Growth of amorphous hydrogenated carbon nitride films in radio-frequency plasma

Journal of Applied Physics

Volumn 85, Issue 5, 1999, Pages 2904-2908

  Zhang, Mei ^a   Nakayama, Yoshikazu ^a   Miyazaki, Tsutomu ^a   Kume, Masato ^a  

^a Osaka Prefecture University   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000536892     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.369055     Document Type: Article

References (24)

1. A. Y. Liu and M. L. Cohen, Science 245, 841 (1989).
2. C. J. Torn, J. M. Silverstein, J. H. Judy, and C. Chang, J. Mater. Res. 5, 2490 (1993).
3. T. Okada, S. Yamada, Y. Takeuchi, and T. Wada, J. Appl. Phys. 78, 7416 (1995).
4. F. L. Freire, Jr., D. F. Franceschini, and C. A. Achete, Phys. Status Solidi B 192, 493 (1995).
5. M. Y. Chen, D. Lin, X. Lin, V. P. David, Y. W. Chung, M. S. Wong, and W. D. Sproul, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 521 (1993).
6. C. Niu, Y. Z. Lu, and C. M. Lieber, Science 261, 335 (1993).
7. M. Y. Chen and P. T. Murray, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2093 (1998).
8. F. Fujimoto and K. Ogata, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 32, L420 (1993).
9. K. J. Boyd, D. Marton, S. S. Todorov, A. H. Al-Bayati, J. Kulik, R. A. Zuhr, and J. W. Rabalais, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 2110 (1995).
10. L. C. Chen, T. R. Lu, C. T. Kuo, D. M. Bhusari, J. J. Wu, K. H. Chen, and T. M. Chen, Appl. Phys. Lett. 72, 3449 (1998).
11. H. P. Xin, C. L. Lin, W. P. Xu, L. W. Wang, S. C. Zou, X. L. Wu, X. H. Shi, and H. Zhu, J. Appl. Phys. 79, 2364 (1996).
12. S. Bhattacharyya, C. Cardinaud, and G. Turban, J. Appl. Phys. 83, 4491 (1998).
13. J. H. Kim, D. H. Ahn, Y. H. Kim, and H. K. Baik, J. Appl. Phys. 82, 658 (1997).
14. S. R. P. Silva, J. Robertson, G. A. J. Amaratunga, B. Rafferty, L. M. Brown, J. Schwan, D. F. Franceschini, and G. Mariotto, J. Appl. Phys. 81, 2626 (1997).
15. M. Zhang, P. Wang, and Y. Nakayama, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 4893 (1997).
16. K. J. Clay, S. P. Speakman, G. A. J. Amaratunga, and S. R. P. Silva, J. Appl. Phys. 79, 7227 (1996).
17. A. Mansour and D. Ugolini, Phys. Rev. B 47, 10201 (1993).
18. H. Kinoshita and A. Yamauchi, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 1933 (1996).
19. P. Kae-Nune, J. Perrin, J. Guillon, and J. Jolly, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 251 (1995).
20. R. W. B. Pearse and A. G. Gaydon, The Indentification of Molecular Spectra (Wiley, New York, 1976).
21. O. Amir and R. Kalish, J. Appl. Phys. 70, 4958 (1991).
22. M. Zhang, L. Pan, T. Miyazaki, and Y. Nakayama, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 4897 (1997).
23. J. Robertson and E. P. O'Reilly, Phys. Rev. B 35, 2946 (1987).
24. F. Demichelis, Y. C. Liu, X. F. Rong, S. Schreiter, and A. Tagliferro, Solid State Commun. 95, 475 (1995).