-
1
-
-
2642514143
-
-
Avouris, P.; Appenzeller, J.; Martel, R.; Wind, S. J. Proc. IEEE 2003, 91 (11), 1772-1784.
-
(2003)
Proc. IEEE
, vol.91
, Issue.11
, pp. 1772-1784
-
-
Avouris, P.1
Appenzeller, J.2
Martel, R.3
Wind, S.J.4
-
2
-
-
0035834444
-
-
Bachtold, A.; Hadley, P.; Nakanishi, T.; Dekker, C. Science 2001, 294 (5545), 1317-1320.
-
(2001)
Science
, vol.294
, Issue.5545
, pp. 1317-1320
-
-
Bachtold, A.1
Hadley, P.2
Nakanishi, T.3
Dekker, C.4
-
3
-
-
33645411647
-
-
Lu, Y.; Bangsaruntip, S.; Wang, X.; Zhang, L.; Nishi, Y.; Dai, H. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128 (11), 3518-3519.
-
(2006)
J. Am. Chem. Soc
, vol.128
, Issue.11
, pp. 3518-3519
-
-
Lu, Y.1
Bangsaruntip, S.2
Wang, X.3
Zhang, L.4
Nishi, Y.5
Dai, H.6
-
4
-
-
0036974829
-
-
Javey, A.; Kim, H.; Brink, M.; Wang, Q.; Ural, A.; Quo, J.; MeIntyre, P.; McEuen, P.; Lundstrom, M.; Dai, H. J. Nat. Mater. 2002, 1 (4), 241-246.
-
(2002)
J. Nat. Mater
, vol.1
, Issue.4
, pp. 241-246
-
-
Javey, A.1
Kim, H.2
Brink, M.3
Wang, Q.4
Ural, A.5
Quo, J.6
MeIntyre, P.7
McEuen, P.8
Lundstrom, M.9
Dai, H.10
-
5
-
-
0042948502
-
-
Kim, W.; Javey, A.; Vermesh, O.; Wang, Q.; Li, Y.; Dai, H. Nano Lett. 2003, 3 (2), 193-198.
-
(2003)
Nano Lett
, vol.3
, Issue.2
, pp. 193-198
-
-
Kim, W.1
Javey, A.2
Vermesh, O.3
Wang, Q.4
Li, Y.5
Dai, H.6
-
6
-
-
26444528902
-
-
Hur, S. H.; Yoon, M. H.; Gaur, A.; Shim, M.; Facchetti, A.; Marks, T. J.; Rogers, J. A. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127(40), 13808-13809.
-
(2005)
J. Am. Chem. Soc
, vol.127
, Issue.40
, pp. 13808-13809
-
-
Hur, S.H.1
Yoon, M.H.2
Gaur, A.3
Shim, M.4
Facchetti, A.5
Marks, T.J.6
Rogers, J.A.7
-
7
-
-
0031140867
-
-
Lo, S. H.; Buchanan, D. A.; Taur, Y.; Wang, W. IEEE Electron Device Lett. 1997, 18 (5), 209-211.
-
(1997)
IEEE Electron Device Lett
, vol.18
, Issue.5
, pp. 209-211
-
-
Lo, S.H.1
Buchanan, D.A.2
Taur, Y.3
Wang, W.4
-
8
-
-
7244254578
-
-
Halik, M.; Klauk, H.; Zschieschang, U.; Schmid, G.; Dehm, C.; Schutz, M.; Maisch, S.; Effenberger, F.; Brunnbauer, M.; Stellacci, F. Nature 2004, 431 (7011), 963-966.
-
(2004)
Nature
, vol.431
, Issue.7011
, pp. 963-966
-
-
Halik, M.1
Klauk, H.2
Zschieschang, U.3
Schmid, G.4
Dehm, C.5
Schutz, M.6
Maisch, S.7
Effenberger, F.8
Brunnbauer, M.9
Stellacci, F.10
-
9
-
-
21644437891
-
International Electron Devices Meet
-
Klauk, H.; Halik, M.; Eder, F.; Schmid, G.; Dehm, C.; Zschieschang, U.; Rohde, D.; Brederlow, R.; Briole, S.; Maisch, S.; Effenberger, F. 2004 International Electron Devices Meet., Tech. Dig. 2004, 369-372.
