.; Yoon, M.-H.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Nano. Lett. 2005, 5, 2281.
19. (c) Hur, S.-H.; Yoon, M.-H.; Gaur, A.; Facchetti, A.; Marks, T. J.; Rogers, J. A. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 13808.
20. (d) Ju, S.; Lee, K.; Yoon, M.-H.; Facchetti, A.; Marks, T. J.; Janes, D. B. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 073510.
21. (e) Ju, S.; Lee, K.; Yoon, M.-H.; Facchetti, A.; Marks, T. J.; Janes, D. B. Nanotechnol. 2007, 18, 155201.
22. (f) Lin, H. C.; Ye, P. D.; Xuan, Y.; Lu, G.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 14210.
23. (g) Ju, S.; Janes, D. B.; Lu, G.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 193506.
24. (h) Wang, L.; Yoon, M.-H.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Adv. Mater. 2007, 19, 3252.
25. Keinan, S.; Ratner, M. A.; Marks, T. J. Chem. Phys. Lett. 2006, 417, 293.
26. (a) Rohleder, J. W.; Munn, R. W. Magnetism and Optics of Molecular Crystals; Wiley: New York, 1992.
27. (b) Yamada, K.; Saiki, A.; Sakaue, H.; Shingubara, S.; Takahagi, T. Jpn. J. Appl. Phys. 2001, 40, 4829.
28. 3 (ref 7c).
29. (b) Roscoe, S. B.; Yitzchaik, S.; Kakkar, A. K.; Marks, T. J.; Xu, Z.; Zhang, T.; Lin, W.; Wong, G. K. Langmuir 1996, 12, 5338.
30. (c) Choubey, A.; Kwon, O.-P.; Jazbinsek, M.; Günter, P. Cryst. Growth Des. 2007, 7, 402.
31. Kim, C.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Adv. Mater. 2007, 19, 2561.
32. Steudel, S.; Vusser, S. D.; Jonge, S. D.; Janssen, D.; Verlaak, S.; Genoe, J.; Heremans, P. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4400.
33. (a) McBrayer, J. D.; Swanson, R. M.; Sigmon, T. W. J. Electrochem. Soc. 1986, 133, 1242.
34. (b) Huntley, F. A.; Willoughby, A. F. W. Solid-State Electron. 1970, 14, 641.
35. (c) Bal, J. K.; Hazra, S. Phys. Rev. B 2007, 75, 205411.
36. (d) Dubois, G.; Volksen, W.; Magbitang, T.; Miller, R. D.; Gage, D. M.; Dauskardt, R. H. Adv. Mater. 2007, 19, 3989.
37. Newman, C. R.; Frisbie, C. D.; da Silva Filho, D. A.; Bredas, J.-L.; Ewbank, P. C.; Mann, K. R. Chem. Mater. 2004, 16, 4436.
38. (a) Yang, H.; Shin, T. J.; Ling, M.-M.; Cho, K.; Ryu, C. Y.; Bao, Z. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 11542.
39. (b) Kim, C.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Science 2007, 318, 76.