Effects of N2 addition on chemical dry etching of silicon oxide layers in F2/N2/Ar remote plasmas

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 24, Issue 4, 2006, Pages 1380-1385

  Hwang, J Y ^b   Kim, D J ^b   Lee, N E ^b   Jang, Y C ^a   Bae, G H ^a  

^a Atto   (South Korea)

^b NONE

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DRY ETCHING; LIGHT EMISSION; NITROGEN; PLASMA ETCHING; REACTION KINETICS; SUBSTRATES;

ETCH RATES; RADICAL DENSITY; SILICON OXIDE LAYERS; SURFACE CHEMICAL REACTION;

SEMICONDUCTING SILICON COMPOUNDS;

EID: 33745507999     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.2206190     Document Type: Article

References (32)

1. J. J. Beulens, B. E. E. Kastenmeier, P. J. Matsuo, and G. S. Oehrlein, Appl. Phys. Lett. 66, 2634 (1995).
2. G. S. Oehrlein, P. J. Matsuo, M. F. Doemling, N. R. Rueger, B. E. E. Kastenmeier, M. Schaepkens, Th. Standaert, and J. J. Beulens, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 193 (1996).
3. P. J. Matsuo, B. E. E. Kastenmeier, J. J. Beulens, and G. S. Oehrlein, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 1801 (1997).
4. P. J. Matsuo, B. E. E. Kastenmeier, G. S. Oehrlein, and J. G. Langan, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2431 (1999).
5. M. G. Blain, T. L. Meisenheimer, and J. E. Stevens, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2151 (1996).
6. B. E. E. Kastenmeier, P. J. Matsuo, J. J. Beulens, and G. S. Oehrlein, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2802 (1996).
7. B. E. E. Kastenmeier, P. J. Matsuo, G. S. Oehrlein, and J. G. Langan, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2047 (1998).
8. M. A. Sobolewski, J. G. Langan, and B. S. Felker, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 173 (1998).
9. W. T. Tsai, H. H. Chen, and W. Y. Hsien, J. Loss Prev. Process Ind. 15, 65 (2002).
10. L. C. Pruette, S. M. Karecki, R. Reif, J. G. Langan, S. A. Rogers, R. J. Ciotti, and B. S. Felker, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 1577 (1998).
11. J. H. Kim, C. H. Oh, N.-E. Lee, and G. Y. Yeom, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 41, 1495 (2002).
12. S. Raoux, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 477 (1999).
13. G. J. Stueber, S. A. Clarke, E. R. Bernstein, S. Raoux, P. Porshnev, and T. Tanaka, J. Phys. Chem. A 107, 7775 (2003).
14. C. C. Allgoos, J. Fluorine Chem. 122, 105 (2003).
15. N. Miki, M. Maeno, K. Maruhashi, Y. Nakagawa, and T. Ohmi, IEEE Trans. Semicond. Manuf. 3, 1 (1990).
16. M. Maeno, Y. Nakagawa, and N. Miki, IEEE Trans. Semicond. Manuf. 5, 107 (1992).
17. C. H. Oh, N.-E. Lee, J. H. Kim, G. Y. Yeom, S. S. Yoon, and T. K. Kwon, Surf. Coat. Technol. 171, 267 (2003).
18. J. H. Kim, C. H. Oh, N.-E. Lee, and G. Y. Yeom, J. Korean Phys. Soc. 42, S800 (2003).
19. D. E. Rosner and H. D. Allendorf, J. Phys. Chem. 75, 308 (1971).
20. B. H. Oh, Surf. Coat. Technol. 146-147, 522 (2001).
21. J. H. Kim, J. W. Bae, C. H. Oh, K. J. Kim, N. E. Lee, and G. Y. Yeom, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 41, 6570 (2002).
22. C. H. Oh, N.-E. Lee, J. H. Kim, G. Y. Yeom, S. S. Yoon, and T. K. Kwon, Thin Solid Films 435, 264 (2003).
23. K. J. Kim, C. H. Oh, N.-E. Lee, J. H. Kim, J. W. Bae, G. Y. Yeom, and S. S. Yoon, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 483 (2004).
24. T. Beppu, Y. Mitsui, K. Sakai, and A. Sekiya, Sixth International Conference on Greenhouse Gas Control Technologies (GHGT-6), Kyoto, Japan, 3 October 2002 (unpublished), p. G5-4.
25. Y. Ohira, Y. Mitsui, T. Takaichi, T. Takase, T. Beppu, and A. Sekiya, ISESH 9th Annual Conference, San Diego, California, 9-13, June 2002 (unpublished).
26. S. C. Kang, J. Y. Hwang, N.-E. Lee, K. S. Joo, and G. H. Bae, J. Vac. Sci. Technol. A 23, 911 (2005).
27. J. G. Langan, S. W. Rynders, B. S. Felker, and S. E. Beck, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2108 (1998).
28. B. E. E. Kastenmeier, P. J. Matsuo, G. S. Oehrlein, R. E. Ellefson, and L. C. Frees, J. Vac. Sci. Technol. A 196, 25 (2001).
29. D. S. Wash and B. L. Doyle, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 161-162, 629 (2000).
30. M. Chayani, H. Caquineau, B. Despax, J. Bandet, and B. Berjoan, Thin Solid Films 471, 53 (2005).
31. A. M. Nguyen and S. P. Murarka, J. Vac. Sci. Technol. B 8, 533 (1990).
32. D. R. Cote, S. V. Nguyen, A. K. Stamper, D. S. Armbrust, D. Tobben, R. A. Conti, and G. Y. Lee, IBM J. Res. Dev. 43, 5 (1999).