-
(2004)
Tech. Dig
, vol.2004
, pp. 369-372
-
-
Klauk, H.1
Halik, M.2
Eder, F.3
Schmid, G.4
Dehm, C.5
Zschieschang, U.6
Rohde, D.7
Brederlow, R.8
Briole, S.9
Maisch, S.10
Effenberger, F.11
-
10
-
-
0001670402
-
-
Collet, J.; Tharaud, O.; Chapoton, A.; Vuillaume, D. Appl. Phys. Lett. 2000, 76 (14), 1941-1943.
-
(2000)
Appl. Phys. Lett
, vol.76
, Issue.14
, pp. 1941-1943
-
-
Collet, J.1
Tharaud, O.2
Chapoton, A.3
Vuillaume, D.4
-
12
-
-
7544228907
-
-
Boulas, C.; Davidovits, J. V.; Rondelez, F.; Vuillaume, D. Phys. Rev. Lett. 1996, 76 (25), 4797-4800.
-
(1996)
Phys. Rev. Lett
, vol.76
, Issue.25
, pp. 4797-4800
-
-
Boulas, C.1
Davidovits, J.V.2
Rondelez, F.3
Vuillaume, D.4
-
13
-
-
25144455412
-
-
Rittner, M.; Martin-Gonzalez, M. S.; Flores, A.; Schweizer, H.; Effenberger, F.; Pilkuhn, M. H. J. Appl. Phys. 2005, 98 (5), 054312.
-
(2005)
J. Appl. Phys
, vol.98
, Issue.5
, pp. 054312
-
-
Rittner, M.1
Martin-Gonzalez, M.S.2
Flores, A.3
Schweizer, H.4
Effenberger, F.5
Pilkuhn, M.H.6
-
14
-
-
1542544990
-
-
de Boer, B.; Frank, M. M.; Chabal, Y. J.; Jiang, W. R.; Garfunkel, E.; Bao, Z. Langmuir 2004, 20 (5), 1539-1542.
-
(2004)
Langmuir
, vol.20
, Issue.5
, pp. 1539-1542
-
-
de Boer, B.1
Frank, M.M.2
Chabal, Y.J.3
Jiang, W.R.4
Garfunkel, E.5
Bao, Z.6
-
15
-
-
0036026344
-
-
Zharnikov, M.; Grunze, M. J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct. 2002, 20 (5), 1793-1807.
-
(2002)
J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct
, vol.20
, Issue.5
, pp. 1793-1807
-
-
Zharnikov, M.1
Grunze, M.2
-
16
-
-
15344342448
-
-
Tan, Z. Y.; Xia, Y. Y.; Liu, X. D.; Zhao, M. W. Microelectron. Eng. 2005, 77 (3-4), 285-291.
-
(2005)
Microelectron. Eng
, vol.77
, Issue.3-4
, pp. 285-291
-
-
Tan, Z.Y.1
Xia, Y.Y.2
Liu, X.D.3
Zhao, M.W.4
-
17
-
-
0037120521
-
-
Appenzeller, J.; Knoch, J.; Derycke, V.; Martel, R.; Wind, S.; Avouris, P. Phys. Rev. Lett. 2002, 89 (12), 126801.
-
(2002)
Phys. Rev. Lett
, vol.89
, Issue.12
, pp. 126801
-
-
Appenzeller, J.1
Knoch, J.2
Derycke, V.3
Martel, R.4
Wind, S.5
Avouris, P.6
-
19
-
-
4143096759
-
-
Javey, A.; Guo, J.; Farmer, D. B.; Wang, Q.; Yenilmez, E.; Gordon, R. G.; Lundstrom, M.; Dai, H. Nano Lett. 2004, 4 (7), 1319-1322.
-
(2004)
Nano Lett
, vol.4
, Issue.7
, pp. 1319-1322
-
-
Javey, A.1
Guo, J.2
Farmer, D.B.3
Wang, Q.4
Yenilmez, E.5
Gordon, R.G.6
Lundstrom, M.7
Dai, H.8
-
20
-
-
0042991275
-
-
Javey, A.; Guo, J.; Wang, Q.; Lundstrom, M.; Dai, H. J. Nature 2003, 424 (6949), 654-657.
-
(2003)
Nature
, vol.424
, Issue.6949
, pp. 654-657
-
-
Javey, A.1
Guo, J.2
Wang, Q.3
Lundstrom, M.4
Dai, H.J.5
-
21
-
-
33645154057
-
-
Yang, M. H.; Teo, K. B. K.; Gangloff, L.; Milne, W. I.; Hasko, D. G.; Robert, Y.; Legagneux, P. Appl. Phys. Lett. 2006, 88 (11).
