Aluminum-nitride codoped zinc oxide films prepared using a radio-frequency magnetron cosputtering system

Journal of Applied Physics

Volumn 102, Issue 3, 2007, Pages

  Liu, Day Shan ^a   Sheu, Chia Sheng ^a   Lee, Ching Ting ^b  

^a NATIONAL FORMOSA UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALUMINUM COMPOUNDS; CHEMICAL BONDS; DOPING (ADDITIVES); MAGNETRON SPUTTERING; PHOTOLUMINESCENCE; THIN FILMS;

ATOMIC RATIOS; CRYSTALLINE STRUCTURE; MAGNETRON COSPUTTERING SYSTEMS; SHALLOW LEVEL TRANSITION;

ZINC OXIDE;

EID: 34548028748     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2768010     Document Type: Article

References (40)

1. Z. K. Tang, G. K. L. Wong, P. Yu, M. Kawasaki, A. Ohtomo, H. Koinuma, and Y. Segawa, Appl. Phys. Lett. 72, 3270 (1998).
2. A. Mitra and R. K. Thareja, J. Appl. Phys. 89, 2025 (2001).
3. Y. I. Alivov, E. V. Kalinina, A. E. Cherenkov, D. C. Look, B. M. Ataev, A. K. Omaev, M. V. Chukichev, and D. M. Bagnall, Appl. Phys. Lett. 83, 4719 (2003).
4. W. Liu, Appl. Phys. Lett. 88, 092101 (2006).
5. B. S. Li, J. Mater. Res. 18, 8 (2003).
6. C. C. Lin, S. Y. Chen, S. Y. Cheng, and H. Y. Lee, Appl. Phys. Lett. 84, 5040 (2004).
7. D. C. Look, G. M. Renlund, R. H. Burgener II, and J. R. Sizelove, Appl. Phys. Lett. 85, 5269 (2004).
8. V. Vaithianathan, B. T. Lee, and S. S. Kim, J. Appl. Phys. 98, 043519 (2005).
9. Y. Nakano, T. Morikawa, T. Ohwaki, and Y. Taga, Appl. Phys. Lett. 88, 172103 (2006).
10. F. X. Xiu, Z. Yang, L. J. Mandalapu, J. L. Liu, and W. P. Beyermann, Appl. Phys. Lett. 88, 052106 (2006).
11. Y. J. Zeng, Appl. Phys. Lett. 88, 262103 (2006).
12. G. Du, Y. Ma, Y. Zhang, and T. Yang, Appl. Phys. Lett. 87, 213103 (2005).
13. J. L. Zhao, X. M. Li, J. M. Bian, W. D. Yu, and C. Y. Zhang, J. Cryst. Growth 280, 495 (2005).
14. Z. Xiao, Y. Liu, J. Zhang, D. Zhao, Y. Lu, D. Shen, and X. Fan, Semicond. Sci. Technol. 20, 796 (2005).
15. J. G. Lu, Y. Z. Zhang, Z. Z. Ye, L. P. Zhu, L. Wang, B. H. Zhao, and Q. L. Liang, Appl. Phys. Lett. 88, 222114 (2006).
16. C. Wang, Z. Ji, K. Liu, Y. Xiang, and Z. Ye, J. Cryst. Growth 259, 279 (2003).
17. M. L. Tu, Y. K. Su, and C. Y. Ma, J. Appl. Phys. 100, 053705 (2006).
18. M. Futsuhara, K. Yoshioka, and O. Takai, Thin Solid Films 322, 274 (1998).
19. E. Kaminska, Phys. Status Solidi C 2, 1119 (2005).
20. A. V. Singh, R. M. Mehra, A. Wakahara, and A. Yoshida, J. Appl. Phys. 93, 396 (2003).
21. J. M. Bian, X. M. Li, X. D. Gao, W. D. Yu, and L. D. Chen, Appl. Phys. Lett. 84, 541 (2004).
22. F. Zhuge, J. Cryst. Growth 268, 163 (2004).
23. F. Zhuge, Appl. Phys. Lett. 87, 092103 (2005).
24. D. S. Liu, C. C. Wu, and C. T. Lee, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 44, 5119 (2005).
25. D. S. Liu, C. H. Lin, F. C. Tsai, and C. C. Wu, J. Vac. Sci. Technol. A 24, 694 (2006).
26. C. R. Aita, R. J. Lad, and T. C. Tisone, J. Appl. Phys. 51, 6405 (1980).
27. T. Yamamoto and H. K. Yoshida, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 38, L166 (1999).
28. G. W. Cong, Appl. Phys. Lett. 88, 062110 (2006).
29. Y. M. Lu, W. S. Hwang, W. Y. Liu, and J. S. Yang, Mater. Chem. Phys. 72, 269 (2001).
30. E. C. Lee, Y. S. Kim, Y. G. Jin, and K. J. Chang, Phys. Rev. B 64, 085120 (2001).
31. X. L. Wu, G. G. Siu, C. L. Fu, and H. C. Ong, Appl. Phys. Lett. 78, 2285 (2001).
32. B. Lin, Z. Fu, Y. Jia, and G. Liao, J. Electrochem. Soc. 148, G110 (2001).
33. Y. G. Wang, S. P. Lau, H. W. Lee, S. F. Yu, B. K. Tay, X. H. Zhang, and H. H. Hng, J. Appl. Phys. 94, 354 (2003).
34. J. G. Lu, L. P. Zhu, Z. Z. Ye, F. Zhuge, B. H. Zhao, J. Y. Huang, L. Wang, and J. Yuan, J. Cryst. Growth 283, 413 (2005).
35. U. Ozgur, J. Appl. Phys. 98, 041301 (2005).
36. Y. M. Chung, C. S. Moon, M. J. Jung, and J. G. Han, Surf. Coat. Technol. 200, 936 (2005).
37. F. Zong, H. Ma, C. Xue, H. Zhuang, X. Zhang, H. Xiao, J. Ma, and F. Ji, Solid State Commun. 132, 521 (2004).
38. H. Maki, I. Sakaguchi, N. Ohashi, S. Sekiguchi, H. Haneda, J. Tanaka, and N. Ichinose, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 42, 75 (2003).
39. Y. F. Mei, R. K. Y. Fu, G. G. Siu, K. W. Wong, P. K. Chu, R. S. Wang, and H. C. Ong, Appl. Surf. Sci. 252, 8131 (2006).
40. S. U. Yuldashev, G. N. Panin, T. W. Kang, R. A. Nusretov, and I. V. Khvan, J. Appl. Phys. 100, 013704 (2006).