Comparison of surface reactivity of CN, NH, and N H2 radicals during deposition of amorphous carbon nitride films from inductively coupled rf plasmas

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 25, Issue 2, 2007, Pages 368-377

  Liu, Dongping ^a,b   Fisher, Ellen R ^a  

^a Department of Ecosystem Science and Sustainability   (United States)

^b DALIAN NATIONALITIES UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

GAS COMPOSITIONS; GAS-SURFACE INTERFACE;

AMORPHOUS CARBON; AMORPHOUS FILMS; FREE RADICALS; ION BOMBARDMENT; PLASMAS; SCATTERING;

CARBON NITRIDE;

EID: 34248589908     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.2699216     Document Type: Article

References (43)

1. J. Robertson, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 659 (1999).
2. H. Cachet, C. Deslouis, M. Chouiki, B. Saidani, N. M. J. Conway, and C. Godet, J. Electrochem. Soc. 149, E233 (2002).
3. P. Hammer, N. M. Victoria, and F. Alvarez, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2941 (1998).
4. J. H. Kim, D. H. Ahn, Y. H. Kim, and H. K. Baik, J. Appl. Phys. 82, 658 (1997).
5. B. Bouchet-Fabre, C. Godet, M. Lacerda, S. Charvet, K. Zellama, and D. J. Ballutaud, J. Appl. Phys. 95, 3427 (2004).
6. A. Y. Liu and M. L. Cohen, Science 245, 841 (1989).
7. J. Wei, J. Appl. Phys. 92, 6525 (2002).
8. D. Li, S. Lopez, Y. W. Chung, M. S. Wong, and W. D. Sproul, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 1063 (1995).
9. G. Soto, E. C. Samano, R. Machorro, M. H. Rarias, and M. L. Cota-Araiza, Appl. Surf. Sci. 183, 246 (2001).
10. Z. Y. Chen, J. P. Zhao, T. Yano, T. Shinozaki, and T. Ooie, J. Vac. Sci. Technol. A 20, 1639 (2002).
11. F. L. Freire, Jr., C. A. Achete, G. Mariotto, and R. J. Canteri, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 3048 (1994).
12. J. Schwan, W. Dworschak, K. Jung, and H. Ehrhardt, Diamond Relat. Mater. 3, 1034 (1994).
13. S. E. Rodil, A. C. Ferrari, J. Robertson, and W. I. J. Milne, J. Appl. Phys. 89, 5425 (2001).
14. C. Godet, N. M. J. Conway, J. E. Bouree, and K. Bouamra, J. Appl. Phys. 91, 4154 (2002).
15. M. Zhang, Y. Nakayama, T. Miyazaki, and M. Kume, J. Appl. Phys. 85, 2904 (1999).
16. D. Liu, J. Zhou, and E. R. Fisher, J. Appl. Phys. 101, 023304 (2007).
17. H. Ito, H. Miki, K. C. Namiki, H. Ito, and H. Saitoh, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 487 (2004).
18. P. Ho, W. G. Breiland, and R. J. Buss, J. Chem. Phys. 91, 2627 (1989).
19. P. R. Mccurdy, K. H. A. Bogart, N. F. Dalleska, and E. R. Fisher, Rev. Sci. Instrum. 68, 1684 (1997).
20. W. M. M. Kessels, P. R. Mccurdy, K. L. Williams, G. R. Barker, V. A. Venturo, and E. R. Fisher, J. Phys. Chem. B 106, 2680 (2002).
21. G. Dinescu, A. de Graaf, E. Aldea, and M. C. M. van de Sanden, Plasma Sources Sci. Technol. 10, 513 (2001).
22. P. R. Mccurdy, C. I. Butoi, K. L. Williams, and E. R. Fisher, J. Phys. Chem. B 103, 6919 (1999).
23. C. I. Butoi, M. L. Steen, J. R. D. Peers, and E. R. Fisher, J. Phys. Chem. B 105, 5957 (2001).
24. M. L. Steen, K. R. Kull, and E. R. Fisher, J. Appl. Phys. 92, 55 (2002).
25. E. R. Fisher, P. Ho, W. G. Breiland, and R. J. Buss, J. Chem. Phys. 96, 9857 (1992).
26. D. Liu, I. T. Martin, J. Zhou, and E. R. Fisher, Pure Appl. Chem. 78, 1187 (2006).
27. P. R. Mccurdy, V. A. Venturo, and E. R. Fisher, Chem. Phys. Lett. 274, 120 (1997).
28. K. H. A. Bogart, J. P. Cushing, and E. R. Fisher, J. Phys. Chem. B 101, 10016 (1997).
29. J. Zhou, I. T. Martin, R. Ayers, E. Adams, D. Liu, and E. R. Fisher, Plasma Sources Sci. Technol. 15, 714 (2006).
30. I. T. Martin and E. R. Fisher, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 2168 (2004).
31. K. L. Williams, C. I. Butoi, and E. R. Fisher, J. Vac. Sci. Technol. A 21, 1688 (2003).
32. N. Mutsukura, K. Kobayashi, and Y. Machi, J. Appl. Phys. 66, 4688 (1989).
33. S. Yonemura, K. Nanbu, and N. Iwata, J. Appl. Phys. 96, 127 (2004).
34. Z. L. Petrovi, F. Tochikubo, S. Kakuta, and T. Makabe, J. Appl. Phys. 73, 2163 (1993).
35. A. Crowe and J. W. McConkey, Int. J. Mass Spectrom. Ion Phys. 24, 181 (1997).
36. H. Bubert and F. W. Froben, J. Chem. Phys. 75, 769 (1971).
37. H. D. Morgan and J. E. Mentall, J. Chem. Phys. 60, 4734 (1974).
38. A. K. Shukla and J. H. Futrell, Mass Spectrom. Rev. 12, 211 (1993).
39. A. von Keudell, M. Meier, and T. Schwarz-Selinger, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 72, 551 (2001).
40. J. Kuppers, Surf. Sci. Rep. 22, 250 (1995).
41. D. Liu, G. Benstetter, E. Lodermeier, X. Chen, J. Ding, Y. Liu, J. Zhang, and T. Ma, Diamond Relat. Mater. 12, 1594 (2003).
42. F. Seitz and D. Turnbull, Solid State Phys. 2, 305 (1956).
43. D. Liu, J. Zhang, Y. Liu, J. Xu, and G. Benstetter, J. Appl. Phys. 97, 104901 (2005).