-
(2006)
Appl. Phys. Lett
, vol.88
, Issue.11
-
-
Yang, M.H.1
Teo, K.B.K.2
Gangloff, L.3
Milne, W.I.4
Hasko, D.G.5
Robert, Y.6
Legagneux, P.7
-
22
-
-
0142090023
-
-
Radosavljevic, M.; Heinze, S.; Tersot'f, J.; Avouris, P. Appl. Phys. Lett. 2003, 83 (12), 2435-2437.
-
(2003)
Appl. Phys. Lett
, vol.83
, Issue.12
, pp. 2435-2437
-
-
Radosavljevic, M.1
Heinze, S.2
Tersot'f, J.3
Avouris, P.4
-
23
-
-
14744272771
-
-
Javey, A.; Tu, R.; Farmer, D. B.; Guo J.; Gordon, R. G.; Dai, H. Nano Lett. 2005, 5 (2), 345-348.
-
(2005)
Nano Lett
, vol.5
, Issue.2
, pp. 345-348
-
-
Javey, A.1
Tu, R.2
Farmer, D.B.3
Guo, J.4
Gordon, R.G.5
Dai, H.6
-
24
-
-
2342576181
-
-
Lu, C.; Fu, Q.; Huang, S.; Liu, J. Nano Lett. 2004, 4 (4), 623-627.
-
(2004)
Nano Lett
, vol.4
, Issue.4
, pp. 623-627
-
-
Lu, C.1
Fu, Q.2
Huang, S.3
Liu, J.4
-
25
-
-
2642587135
-
-
Siddons, G. P.; Merchin, D.; Back, J. H.; Jeong, J. K.; Shim, M. Nano Lett. 2004, 4 (5), 927-931.
-
(2004)
Nano Lett
, vol.4
, Issue.5
, pp. 927-931
-
-
Siddons, G.P.1
Merchin, D.2
Back, J.H.3
Jeong, J.K.4
Shim, M.5
-
26
-
-
26644474574
-
-
Lin, Y. M.; Appenzeller, J.; Knoch, J.; Avouris, P. IEEE Trans. Nanotechnol. 2005, 4 (5), 481-489.
-
(2005)
IEEE Trans. Nanotechnol
, vol.4
, Issue.5
, pp. 481-489
-
-
Lin, Y.M.1
Appenzeller, J.2
Knoch, J.3
Avouris, P.4
-
27
-
-
17944378392
-
-
Chen, J.; Klinke, C.; Afzali, A.; Avouris, P. Appl. Phys. Lett. 2005, 86 (12), 123108.
-
(2005)
Appl. Phys. Lett
, vol.86
, Issue.12
, pp. 123108
-
-
Chen, J.1
Klinke, C.2
Afzali, A.3
Avouris, P.4
-
29
-
-
0027735508
-
-
Rolland, A.; Richard, J.; Kleiderer, J. P.; Mencaraglia, D. J. Electrochem. Soc. 1993,140 (12), 3679-3683.
-
(1993)
J. Electrochem. Soc
, vol.140
, Issue.12
, pp. 3679-3683
-
-
Rolland, A.1
Richard, J.2
Kleiderer, J.P.3
Mencaraglia, D.4
-
30
-
-
0001074022
-
-
Fuhrer, M. S.; Kim, B. M.; Durkop, T.; Brintlinger, T. Nano Lett. 2002, 2 (7), 755-759.
-
(2002)
Nano Lett
, vol.2
, Issue.7
, pp. 755-759
-
-
Fuhrer, M.S.1
Kim, B.M.2
Durkop, T.3
Brintlinger, T.4
-
31
-
-
79956031341
-
-
Cui, J. B.; Sordan, R.; Burghard, M.; Kern, K. Appl. Phys. Lett. 2002, 81 (17), 3260-3262.
-
(2002)
Appl. Phys. Lett
, vol.81
, Issue.17
, pp. 3260-3262
-
-
Cui, J.B.1
Sordan, R.2
Burghard, M.3
Kern, K.4
-
32
-
-
0000680281
-
-
Radosavljevic, M.; Freitag, M.; Thadani, K. V.; Johnson, A. T. Nano Lett. 2002, 2 (7), 761-764.
-
(2002)
Nano Lett
, vol.2
, Issue.7
, pp. 761-764
-
-
Radosavljevic, M.1
Freitag, M.2
Thadani, K.V.3
Johnson, A.T.4
|